4-빔 레이저 간섭 응용 금속 나노 점 패턴 및 SERS 기판 제조 방법
    1.
    发明授权
    4-빔 레이저 간섭 응용 금속 나노 점 패턴 및 SERS 기판 제조 방법 有权
    4光束激光干涉应用金属纳米点图案及SERS基底的制造方法

    公开(公告)号:KR101834917B1

    公开(公告)日:2018-03-08

    申请号:KR1020160117001

    申请日:2016-09-12

    Inventor: 양민양 한규효

    CPC classification number: G01N21/554 G01N21/45 G03F7/2053

    Abstract: 나노패턴제조방법을개시한다. 본실시예에의하면, 나노패턴제조방법에있어서, 기판상에유기금속화합물잉크층을형성하는과정; 상기유기금속화합물잉크층을반고상으로경화시키는과정; 상기반고상의유기금속화합물잉크층에 4-빔간섭리소그래피를이용하여상기기판상에수직으로교차하는레이저를조사하여패턴이형성될부분을국부적으로경화시켜패턴을형성하는과정; 및상기반고상의유기금속화합물잉크층을제거하여상기패턴을남기는과정을포함하는나노패턴제조방법을제공한다.

    Abstract translation: 公开了一种纳米图案制造方法。 根据本实施例,提供了一种制造纳米图案的方法,包括:在基底上形成有机金属化合物油墨层; 将有机金属化合物油墨层固化成半固体相; 使用4光束干涉光刻将垂直交叉的激光照射到衬底上以在半透明衬底上形成有机金属化合物油墨层以通过局部固化待图案化的部分来形成图案; 并去除半绝缘层上的有机金属化合物油墨层以留下图案。

    음압숙성에 의한 금속나노입자의 제조방법 및 그에 의해 제조된 금속나노입자
    2.
    发明公开
    음압숙성에 의한 금속나노입자의 제조방법 및 그에 의해 제조된 금속나노입자 无效
    使用负极压力制备金属纳米颗粒的方法和使用其制造的金属纳米颗粒

    公开(公告)号:KR1020150127888A

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:KR1020140054024

    申请日:2014-05-07

    CPC classification number: B22F9/24 B22F1/0044 B82Y40/00

    Abstract: 본발명은음압숙성에의한금속나노입자의제조방법및 그에의해제조된금속나노입자에관한것으로, 음압 (negative pressure)하에서의숙성을통하여기존의수열반응이나폴리올반응에서의저온냉각의숙성과정을통하여발생하는나노입자간의응집및 재융해현상을막았다. 또한, 반응챔버내에난류를형성하여응집된입자들이전단응력을받아서재분산되도록하였다. 그리하여, 본발명으로나노입자합성에서의응집문제의해결하고높은수율을획득하여, 기존의응집파손방식이가지는한계인응집문제와수율문제를동시에해결하였다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种使用负压老化制备金属纳米粒子的方法及其制备的金属纳米粒子。 本发明通过使用负压老化来防止在现有的水热反应或多元醇反应中通过低温冷却的老化过程引起的纳米颗粒的内聚力和重熔。 此外,本发明允许将在反应室中产生湍流的凝聚的纳米颗粒再分散。 因此,本发明解决了通过解决纳米粒子合成中的内聚法同时具有内聚性的现有控制方法而获得高收率的内聚与收率相关的问题。 制备金属纳米颗粒的方法包括:允许纳米颗粒在金属前体溶液的升高温度下生长的步骤; 以及在负压下老化纳米颗粒的步骤。

    나노 패턴 제조 방법
    3.
    发明公开
    나노 패턴 제조 방법 审中-实审
    纳米图形的制造方法

    公开(公告)号:KR1020170135170A

    公开(公告)日:2017-12-08

    申请号:KR1020160066667

    申请日:2016-05-30

    Abstract: 나노패턴제조방법을개시한다. 나노패턴제조방법에있어서, 기판상에유기금속화합물잉크층을형성하는과정; 상기유기금속화합물잉크층을반고상으로경화시키는과정; 상기반고상의유기금속화합물잉크층에레이저간섭무늬를조사하여패턴을형성하는과정; 및상기반고상의유기금속화합믈잉크층을제거하여상기패턴을남기는과정을포함하는나노패턴제조방법을제공한다.

    Abstract translation: 公开了一种纳米图案制造方法。 一种制造纳米图案的方法,包括:在基底上形成有机金属化合物油墨层; 将有机金属化合物油墨层固化成半固体相; 通过用激光干涉图案在半透明间隙上照射有机金属化合物油墨层来形成图案; 并去除半绝缘层上的有机金属化合物油墨层以留下图案。

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