公开(公告)号：KR101399440B1

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：KR1020120066177

申请日：2012-06-20

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 이응숙 ,  정주연 ,  최준혁 ,  한재원

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  B29C33/42

CPC classification number: B32B37/26 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/0152 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017 ,  G03F7/2004

Abstract: 본 발명은 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법에 관한 것이며, 본 발명의 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법은 기판 상에 플라즈모닉 공명(plasmonic resonance) 특성을 갖는 소재로 마련되는 금속패턴을 형성하는 금속패턴 형성단계; 상기 기판 및 상기 금속패턴의 외면에 소수성 박막을 코팅하여 소수성 처리하는 소수성 처리단계; 상기 금속패턴의 외면만 선택적으로 친수성 처리하는 친수성 처리단계; 상기 기판 및 상기 금속패턴 상에 버퍼층을 적층하는 버퍼층 적층단계; 상기 금속패턴 및 버퍼층을 상기 기판으로부터 광투과성 소재의 베이스 측으로 전사시켜 결합시키는 결합단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면, 표면 플라즈몬 에너지를 이용하여 광회절의 한계를 극복하고 미세패턴을 형성할 수 있는 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법 및 플라즈모닉스 나노리소그래피 장치가 제공된다.

公开(公告)号：KR200331088Y1

公开(公告)日：2003-10-23

申请号：KR2020030018695

申请日：2003-06-13

Applicant: 한국기계연구원 ,  한재원

Inventor： 정상현 ,  한재원

IPC: B01D39/00

Abstract: 본 고안은 고품질 및 극대화된 포집성능을 갖는 정전여과에 사용되는 정전 여과 부재에 관한 것으로서, 정전필터 제조장치에 있어서, 섬유조직의 형태를 갖는 정전여과부재(202)의 양측면에 구성되며, 각각의 양측면에서 양극의 코로나 방전과 음극의 코로나 방전이 발생하도록 하고, 상기 양극의 코로나 방전과 상기 음극의 코로나 방전이 균일하게 발생하도록 하여 상기 정전여과부재의 음전하와 양전하를 고르게 주입하도록 하는 이온샤워부와, 정전여과부재를 통과한 상기 정전여과부재의 양면에 구성되며 마주보는 상기 각각에 서로 다른 극성의 전기장이 인가되는 로울러로 구성되며, 따라서, 동일한 전력소비에 대하여 다량의 전하들을 발생시키면서 전기적인 스파크 발생은 감소시켜 정전처리시에 여과부재의 물리적인 손상없이 고성능의 포집� ��능을 가지는 고품질의 여과부재를 연속적으로 제조할 수 있는 효과가 있으며, 또한, 코로나 방전이 여과부재에 직접적으로 작용하지 않기 때문에 코로나 방전으로 인한 여과부재의 손상이 없으며, 이온샤워로 인한 이온들의 침투 분포가 매우 균일하여 넓은 면적의 여과부재에 대하여도 매우 균일한 정전화 처리가 가능한 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020140011505A

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：KR1020120066177

申请日：2012-06-20

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 이응숙 ,  정주연 ,  최준혁 ,  한재원

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  B29C33/42

CPC classification number: B32B37/26 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/0152 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017 ,  G03F7/2004 ,  B29C33/424 ,  G03F7/427 ,  H01L21/0274

Abstract: The present invention relates to a method for manufacturing a stamp for plasmonic nano-lithography. The method for manufacturing a stamp for plasmonic nano-lithography comprises: a metal pattern formation step which forms metal patterns on a substrate; a hydrophobic treatment step which coats the outer surface of the substrate and the metal patterns with hydrophobic thin films for hydrophobic treatment; a hydrophilic treatment step which selectively conducts hydrophilic treatment on the outer surface of the metal patterns; a buffer layer lamination step which laminates the buffer layer on the substrate and the metal patterns; and a combination step which transfers the metal patterns and the buffer layer from the substrate to a light permeable base side. The present invention provides the method for manufacturing the stamp for plasmonic nano-lithography and the apparatus for plasmonic nano-lithography which can overcome limitation of light diffraction using surface plasmon energy and form micropatterns. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S105) Pretreatment step; (S110,S210) Metal pattern formation step; (S120) Hydrophobic treatment step; (S130) Hydrophilic treatment step; (S131) Polymer layer lamination step; (S132) First lamination step; (S133) Plasma treatment step; (S134) Second lamination step; (S135) First removal step; (S136) Selective treatment step; (S137) Second removal step; (S140) Buffer layer lamination step; (S150) Combination step; (S160) Anti-sticking layer lamination step

