公开(公告)号：KR1020110023620A

公开(公告)日：2011-03-08

申请号：KR1020090081615

申请日：2009-08-31

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 이건환 ,  윤정흠 ,  이성훈 ,  김동호 ,  정유정

IPC: B82B3/00 ,  H01L21/20

CPC classification number: B82B1/008 ,  B01J19/088 ,  B82B3/0004 ,  B82B3/0095 ,  B82Y40/00 ,  C01B33/12 ,  C01P2004/64 ,  C08L101/00

Abstract: PURPOSE: A board equipped with nanowire and a method for manufacturing the same are provided to grow the nanowire composed of a silicon-based compound on a polymer board using a plasma surface treatment method or an ion beam surface treatment method, and a plasma polymerization method. CONSTITUTION: A board equipped with nanowire(100) contains a base material(120), a nano protrusion(130), and nanowire(140). The base material is based on either of PC, PET, PES, PEN, PAR, and polymer board. The nano protrusion is formed at one side of the base material by radio frequency plasma and ion beam radiation. The nanowire, which is based on either of SiO_x, SiO_xN_y, and SiC_xH_yO_z is formed at one side of the nano protrusion by a plasma polymerization method.

Abstract translation: 目的：提供一种装备有纳米线的板及其制造方法，用于使用等离子体表面处理方法或离子束表面处理方法在聚合物板上生长由硅系化合物构成的纳米线，以及等离子体聚合法 。 构成：装备有纳米线（100）的板包含基材（120），纳米突起（130）和纳米线（140）。 基材基于PC，PET，PES，PEN，PAR和聚合物板。 纳米突起通过射频等离子体和离子束辐射形成在基底材料的一侧。 通过等离子体聚合法在纳米突起的一侧形成基于SiO_x，SiO_xN_y和SiC_xH_yO_z的纳米线。

公开(公告)号：KR100974171B1

公开(公告)日：2010-08-05

申请号：KR1020080056114

申请日：2008-06-16

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 이건환 ,  윤정흠 ,  이성훈 ,  정유정

IPC: H01L21/20

Abstract: 본 발명은 미세 기공이 형성되지 않은 투습방지막이 구비된 기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 의한 투습방지막이 구비된 기판은, 폴리머로 이루어진 투명 모재(120) 일면에 물리적 증기 증착법(PVD)을 통해 증착된 투명산화물박막(142)과, 플라즈마 중합법(Plasma polymerization)을 통해 형성된 실리콘계화합물(144)을 포함하여 구성된다. 또한, 본 발명에 의한 투습방지막이 구비된 기판의 제조방법은, 폴리머로 이루어진 투명 모재(120)의 표면을 이온빔을 이용하여 전처리하는 전처리단계(S100)와; 상기 모재에 스퍼터링법(Sputtering) 또는 전자총증착법(E-beam Evaporation)으로 투명산화물박막(142)을 형성하는 박막형성과정(S220)과, 상기 투명산화물박막(142) 상면에 플라즈마중합법(Plasma Polymerization)으로 실리콘계화합물(144)을 형성하는 화합물형성과정(S240)을 포함하는 투습방지막형성단계(S200);로 이루어지는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명에 따르면, 투명성은 유지하면서 투습도 및 투산소도가 획기적으로 감소하는 이점이 있다.
투습, 투명산화물박막, 증착법, 플라즈마 중합법

公开(公告)号：KR1020090130459A

公开(公告)日：2009-12-24

申请号：KR1020080056114

申请日：2008-06-16

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 이건환 ,  윤정흠 ,  이성훈 ,  정유정

IPC: H01L21/20

Abstract: PURPOSE: A humidity preventing film is provided to improve the productivity by forming transparent oxide thin film and silicon based compound in the same chamber. CONSTITUTION: In a device, a substrate(100) includes a transmission of humidity preventing film(140) formed on a transparency base material(120) and a base material consisting of Polymer. The base material is comprised of a polymer substrate for the ductility display device including the PC, PET, PES, PEN, RAR. The transmission of humidity preventing film is located on the base material. The transmission of humidity preventing film includes the transparent oxide thin film(142) and the silicon based compound(144). The transparent oxide thin film is evaporated through PVD on the base material. The silicon based compound is formed through the plasma polymerization method on the transparent oxide thin film.

