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公开(公告)号：WO2015041442A1
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：PCT/KR2014/008613
申请日：2014-09-16
CPC classification number: G01N21/658 , B82Y15/00 , C09D7/61 , C23C16/44 , G01N2201/06113 , G01N2201/068 , Y10S977/954
Abstract: 본 발명은, 기판 상에 금속 나노입자들이 수 나노미터 간격으로 이격되도록 제조함으로써 표면 증강 라만 신호를 현저히 증가시킬 수 있으며, 장기간 보관하는 경우에도 현저하게 라만 신호를 증강시킬 수 있는 표면 증강 라만 분광용 기판; 및 간단한 장비와 낮은 생산비로 대면적으로 상기 표면 증강 라만 분광용 기판을 제조할 수 있는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 기판 상에 수 나노미터 간격으로 이격된 금속 나노입자를 포함하는 표면 증강 라만 분광용 기판은 간단한 장비와 낮은 생산비로 대면적으로 제조할 수 있다. 또한, 상기 금속 나노입자 사이의 간격을 수 나노미터로 재현성 있게 제조할 수 있어 현저히 향상된 라만 신호 증강 효과를 나타낼 수 있으며, 장기간 보관하는 경우에도 높은 수준으로 라만 신호 증강 효과를 유지할 수 있다는 이점이 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于表面增强拉曼光谱的基板，即使在长期储存的情况下也能显着提高表面增强拉曼信号，通过制造基板使得其上的金属纳米颗粒间隔几纳米，并且 以简单的设备和低生产成本大规模生产表面增强拉曼光谱用基板的方法。 表面增强拉曼光谱的基板包括间隔几纳米的金属纳米颗粒，可以用简单的设备以低的生产成本大规模地制造。 此外，由于金属纳米粒子之间的距离可再生产制成几纳米，所以可以显着地提高拉曼信号，即使在长期保存的情况下，可以将改善的拉曼信号维持在高水平。
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公开(公告)号：WO2016186402A1
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：PCT/KR2016/005124
申请日：2016-05-13
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 금속 박막 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 배향성을 가지는 기판; 및 상기 기판 상에 형성되는 금속박막;을 포함하되, 상기 금속 박막은 초기 성장 시에 상기 기판의 배향성에 상응하는 배향성을 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 금속 박막 기판에 관한 것으로, 본 발명에 의한 금속 박막 기판은 성장초기부터 2차원 연속 박막으로 성장되며 광투과율 및 전도성이 우수한 금속 박막을 제공하는 효과가 있다.
Abstract translation: 金属薄膜基板及其制造方法技术领域本发明涉及金属薄膜基板及其制造方法，特别是金属薄膜基板，其特征在于，具有取向的基板和形成在所述基板上的金属薄膜，其中，所述金属薄膜 形成为具有与初始生长时的基板的取向对应的取向。 本发明的金属薄膜基板从初始生长时起生长为二维连续薄膜，具有提供透光性和导电性优异的金属薄膜的效果。
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公开(公告)号：WO2016048053A1
公开(公告)日：2016-03-31
申请号：PCT/KR2015/010066
申请日：2015-09-24
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 복수의 나노갭이 형성된 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게 높은 흡광 특성을 지니면서 광원의 파장범위를 광범위하게 조절할 수 있는 복수의 나노갭 기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种其上形成有多个纳米点的基板及其制造方法，更具体地涉及一种具有高吸收特性并能够将光源的波长范围调整为宽的多纳米片基板 ，及其制造方法。
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公开(公告)号：WO2018043766A1
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：PCT/KR2016/009613
申请日：2016-08-30
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: C23C14/00 , C23C14/02 , C23C14/06 , C23C14/18 , C23C14/20 , C23C14/22 , C23C14/54 , C23C14/58
Abstract: 본 발명은 구리 박막 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 기판; 및 상기 기판 상에 형성되며 구리(Cu) 또는 구리합금으로 구성되는 구리 박막;을 포함하되, 상기 구리 박막의 (111)면의 전체 결정면에 대한 비율은 상기 구리 박막의 두께가 증가함에 따라 감소하며 상기 구리 박막의 I(111)/I(200)이 17을 초과하는 구리 박막 기판에 관한 것으로, 본 발명에 의한 구리 박막 기판은 성장초기부터 2차원 연속 박막으로 성장되며 광투과율 및 전도성이 우수한 구리 박막을 제공하는 효과가 있다.
