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公开(公告)号:KR1020160074073A
公开(公告)日:2016-06-28
申请号:KR1020140182862
申请日:2014-12-18
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: G01Q60/48
CPC classification number: G01Q60/24 , G01Q60/38 , G01Q60/48 , Y10S977/852
Abstract: 일실시예에따른프로브팁 제조방법은, 실리콘재질을포함하는상판및 하판, 및상기상판및 하판사이에접하도록마련되는산화막판을포함하는 SOI(silicon-on-insulator) 기판을제공하는단계; 상기 SOI 기판의상면과하면각각에 1차보호막을증착하는단계; 상기상면에증착된 1차보호막에서프로브팁의기둥부분을남기고상기상면에증착된 1차보호막을제거하는단계; 상기하면에증착된 1차보호막에서지지부부분만남기고상기하면에증착된 1차보호막을제거하는단계; 상기하면의상기 1차보호막이제거된부분의하판을산화막판까지식각하는단계; 상기상면에 2차보호막을증착하는단계; 상기상면에증착된 2차보호막에서외팔보(cantilever) 부분과지지부부분을남기고상기 2차보호막을제거하는단계; 상기상면의상기 2차보호막이제거된부분의상판을식각하는단계; 상기상면의 2차보호막을제거하는단계; 상기상판을일정한깊이까지식각하여실리콘기둥을형성하는단계; 남아있는상기상면의 1차보호막을제거하는단계; 상기실리콘기둥의옆면을포함한상기상면에 3차보호막을증착하는단계; 상기실리콘기둥끝단의테두리부분의 3차보호막을식각하는단계; 상기 3차보호막이식각된틈을통해상기실리콘기둥끝단을뾰족하게식각하는단계; 및남아있는상기보호막들을모두제거하고상기프로브팁을분리하는단계;를포함할수 있다.
Abstract translation: 根据本发明的实施例,探针尖端的制造方法包括:提供绝缘体上硅(SOI)衬底的步骤,该衬底包括上板和含有硅的下板和形成在上和 下板与上板和下板接触; 在SOI衬底的顶表面和下侧的每一个上沉积第一保护膜的步骤; 消除沉积在顶表面上的第一保护膜,同时保留沉积在顶表面上的第一保护膜的探针尖端的柱部分; 除去沉积在SOI衬底的下侧上的第一保护膜,同时保留沉积在下侧上的第一保护膜的支撑单元部分的步骤; 蚀刻下面的第一保护膜的下部的一部分被去除到氧化膜的步骤; 在顶表面上沉积第二保护膜的步骤; 除去沉积在顶表面上的第二保护膜,同时保留第二保护膜的悬臂部分和支撑单元部分的步骤; 蚀刻除去第二保护膜的上板的一部分的步骤; 从上表面除去第二保护膜的步骤; 通过以预定深度蚀刻上板来形成硅柱的步骤; 消除顶表面上剩余的第一保护膜的步骤; 在顶表面上沉积第三保护膜的步骤和硅柱的侧表面; 在所述硅柱的端部的边缘上蚀刻所述第三保护膜的一部分的步骤; 通过蚀刻第三保护膜形成的第三保护膜中的间隙蚀刻硅柱的端部以使其尖锐的步骤; 以及消除剩余的保护膜并分离探针尖端的步骤。 本发明的目的是使用硅板和氧化膜制造探针尖端。
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公开(公告)号:KR101667856B1
公开(公告)日:2016-10-20
申请号:KR1020140182862
申请日:2014-12-18
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: G01Q60/48
Abstract: 일실시예에따른프로브팁 제조방법은, 실리콘재질을포함하는상판및 하판, 및상기상판및 하판사이에접하도록마련되는산화막판을포함하는 SOI(silicon-on-insulator) 기판을제공하는단계; 상기 SOI 기판의상면과하면각각에 1차보호막을증착하는단계; 상기상면에증착된 1차보호막에서프로브팁의기둥부분을남기고상기상면에증착된 1차보호막을제거하는단계; 상기하면에증착된 1차보호막에서지지부부분만남기고상기하면에증착된 1차보호막을제거하는단계; 상기하면의상기 1차보호막이제거된부분의하판을산화막판까지식각하는단계; 상기상면에 2차보호막을증착하는단계; 상기상면에증착된 2차보호막에서외팔보(cantilever) 부분과지지부부분을남기고상기 2차보호막을제거하는단계; 상기상면의상기 2차보호막이제거된부분의상판을식각하는단계; 상기상면의 2차보호막을제거하는단계; 상기상판을일정한깊이까지식각하여실리콘기둥을형성하는단계; 남아있는상기상면의 1차보호막을제거하는단계; 상기실리콘기둥의옆면을포함한상기상면에 3차보호막을증착하는단계; 상기실리콘기둥끝단의테두리부분의 3차보호막을식각하는단계; 상기 3차보호막이식각된틈을통해상기실리콘기둥끝단을뾰족하게식각하는단계; 및남아있는상기보호막들을모두제거하고상기프로브팁을분리하는단계;를포함할수 있다.
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