Abstract translation: 目的：提供防湿膜，通过在相同的室中形成透明氧化物薄膜和硅基化合物来提高生产率。 构成：在装置中，基板（100）包括形成在透明基材（120）上的防湿膜（140）和由聚合物构成的基材的透射体。 该基材由用于包括PC，PET，PES，PEN，RAR的延展性显示装置的聚合物基材组成。 防潮膜的传输位于基材上。 防湿膜的透射包括透明氧化物薄膜（142）和硅基化合物（144）。 透明氧化物薄膜通过PVD在基材上蒸发。 通过等离子体聚合法在透明氧化物薄膜上形成硅基化合物。

公开(公告)号：KR101109407B1

公开(公告)日：2012-01-31

申请号：KR1020090081615

申请日：2009-08-31

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 이건환 ,  윤정흠 ,  이성훈 ,  김동호 ,  정유정

IPC: B82B3/00 ,  H01L21/20

Abstract: 본 발명은 폴리머기판 상에 실리콘계 화합물(SiO
x , SiC
x H
y O
z , SiON
x )로 이루어진 나노와이어가 형성된 기판을 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명에 의한 나노와이어가 구비된 기판은, 폴리머로 이루어진 모재(120)와, 상기 모재(120) 일측에 알에프 플라즈마 또는 이온빔을 조사하여 형성된 나노돌기(130)와, 상기 나노돌기(130) 일측에 플라즈마 중합법(Plasma polymerization)을 통해 형성된 실리콘계 화합물로 이루어진 나노와이어(140)를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 나노와이어가 구비된 기판의 제조방법은, 폴리머로 이루어진 모재(120)의 표면을 알에프 플라즈마 또는 이온빔을 이용하여 표면처리하여 나노돌기(130)를 형성시키는 나노돌기형성단계(S100)와; 상기 나노돌기(130) 일측에 플라즈마중합법(Plasma Polymerization)으로 나노와이어(140)를 형성하는 나노와이어형성단계(S200)로 이루어지는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명에 따르면, 마이크로 필터, 차세대 디스플레이용 기판, 연성 태양전지용 기판 등에 다양하게 활용할 수 있는 이점이 있다.
나노와이어, 플라즈마, 이온빔, 표면처리, 실리콘계 화합물

公开(公告)号：KR100965847B1

公开(公告)日：2010-06-28

申请号：KR1020090081612

申请日：2009-08-31

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 이건환 ,  윤정흠 ,  이성훈 ,  정유정

IPC: H01L21/205 ,  G02F1/1339

Abstract: PURPOSE: A board having layer for preventing humidity is provided to reduce the permeability of vapor and oxide by forming a film preventing humidity through a plasma enhanced chemical vapor deposition. CONSTITUTION: A transparent base material(120) is formed with a polymer. A film preventing humidity is formed on the top side of the transparency base material. The film comprises a silicon organic compounds thin film(142) and a silicon inorganic compound(144). The silicon organic compounds thin film is deposited on the one side of the transparent base material by thickness of 3~10mm through plasma chemical vapor deposition. The silicon inorganic compound is formed on the one side of the silicon organic compounds thin film in order to have the thickness less than 1000nm thorough PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition). The silicon organic compounds thin film and silicon inorganic compound thin film are successively formed.

Abstract translation: 目的：提供具有用于防止湿度的层的板，以通过形成通过等离子体增强化学气相沉积来防止湿度的膜来降低蒸气和氧化物的渗透性。 构成：透明基材（120）由聚合物形成。 在透明基材的顶面上形成防止湿度的膜。 膜包括硅有机化合物薄膜（142）和硅无机化合物（144）。 通过等离子体化学气相沉积，将硅有机化合物薄膜沉积在透明基材的一侧，厚度为3〜10mm。 通过PECVD（等离子体增强化学气相沉积），在硅有机化合物薄膜的一侧上形成硅无机化合物以使厚度小于1000nm。 连续形成硅有机化合物薄膜和硅无机化合物薄膜。