Abstract translation:
本发明涉及一种铜膜基板及其制造方法，尤其涉及一种衬底; 和基板上形成铜薄膜由铜（Cu）或铜合金;包括但，铜薄膜的（111）面的整个晶面的比例，并且随着铜膜的厚度增加 为I（111）/ I（200）超过17的铜箔基板上的铜薄膜，本发明的铜箔基板可以以二维连续薄膜从生长初始铜透光率和导电性优异生长 Lt;
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公开(公告)号：WO2013141442A1
公开(公告)日：2013-09-26
申请号：PCT/KR2012/003495
申请日：2012-05-03
CPC classification number: G02B1/113
Abstract: 반사 방지 기판 및 그 제조 방법이 개시된다. 본 발명에 의하면, 빛의 투과가 가능한 베이스 기판을 준비하고, 건식 에칭 방법을 이용하여 상기 베이스 기판의 표면에 복수의 돌기형 구조체를 형성하며, 무기물 입자의 증착에 의해 상기 복수의 돌기형 구조체 각각에 빛의 반사를 방지할 수 있는 반사 방지 구조체를 형성한다.
Abstract translation: 公开了一种抗反射基板及其制造方法。 根据本发明，制备能够透过光的基底基板，利用干蚀刻方法在基底基板的表面上形成多个突出结构，并且形成能够防止光的反射的抗反射结构 通过沉积无机颗粒在多个突出结构中的每一个上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2016052987A1
公开(公告)日：2016-04-07
申请号：PCT/KR2015/010301
申请日：2015-09-30
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 플라즈모닉 광흡수체, 이를 포함하는 플라즈모닉 광촉매 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판; 상기 기판에 형성된 불규칙한 방향으로 기울어진 나노로드; 및 상기 나노로드 및 상기 기판의 표면상에 형성된 금속 함유 박막;을 포함하되, 상기 금속 함유 박막이 형성된 상기 나노로드는 인접한 나노로드와 표면 플라즈몬 공명을 유도하는 다양한 크기의 나노갭을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 광흡수체, 이를 포함하는 플라즈모닉 광촉매 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 대면적으로 제작되면서 넓은 파장 영역의 광을 높은 효율로 흡수할 수 있는 플라즈모닉 광흡수체 및 이를 포함하는 플라즈모닉 광촉매 기판을 제공하는 효과가 있다.
Abstract translation: 本发明涉及等离子体激元光吸收剂，等离子体激元光吸收剂，等离子体激元光催化剂及其制造方法，更具体地说，涉及一种等离子体激光吸收剂，其特征在于包括：基材; 纳米棒形成在基板上并倾斜在不规则的方向; 以及在纳米棒和基板的表面上形成的含金属的薄膜，包括其的等离子体激光光催化基板及其制造方法，其中形成有金属的薄膜的纳米棒 形成各种尺寸的纳米间隙，用于诱导表面等离子体共振，以及相邻的纳米棒。 因此，具有以下效果：提供能够制造成具有宽表面积并且以高效率吸收宽波长范围内的光的等离子体光吸收剂，以及包括其的等离子体激元催化基板。
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公开(公告)号：WO2013168831A1
公开(公告)日：2013-11-14
申请号：PCT/KR2012/003553
申请日：2012-05-07
CPC classification number: H05K1/0274 , G06F2203/04103 , H01L31/022466 , H05K3/0041 , H05K3/28 , H05K2201/015 , H05K2201/0326 , H05K2201/10977 , H05K2201/2054
Abstract: 투명전도성 기판 및 그 제조방법이 개시된다. 본 발명에 의하면, 빛의 투과가 가능한 베이스 기판; 투명전도성 물질의 증착에 의해 형성되는, 투명전도층; 및 반사방지층을 포함하되, 상기 반사방지층은, 건식 에칭 방법을 이용하여 형성되는, 복수의 돌기형 구조체 및 무기물 입자의 증착에 의해 형성되는 반사방지 구조체를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전도성 기판 및 그 제조 방법이 제공된다.
