公开(公告)号：WO2016089128A1

公开(公告)日：2016-06-09

申请号：PCT/KR2015/013135

申请日：2015-12-03

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김상욱 ,  진형민 ,  이건재 ,  이승현 ,  김주영

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 빛의 조사를 통해 자기조립고분자의 온도를 상승시킴으로써 패턴을 형성하는 것인 나노패턴 제조방법으로, 빛이 조사되는 부분에서 자기조립고분자의 χΝ을 10.5 이하로 유도하여 완전 무질서상태를 인가한 후 지향성 자기조립을 유도하는 것인 나노패턴 제조방법에 관한 것이다.

Abstract translation: 本发明涉及一种通过光照射提高自组装聚合物的温度来形成图案的纳米图案制造方法，通过诱导χN自发制作而形成完全无序状态后的引导自组装的纳米图案制造方法， 将聚合物组装在用光照射的部分为10.5以下。

公开(公告)号：KR102145404B1

公开(公告)日：2020-08-19

申请号：KR1020170148675

申请日：2017-11-09

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김상욱 ,  이건재 ,  진형민 ,  박대용

IPC: G03F7/20 ,  C08L25/08 ,  C08L83/10 ,  C08L33/12 ,  G03F7/028 ,  G03F7/00

公开(公告)号：KR101803759B1

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：KR1020140171871

申请日：2014-12-03

Applicant: 기초과학연구원 ,  한국과학기술원

Inventor： 김상욱 ,  진형민 ,  이건재 ,  이승현 ,  김주영

IPC: C08J3/28 ,  G03F7/00 ,  C08L53/00

Abstract: 본발명은빛의조사를통하여기판에분자자기조립을인가하여패턴을형성하는패턴제조방법에관한것으로서, 매우높은열구배를가질수 있고, 원하는부분및 국소부분에배향을임의로조절할수 있으며, 배향조절도를향상시킬수 있다. 따라서사전포토레지스트패턴이나, 화학적패턴없이, 단순드레깅을통해다양한회로패턴구현이가능하며, 평탄한기판외에도휘어지는기판과같은 3차원적인구조의기판에서도구현가능하고, 특별한환경의제약없이공정이가능하다.

公开(公告)号：KR101815185B1

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：KR1020150115131

申请日：2015-08-17

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김상욱 ,  진형민

IPC: H01L21/027 ,  H01L29/06 ,  H01L21/314

Abstract: 본발명은빛의조사를통해자기조립고분자의온도를상승시킴으로써패턴을형성하는것인나노패턴제조방법으로, 빛이조사되는부분에서자기조립고분자의χN을 10.5 이하로유도하여완전무질서상태를인가한후 지향성자기조립을유도하는것인나노패턴제조방법에관한것이다.

公开(公告)号：KR1020170020975A

公开(公告)日：2017-02-27

申请号：KR1020150115131

申请日：2015-08-17

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김상욱 ,  진형민

IPC: H01L21/027 ,  H01L29/06 ,  H01L21/314

Abstract: 본발명은빛의조사를통해자기조립고분자의온도를상승시킴으로써패턴을형성하는것인나노패턴제조방법으로, 빛이조사되는부분에서자기조립고분자의χN을 10.5 이하로유도하여완전무질서상태를인가한후 지향성자기조립을유도하는것인나노패턴제조방법에관한것이다.

公开(公告)号：KR101964842B1

公开(公告)日：2019-04-03

申请号：KR1020170109296

申请日：2017-08-29

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김상욱 ,  백정은 ,  김주영 ,  진형민

IPC: C08J5/18 ,  H01B5/00 ,  C08K3/04 ,  C08K3/34 ,  C08L71/02 ,  H01B1/04

公开(公告)号：KR101894909B1

公开(公告)日：2018-09-04

申请号：KR1020160151633

申请日：2016-11-15

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 김상욱 ,  신종화 ,  김주영 ,  김효욱 ,  장태용 ,  진형민

IPC: G02B1/00 ,  H01Q1/38 ,  H01L31/00

Abstract: 본발명은유기물자기조립공정을통해메타물질을제조하는메타물질의제조방법, 및이로부터제조된고굴절률메타물질에관한것으로, 목표하는형상의메타물질을매우용이하게제조할수 있을뿐만아니라, 특정형태의단위요소가수 나노미터사이즈의주기를가지도록조절할수 있다. 또한, 이로부터제조되는메타물질은가시광영역및 적외선영역의파장에서높은굴절률을가질수 있다.

公开(公告)号：KR1020160066739A

公开(公告)日：2016-06-13

申请号：KR1020140171871

申请日：2014-12-03

Applicant: 기초과학연구원 ,  한국과학기술원

Inventor： 김상욱 ,  진형민 ,  이건재 ,  이승현 ,  김주영

IPC: C08J3/28 ,  G03F7/00 ,  C08L53/00

CPC classification number: C08J3/28 ,  C08J2353/00 ,  C08L53/00 ,  G03F7/00

Abstract: 본발명은빛의조사를통하여기판에분자자기조립을인가하여패턴을형성하는패턴제조방법에관한것으로서, 매우높은열구배를가질수 있고, 원하는부분및 국소부분에배향을임의로조절할수 있으며, 배향조절도를향상시킬수 있다. 따라서사전포토레지스트패턴이나, 화학적패턴없이, 단순드레깅을통해다양한회로패턴구현이가능하며, 평탄한기판외에도휘어지는기판과같은 3차원적인구조의기판에서도구현가능하고, 특별한환경의제약없이공정이가능하다.

Abstract translation: 本发明涉及一种图案的制造方法，其通过在基板上通过照射光进行自组装来形成图案，可以具有非常高的热梯度，可以随机地控制所需部分和局部部分的取向 ，并可以提高对齐控制。 因此，可以通过简单的拖动来实现各种电路图案，而不需要先前的光致抗蚀剂图案或化学图案，可以在诸如除了平坦基板之外的柔性基板的三维结构的基板上实现各种电路图案，并且可以执行处理 没有特定的环境约束。