Abstract translation: 本发明涉及一种制造等离子体激光纳米光刻印花的方法。 用于等离子体激光纳米光刻的印模的制造方法包括：在基板上形成金属图案的金属图案形成步骤; 疏水处理步骤，其使用用于疏水处理的疏水性薄膜涂覆基材的外表面和金属图案; 选择性地对金属图案的外表面进行亲水处理的亲水处理工序; 缓冲层层压步骤，其将所述衬底上的缓冲层和所述金属图案层压; 以及将金属图案和缓冲层从基板转印到透光性基底侧的组合步骤。 本发明提供了等离子体纳米光刻用印模的制造方法和等离子体激光纳米光刻装置，其可以克服使用表面等离子体激元的光衍射的限制并形成微图案。 （附图标记）（AA）开始; （BB）结束; （S105）预处理步骤; （S110，S210）金属图案形成工序; （S120）疏水处理工序; （S130）亲水处理步骤; （S131）聚合物层层压步骤; （S132）第一层压步骤; （S133）等离子体处理工序; （S134）第二层压工序; （S135）第一移除步骤; （S136）选择性治疗步骤; （S137）第二去除步骤; （S140）缓冲层层叠工序; （S150）组合步骤; （S160）防粘层层叠工序

公开(公告)号：KR100571182B1

公开(公告)日：2006-04-24

申请号：KR1020030038415

申请日：2003-06-13

Applicant: 한국기계연구원 ,  한재원

Inventor： 정상현 ,  한재원

IPC: B01D39/00

Abstract: 본 발명은 고품질 및 극대화된 포집성능을 갖는 정전여과에 사용되는 여과부재를 제조하는 장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 정전여과부재의 양면으로 양극의 코로나 방전과 음극의 코로나 방전이 발생하도록 하며, 상기 양극의 코로나 방전과 상기 음극의 코로나 방전이 균일하게 발생하도록 하여 정전여과부재에 음전하와 양전하를 고르게 주입하도록 하는 이온샤워부와, 정전여과부재)를 통과한 상기 정전여과부재의 양면에 각각 다른 극성의 강한 전기장이 인가된 로울러로 구성되며, 따라서, 동일한 전력소비에 대하여 다량의 전하들을 발생시키면서 전기적인 스파크 발생은 감소시켜 정전처리시에 여과부재의 물리적인 손상없이 고성능의 포집성능을 가지는 고품질의 여과부재를 연속적으로 제조할 수 있는 효과가 있으며, 또한, 코로나 방전이 여과부재에 직접적으로 작용하지 않기 때문에 코로나 방전으로 인한 여과부재의 손상이 없으며, 이온샤워로 인한 이온들의 침투 분포가 매우 균일하여 넓은 면적의 여과부재에 대하여도 매우 균일한 정전화 처리가 가능한 효과가 있다.
코로나방전, 방전극, HEPA 필터, 허니컴(Honeycomb), 정전, 포집, 청정

公开(公告)号：KR1020040107810A

公开(公告)日：2004-12-23

申请号：KR1020030038415

申请日：2003-06-13

Applicant: 한국기계연구원 ,  한재원

Inventor： 정상현 ,  한재원

IPC: B01D39/00

CPC classification number: B01D39/1623 ,  B01D2239/0435 ,  B01D2239/10 ,  B03C3/366 ,  B03C3/38

Abstract: PURPOSE: To provide an apparatus for manufacturing an electrostatic filter and a method for manufacturing thereof, which use an ion shower method that injects large amount of cations and anions generated by a corona discharge into a filtration member using flow of air and passes the injected ions through a high voltage roller to arrange the ions in a right direction. CONSTITUTION: The apparatus comprises an ion shower part and rollers. The ion shower part uniformly generates a corona discharge anode and a corona discharge cathode to evenly inject negative charges and positive charges into an electrostatic filtration member (202). The ion shower part includes HEPA filters (204,212), honeycombs (206,214), a positive discharge electrode (208) and a negative electrode (216). The rollers are disposed on both sides of the electrostatic filtration member. Different polarity of electric field is applied to each of the rollers.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造静电过滤器的装置及其制造方法，其使用离子喷淋方法，其使用空气流将大量由电晕放电产生的阳离子和阴离子注入到过滤构件中并使注入的离子 通过高压辊将离子排列成正确的方向。 构成：该装置包括离子淋浴部件和滚筒。 离子淋浴部分均匀地产生电晕放电阳极和电晕放电阴极，以将负电荷和正电荷均匀地注入到静电过滤构件（202）中。 离子淋浴部分包括HEPA过滤器（204,212），蜂窝体（206,214），正放电电极（208）和负极（216）。 辊设置在静电过滤构件的两侧。 对每个辊子施加不同的电场极性。