Abstract translation: 公开了一种透明导电基板及其制造方法。 提供一种透明导电基板及其制造方法，本发明的透明导电基板包括：允许光穿透的基底基板; 通过沉积透明导电物质形成的透明导电层; 和抗反射层，其中抗反射层包括通过干蚀刻方法形成的多个突出结构和通过沉积无机颗粒形成的抗反射结构。
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8.发明申请플라즈마 발생장치, 플라즈마 발생장치용 회전 전극의 제조방법, 기판의 플라즈마 처리방법, 및 플라즈마를 이용한 혼합 구조의 박막 형성방법 审中-公开用于等离子体生成的装置，用于制造用于等离子体生成装置的旋转电极的方法，用于等离子体处理基板的方法，以及使用等离子体形成混合结构的薄膜的方法
公开(公告)号：WO2013022306A2
公开(公告)日：2013-02-14
申请号：PCT/KR2012/006384
申请日：2012-08-10
IPC: H05H1/34 , C23C16/50 , H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32541 , C23C16/503 , C23C16/509 , H01J9/022 , H01J37/32559 , H01J37/32568 , H01J37/32825 , H01J2237/327 , H05H1/2406 , H05H2001/2431 , H05H2001/485 , H05H2001/486
Abstract: 본 발명의 일 실시예로서, 플라즈마가 아크로 전이되는 현상을 억제하여 대기압 근처에서도 안정적이면서도 고밀도 플라즈마를 발생시키기 위해, 기판을 안착시키기 위한 판상형 하부전극; 및 상기 판상형 하부전극 상의 원통형 회전 전극을 포함하고, 상기 원통형 회전 전극은, 전원부에 연결되고, 그 외주면 상에 복수의 캐필러리부들을 포함하는 도전성 몸체; 및 상기 복수의 캐필러리부들의 저면부를 노출하도록 그 외의 부분은 절연체 또는 유전체로 차폐하는 것을 포함하는, 플라즈마 발생장치를 제공한다.
Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，提供了一种用于等离子体产生的装置，包括：板状下电极，用于安装基板以通过抑制等离子体转移到的现象来产生大气压附近的稳定和高密度等离子体 一个弧 导电体，其包括在所述板状下电极上的圆筒形旋转电极，其中所述圆筒状旋转电极与电源单元连接，并且在其外周面上连接有多个毛细管单元; 以及用绝缘体或电介质覆盖以暴露多个毛细管单元的底部的其它部分。
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公开(公告)号：KR101749590B1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：KR1020140056011
申请日：2014-05-10
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명에의한고투과적외선반사기판은, 투명소재로이루어진베이스기판과, 상기베이스기판의일면을에칭하여일체로형성된돌기형구조물과, 상기돌기형구조물의외측에증착된반사방지투명층을포함하는반사방지구조물과, 상기베이스기판의다른면에증착된적외선반사층을포함하여구성되며, 70% 이상의가시광선투과도와 90% 이상의적외선반사율을갖는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1020160037377A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：KR1020140129554
申请日：2014-09-26
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G01J3/44
Abstract: 본발명은무기물입자가형성된기판및 이의제조방법에관한것으로, 더욱상세하게는서로이격된돌기형구조체가형성된기판; 상기돌기형구조체및 기판표면상에형성된무기물함유입자; 상기무기물함유입자상에형성된금속함유나노입자;를포함하되, 상기금속함유나노입자는상기무기물함유입자표면상으로인접한금속함유나노입자와상기기판내에서공간적으로인접한금속함유나노입자중 적어도어느하나이상과나노갭을형성한것을특징으로하는무기물입자가형성된기판에관한것으로, 무기물입자를형성되어열적안정성이확보되고기판구조에대한정보를최소화하면서복수의나노갭에의해라만신호를증폭시킬수 있는효과가있다.
Abstract translation: 本发明涉及具有无机粒子的基板及其制造方法，更具体地说，涉及具有无机粒子的基板，其特征在于，具有：具有彼此分离的突出结构的基板; 形成在突出结构和基板表面上的含无机颗粒; 和在含有无机颗粒上形成的含金属纳米颗粒。 含金属的纳米颗粒与在无机颗粒的表面相邻的含金属纳米颗粒中的至少一种和在基板上空间相邻的含金属纳米颗粒中的至少一种形成纳米间隙。 因此，本发明提供能够通过形成无机颗粒来确保热稳定性并且通过纳米间隙放大拉曼信号同时最小化关于衬底结构的信息的效果。
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