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公开(公告)号：KR100612595B1
公开(公告)日：2006-08-17
申请号：KR1020040000376
申请日：2004-01-05
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: G01Q60/366 , G01N3/42 , G01N2203/0286
Abstract: 본 발명은 나노 압입 시험 기능을 갖는 원자력 현미경(Atomic Force Microscope, AFM)의 캔틸레버에 관한 것으로서, 나노 압입 시험 시 수평 방향 운동의 보상과 압입 깊이 산출 등의 문제를 해결하여 정확한 물성 측정이 가능한 AFM 캔틸레버를 제공하는 것을 목적으로 한다. 이러한 목적을 달성하기 위한 일 축 방향으로 압입 시험 기능을 갖는 본 발명의 AFM 캔틸레버는 고정 스테이지에 장착된 일단부와, AFM 팁이 장착된 타단부를 포함하고, 상기 일단부 및 타단부가 위치하는 상기 일 축을 포함하는 어느 한 평면에 대해 대칭인 중공 프레임을 포함한다.
나노, 압입 시험, 원자력 현미경, AFM, 캔틸레버-
公开(公告)号：KR100549281B1
公开(公告)日：2006-02-03
申请号：KR1020030043842
申请日：2003-06-30
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 박막 제조 공정 기술에 필수적인 박막측정방법에 관한 것으로, 복잡한 시편 준비 과정을 거치지 않더라도 압입시험만으로 박막의 두께를 측정하는 방법을 제공하기 위한 것이다. 본 발명은, 절단공정과 같은 복잡한 시편 준비 과정을 거치지 않고, 압입시험을 포함하는 일련의 측정 및 결과 분석 단계를 수행함으로서 달성되어지는데, 첫째, 모재위에 박막이 올려진 형상으로 이루어진 샘플(Sample)에 압입 시험을 수행하는 단계와; 압입 시험중에 박막의 두께 방향으로 발생하는 변위와 하중을 정밀하게 측정하는 단계와; 측정된 변위값과 하중값을 통해 단순화된 모델식과 측정식들을 적용하여 박막의 두께를 판단하는 단계로 수행하게 된다.
압입시험, 박막, 두께측정, 나노, 박막제조,-
公开(公告)号：KR1020050071964A
公开(公告)日：2005-07-08
申请号：KR1020040000376
申请日：2004-01-05
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: G01Q60/366 , G01N3/42 , G01N2203/0286
Abstract: 본 발명은 나노 압입 시험 기능을 갖는 원자력 현미경(Atomic Force Microscope, AFM)의 캔틸레버에 관한 것으로서, 나노 압입 시험 시 수평 방향 운동의 보상과 압입 깊이 산출 등의 문제를 해결하여 정확한 물성 측정이 가능한 AFM 캔틸레버를 제공하는 것을 목적으로 한다. 이러한 목적을 달성하기 위한 일 축 방향으로 압입 시험 기능을 갖는 본 발명의 AFM 캔틸레버는 고정 스테이지에 장착된 일단부와, AFM 팁이 장착된 타단부를 포함하고, 상기 일단부 및 타단부가 위치하는 상기 일 축을 포함하는 어느 한 평면에 대해 대칭인 중공 프레임 형상을 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020050002464A
公开(公告)日：2005-01-07
申请号：KR1020030043842
申请日：2003-06-30
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: PURPOSE: A method for measuring the thickness of nano-meter sized thin films using an indentation test is provided to measure the thickness of a thin film only through an indentation test without a complex test sample preparing process. CONSTITUTION: An indentation test is performed in a sufficiently deeper place than the thickness of a thin film with respect to a sample including the thin film and a substrate. A graph is drawn according to the indentation test result. If the graph is obtained between P/A and an indentation depth through the indentation test for a sample having a thin film/a substrate, a curve is fit. Three thin film samples having the same materials are manufactured and the thickness of the thin films is measured through a thickness measuring unit. The degree of the thin films and the indentation depth are measured by using a nano indentor. Data having at least the ratio of 1.2 as the ratio of the indentation depth to the thickness of the thin film are removed.
Abstract translation: 目的：提供使用压痕试验测量纳米尺寸薄膜的厚度的方法，仅通过压痕测试来测量薄膜的厚度，而无需复杂的测试样品制备过程。 构成：相对于包括薄膜和基底的样品，在比薄膜厚度更深的位置进行压痕测试。 根据缩进测试结果绘制图形。 如果通过对具有薄膜/衬底的样品的压痕测试在P / A和压痕深度之间获得曲线图，则拟合曲线。 制造具有相同材料的三个薄膜样品，并且通过厚度测量单元测量薄膜的厚度。 通过使用纳米压痕来测量薄膜的程度和压痕深度。 去除了至少具有1.2的压缩深度与薄膜厚度之比的数据。
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