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公开(公告)号：WO2010062008A1
公开(公告)日：2010-06-03
申请号：PCT/KR2009/000858
申请日：2009-02-24
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F9/70 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 본 발명은 측정 패턴 구조체, 공정 패턴 구조체, 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법을 제공한다. 이 방법은 하나 이상의 단위 측정 패턴을 포함하는 측정 패턴 구조체를 제공하는 단계, 처리 용기에서 측정 패턴 구조체 상에 배치된 제1 기판을 처리하는 단계, 단위 측정 패턴의 위치에 따른 제1 기판의 균일 처리 영역을 선택하는 단계, 균일 처리 영역에 대응하는 측정 패턴 구조체의 구조를 공정 패턴 구조체에 전사(transfer)하는 단계, 및 단위 공정 패턴을 포함하는 공정 패턴 구조체를 이용하여 처리 용기에서 제2 기판을 처리하는 단계를 포함할 수 있다.
Abstract translation: 本发明提供了测量图案结构，处理图案结构，基板处理装置和基板处理方法。 该方法包括：提供包括至少一个单位测量图案的测量图案结构的步骤; 在处理容器中处理第一衬底的步骤，其中第一衬底布置在测量图案结构上; 根据单位测量图案的位置选择第一基板的均匀处理区域的步骤; 将测量图案结构的构图转印到其中测量图案结构对应于均匀处理区域的处理图案结构的步骤; 以及使用包括单位处理图案的处理图案结构来处理处理容器中的第二基板的步骤。
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公开(公告)号：WO2012077843A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/KR2010/008798
申请日：2010-12-09
CPC classification number: C23C16/44 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J37/32577 , H05H2001/2412
Abstract: 본 발명은 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 용기, 진공 용기의 내부에 배치되고 나란히 연장되는 복수의 접지 전극들, 진공 용기의 내부에 배치되고 접지 전극들 사이에 개재된 전원 전극들, 및 진공 용기의 내부에 배치되고 전원 전극과 접지 전극 사이에 개재된 전극 유전체들을 포함하고, 전원 전극들은 RF 전원에 연결된다.
Abstract translation: 等离子体发生器技术领域本发明涉及一种等离子体发生器，其包括：真空容器; 在真空容器内彼此平行延伸的多个接地电极; 多个电源电极，设置在接地电极之间和真空容器内; 以及设置在电源电极和接地电极之间以及真空容器内的多个电极电介质。 电源电极连接到RF电源。
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公开(公告)号：KR101101176B1
公开(公告)日：2012-01-02
申请号：KR1020110020169
申请日：2011-03-08
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/02
Abstract: 본 발명은 유체 분배 장치 및 유체 분배 방법을 제공한다. 이 방법은 예비 단위 영역들을 포함하는 예비 유체 분배부를 이용하여 기판의 최적 공정 위치를 선택하고, 및 기판의 최적 공정 위치에 대응하는 예비 유체 분배부의 구조를 전사하여 유체 분배부를 제공하는 것을 포함한다. 예비 단위 영역들 각각은 위치에 따라 서로 다른 유량을 공급하는 스플릿 영역들을 포함한다.
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公开(公告)号：KR101094644B1
公开(公告)日：2011-12-20
申请号：KR1020090085700
申请日：2009-09-11
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/3065
Abstract: 본 발명에 따르면, 일면에 플라즈마가 생성되는 복수의 내측홈이 형성된 할로우 캐소드(Hollow cathode), 원뿔 또는 원뿔대 형상을 하고 내측홈에 고정 배치되는 복수의 니들(Needle); 및 할로우 캐소드에 전기적으로 연결되는 전력공급원을 포함하는 플라즈마 발생장치 및 기판 처리장치가 제공된다. 이러한 본 발명에 따르면, 할로우 캐소드 및 할로우 캐소드의 내측홈에 배치된 니들에 의해 할로우 캐소드 효과와 전자 방출 효과가 증대되므로 고밀도의 플라즈마를 제공할 수 있다.
플라즈마, 할로우 캐소드, 니들, 전극, 전력공급원-
公开(公告)号：KR1020110095566A
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：KR1020100015105
申请日：2010-02-19
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/3065 , H01L21/205 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/32596
Abstract: PURPOSE: An electrode structure, a process method using the same, and a process correcting method are provided to supply hole density information for the optimum process by using a hallow cathode discharge with different density according to a position. CONSTITUTION: The shape of a hole is selected by using a preliminary electrode structure with different hole density according to a position(S100). The optimum process position is selected by using a measurement electrode structure with different hole diameters according to the position(S200). A process electrode structure is provided by transferring the diameter of the hole of the measurement electrode structure corresponding to the optimum process position(S300). A process non-uniformity is corrected according to the position by using a process electrode structure(S400).
Abstract translation: 目的：提供电极结构，使用其的处理方法和处理校正方法，以根据位置通过使用具有不同密度的中性阴极放电来提供用于最佳工艺的空穴密度信息。 构成：通过使用根据位置具有不同孔密度的预备电极结构来选择孔的形状（S100）。 通过使用根据位置具有不同孔径的测量电极结构来选择最佳工艺位置（S200）。 通过传送与最佳处理位置对应的测量电极结构的孔的直径来提供处理电极结构（S300）。 通过使用处理电极结构根据位置校正工艺不均匀性（S400）。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020110089120A
公开(公告)日：2011-08-04
申请号：KR1020110066431
申请日：2011-07-05
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/02
CPC classification number: C23C16/45565 , H01J37/32449 , H01L21/67028 , H01L21/67069
Abstract: PURPOSE: A fluid distribution apparatus and a fluid distribution method are provided to supply a spatially uneven flow rate, thereby securing a spatially uniform processing characteristic. CONSTITUTION: A first nozzle board(510) includes first nozzles. A second nozzle board includes second nozzles which have a smaller diameter than the first nozzle and located at one side of the first nozzle board. A guard part(530) is placed around the first nozzle board and second nozzle board in order to provide a buffer space and connected to a fluid supplying line. The first nozzle of the first nozzle board and the second nozzle are placed in order to be connected to each other. The second nozzle includes more than two different diameters depending on the location.
