Abstract:
본 발명은 플라즈마를 이용한 금속 배선이 함몰된 유연 기판의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 유연 기판에 관한 것으로, 상세하게는 기판 표면에 플라즈마를 조사하여 기판을 전처리하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 전처리된 기판상에 금속 배선을 형성시키는 단계(단계 2); 상기 단계 2에서 금속 배선이 형성된 기판 상부에 경화성 고분자를 코팅하고 경화시켜 금속 배선이 함몰된 고분자 층을 제조하는 단계(단계 3); 및 상기 단계 3에서 제조된 고분자 층을 단계 1의 기판과 분리시키는 단계(단계 4);를 포함하는 플라즈마를 이용한 금속 배선이 함몰된 유연 기판 의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따른 플라즈마를 이용한 금속 배선이 함몰된 유연 기판의 제조방법은 금속 배선을 유연기판 내부에 삽입된 형태로 형성시킬 수 있으며, 금속 배선의 높이에 제한되지 않고 낮은 저항의 배선을 형성시킬 수 있다. 또한, 기판 표면을 플라즈마 처리함에 따라 상기 기판으로부터 금속배선이 함몰된 유연기판을 깨끗하게 박리시킬 수 있다. 나아가, 상기 플라즈마 처리를 통해 기판 표면의 불순물을 제거할 수 있으며, 별도의 공정없이 물리적인 힘을 가하여 상기 기판으로부터 금속배선이 함몰된 유연기판을 쉽게 제거할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 금속 배선이 함몰된 유연 기판의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 유연 기판에 관한 것으로, 상세하게는 기판상에 물 또는 유기용매에 가용성인 고분 자, 또는 광분해성 고분자로 이루어지는 희생층을 코팅하는 단계(단계 1); 상기 단 계 1의 희생층 상부에 금속 배선을 형성시키는 단계(단계 2); 상기 단계 2의 금속 배선이 형성된 희생층 상부에 경화성 고분자를 코팅하고 경화시켜 금속 배선이 함 몰된 고분자 층을 제조하는 단계(단계 3); 및 상기 단계 1의 기판과 단계 3의 고분 자 층 사이에 존재하는 희생층만을 물 또는 유기 용매에 용해시키거나, 광분해시켜 제거하여, 상기 단계 1의 기판과 단계 3의 고분자 층을 분리시키는 단계(단계 4)를 포함하는 금속 배선이 함몰된 유연(flexible) 기판의 제조방법을 제공한다.
Abstract:
본 발명은 전도성 금속 박막의 제1전극; 접지전극인 제2전극; 상기 제1전극 및 상기 제2전극 사이에 위치한 절연체인 가요성 유전체층; 및 상기 유전체층과 상기 제2전극 사이에 위치한 내플라즈마성 기능성층을 포함하고, 상기 제1전극과 상기 제2전극은 외부전원에 전기적으로 접속되어 대기압 플라즈마를 생성하여 활성종을 발생시키는 것을 특징으로 하는 플렉서블 활성종 발생기에 관한 것이다. 상기 본 발명에 따른 플렉서블 활성종 발생기는 대기압 플라즈마에서 발생되는 활성종 발생기능 이외에 플라즈마에 의해 발생되는 절연체의 변형 및 분해를 방지할 수 있는 내플라즈마성 기능이 구현되어 내구성 및 안전성이 개선되어, 다양한 형태의 물품 또는 식품, 의류 및 인체에 적용이 가능한 이점이 있다.
Abstract:
본발명은전사가능한전도성배선이함입된필름의제조방법및 이에따라제조된전도성배선이함입된필름에관한것으로, 기판의표면처리를통해전사공정에서이형이용이하게처리를한 후, 후속열처리를비활성분위기에서시행함으로써표면처리효과를유지시킬수 있다. 또한, 비활성분위기에서나노잉크분해온도이상의높은온도에서열처리를함으로써나노입자조직을치밀화시켜최종적으로전극의높은전기전도도를확보하는효과가있다.