公开(公告)号：KR100301948B1

公开(公告)日：2001-09-22

申请号：KR1019990016793

申请日：1999-05-11

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 양민양 ,  이호철 ,  홍원표

IPC: B24B13/00

Abstract: 본발명은회전대칭형상의비구면렌즈나렌즈금형을연마하기위한장치및 방법에관한것이다. 이러한비구면렌즈연마방법은, 공작물이동수단과, 연마공구, 공작물회전수단, 및제어용컴퓨터를포함하는비구면렌즈연마장치의연마방법에있어서, 상기공작물의형상과표면거칠기를측정하는제1단계와; 상기공작물의표면형상을목표표면형상과비교하여그 형상오차를구하는제2단계; 상기형상오차를연마가공모델과체재시간알고리즘에적용하여연마경로와각 연마경로에따른체재시간을구하는제3단계; 상기공작물연마위치의수평위치값(x축)과틸트회전된각도값(θ)과, 연마공구회전속도와, 공작물회전속도, 및그 위치에서의체재시간을수치제어코드로저장하는제4단계; 및상기제어용컴퓨터가상기수치제어코드를해석하여상기공작물이동수단과상기연마공구와공작물회전수단을제어하는제5단계를포함한다.

公开(公告)号：KR1020030084225A

公开(公告)日：2003-11-01

申请号：KR1020020022804

申请日：2002-04-25

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 이태우 ,  이호철 ,  박오옥

IPC: H05B33/26

CPC classification number: H01L51/5088

Abstract: PURPOSE: An organic/polymer electroluminescent device employing charge-injecting layers doped with organic salt is provided to enhance the luminant efficiency by using an organic/polymer layer doped with organic salt with a hole injection layer or an electron injection layer. CONSTITUTION: An organic/polymer electro-luminescent device doped with organic salt using a hole injection layer includes a transparent substrate(1), a semi-transparent electrode(2), an emission layer(4), and a metal electrode(6). The semi-transparent electrode(2) is deposited on the transparent substrate(1). The emission layer(4) is formed with organic luminescent material. A hole injection layer(3) or an electron injection layer(5) is formed on one of an upper side and a bottom side of the emission layer(4). The hole injection layer(3) or the electron injection layer is formed with an organic/polymer layer doped with organic salt.

Abstract translation: 目的：提供掺杂有机盐的电荷注入层的有机/聚合物电致发光器件，通过使用掺有有机盐的空穴注入层或电子注入层的有机/聚合物层来提高发光体的效率。 构成：使用空穴注入层掺杂有机盐的有机/聚合物电致发光器件包括透明基板（1），半透明电极（2），发射层（4）和金属电极（6） 。 半透明电极（2）沉积在透明基板（1）上。 发射层（4）由有机发光材料形成。 在发光层（4）的上侧和底侧之一上形成空穴注入层（3）或电子注入层（5）。 空穴注入层（3）或电子注入层由掺杂有机盐的有机/聚合物层形成。

公开(公告)号：KR100484496B1

公开(公告)日：2005-04-20

申请号：KR1020020022804

申请日：2002-04-25

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 이태우 ,  이호철 ,  박오옥

IPC: H05B33/26

Abstract: 본 발명은 유기염이 유기물/고분자에 도핑된 물질을 전자 또는 정공 주입층으로 이용한 유기/고분자 전기발광소자에 관한 것이다. 본 발명의 유기염이 도핑된 유기물/고분자를 이용한 유기/고분자 전기발광소자는, 투명기판; 투명기판위에 증착된 반투명 전극; 반투명 전극위에 구비된 정공 주입층; 정공 주입층위에 구비되고, 유기 발광물질로 구성된 전기발광층; 전기발광층위에 구비된 전자 주입층; 및 전자 주입층위에 증착된 금속전극을 포함하는 전기발광소자에 있어서, 정공 주입층과 전자 주입층이 유기염이 도핑된 고분자로 구성된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 유기/고분자 전기발광소자는 우수한 발광효율을 나타내고, 켜짐전압이 낮으므로, 고효율 유기/고분자 전기발광소자의 개발에 널리 활용될 수 있다.

公开(公告)号：KR1020000073479A

公开(公告)日：2000-12-05

申请号：KR1019990016793

申请日：1999-05-11

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 양민양 ,  이호철 ,  홍원표

IPC: B24B13/00

Abstract: PURPOSE: An apparatus for polishing non-spherical lens and method thereof are provided to polish a non-spherical lens or lens mould of rotational symmetric shape. CONSTITUTION: In an apparatus for polishing non-spherical lens and method thereof, the apparatus comprises a device for moving a work piece(2), a polishing tool(1), a device for rotating the work piece(2), and a computer for control. The method for polishing a non-spherical lens in the apparatus comprises the first step for measuring the shape and the surface roughness of a work piece(2); the second step for estimating shape tolerance by comparing the surface shape of the work piece(2) with a target surface shape; the third step for estimating polishing routes and duration times according to each of the polishing routes by applying the shape tolerance to an algorithm for polishing model and duration time; a fourth step for storing a value of horizontal position(X-axis) in a polishing position of the work piece(2), a value of tilting angle(theta), a revolution speed of a polishing tool, a revolution speed of the work piece, and a duration time at the very position as numerical control codes; and a fifth step for analyzing the numerical control codes and controlling the device for moving the work piece and the device for rotating the work piece.

Abstract translation: 目的：提供一种用于抛光非球面透镜的装置及其方法，用于抛光旋转对称形状的非球面透镜或透镜模具。 构造：在用于抛光非球面透镜的装置及其方法中，该装置包括用于移动工件（2），抛光工具（1），用于旋转工件（2）的装置的装置，以及计算机 用于控制。 在该装置中抛光非球面透镜的方法包括测量工件（2）的形状和表面粗糙度的第一步骤。 通过将工件（2）的表面形状与目标表面形状进行比较来估计形状公差的第二步骤; 用于通过对抛光模型和持续时间的算法应用形状公差来根据每个抛光路线估计抛光路线和持续时间的第三步骤; 在工件（2）的抛光位置中存储水平位置（X轴）的值，倾斜角度（θ）的值，抛光工具的转速，工件的转速的第四步骤 一个持续时间在数字控制代码的位置; 以及用于分析数字编码并控制用于移动工件的装置和用于旋转工件的装置的第五步骤。