Abstract translation: 目的：提供流体分配装置和流体分配方法以提供空间不均匀的流速，从而确保空间上均匀的处理特性。 构成：第一喷嘴板（510）包括第一喷嘴。 第二喷嘴板包括具有比第一喷嘴更小的直径并且位于第一喷嘴板的一侧的第二喷嘴。 保护部件（530）围绕第一喷嘴板和第二喷嘴板放置，以便提供缓冲空间并连接到流体供应管线。 放置第一喷嘴板和第二喷嘴的第一喷嘴以便彼此连接。 根据位置，第二喷嘴包括多于两个不同的直径。
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公开(公告)号：KR1020110041352A
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：KR1020090098459
申请日：2009-10-15
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/3065 , H01L21/205 , H01L21/66
CPC classification number: H01J37/32935 , H01J37/3211
Abstract: PURPOSE: A measurement pattern structure, an adjustment structure, a substrate processing device, and a substrate processing method are provided to adjust a chamber according to a position by using the measurement pattern structure in contact with a dielectric unit of induced coupled plasma. CONSTITUTION: A substrate(10) is mounted on a substrate holder(110). A dielectric unit(120) is separated from the substrate holder to provide a plasma generation space. An antenna(130) is electrically connected to a power source(20) and supplies ion energy to the substrate by making plasma. A side pattern structure(140) includes a side pattern with a different structure according to a position.
Abstract translation: 目的：提供测量图案结构，调整结构，基板处理装置和基板处理方法，以通过使用与感应耦合等离子体的电介质单元接触的测量图案结构来根据位置来调节室。 构成：衬底（10）安装在衬底保持器（110）上。 电介质单元（120）与衬底保持器分离以提供等离子体产生空间。 天线（130）电连接到电源（20），并通过制造等离子体将离子能量提供给衬底。 侧面图案结构（140）包括根据位置具有不同结构的侧面图案。
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公开(公告)号：KR100978812B1
公开(公告)日：2010-08-30
申请号：KR1020080108383
申请日：2008-11-03
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F9/70 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 본 발명은 측정 패턴 구조체, 공정 패턴 구조체, 기판 처리 장치, 및 기판 처리 방법을 제공한다. 이 방법은 하나 이상의 단위 측정 패턴을 포함하는 측정 패턴 구조체를 제공하는 단계, 처리 용기에서 측정 패턴 구조체 상에 배치된 제1 기판을 처리하는 단계, 단위 측정 패턴의 위치에 따른 제1 기판의 균일 처리 영역을 선택하는 단계, 균일 처리 영역에 대응하는 측정 패턴 구조체의 구조를 공정 패턴 구조체에 전사(transfer)하는 단계, 및 단위 공정 패턴을 포함하는 공정 패턴 구조체를 이용하여 처리 용기에서 제2 기판을 처리하는 단계를 포함할 수 있다.
에너지 인가 구조체, 기판, 공정 불균일성, 공정 균일성, 에너지 전달 효율, 측정 패턴 구조체, 공정 패턴 구조체-
公开(公告)号：KR1020100049281A
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：KR1020080108383
申请日：2008-11-03
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F9/70 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: PURPOSE: A measuring pattern structure, a processing pattern structure, a substrate treatment apparatus and a substrate treatment method are provided to improve the uniformity of a manufacturing process using a non-uniformity which is obtained from the measuring pattern structure. CONSTITUTION: A measuring pattern structure(130) is prepared. The measuring pattern structure is interposed between a first substrate(140) and an energy application structure(110) which applies energy to the first substrate. The first substrate is treated in a treatment container(100). The uniform treatment region of the first substrate is selected based on the measuring pattern structure. The structure and/or the material of the measuring pattern structure which correspond to the uniform treatment region are transferred to a processing pattern structure.
Abstract translation: 目的：提供测量图案结构，处理图案结构，基板处理装置和基板处理方法，以提高使用从测量图案结构获得的不均匀性的制造工艺的均匀性。 构成：准备了测量图案结构（130）。 测量图案结构介于第一基板和施加能量到第一基板的能量施加结构（110）之间。 在处理容器（100）中处理第一衬底。 基于测量图案结构选择第一基板的均匀处理区域。 对应于均匀处理区域的测量图案结构的结构和/或材料被转移到处理图案结构。
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公开(公告)号：KR101197016B1
公开(公告)日：2012-11-06
申请号：KR1020100015105
申请日：2010-02-19
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/3065 , H01L21/205 , H01L21/265
Abstract: 본 발명은 기판 처리 장치, 기판 처리 방법, 예비 전극 구조체, 측정 전극 구조체, 및 공정 전극 구조체를 제공한다. 상기 기판 처리 방법은 위치에 따라 다른 홀의 밀도를 가진 예비 전극 구조체를 이용하여 홀의 밀도에 따른 플라즈마 특성 및 공정 결과 중에서 적어도 하나를 확인하여 홀의 밀도를 선택하는 단계, 홀의 직경이 위치에 따라 서로 다른 측정 전극 구조체를 이용하여 기판을 처리하여 최적 공정 위치를 선택하는 단계, 최적 공정 위치에 대응하는 측정 전극 구조체의 홀의 직경을 전사하여 공정 전극 구조체를 제공하는 단계, 및 공정 전극 구조체를 이용하여 위치에 따른 공정 불균일성을 보상하는 단계를 포함할 수 있다.
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