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公开(公告)号：WO2018135685A1
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：PCT/KR2017/001119
申请日：2017-02-02
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 Zn 전구체 및 알칼리성 침전제를 혼합한 용액에 열을 가해 ZnO 무기주형입자를 제조하는 단계, 실리카(silica) 전구체 및 염을 상기 ZnO 무기주형입자와 반응시켜 상기 ZnO 무기주형입자 표면에 실리카 쉘을 형성하여 ZnO/실리카 코어쉘(core-shell)입자를 제조하는 단계, 상기 ZnO/실리카 코어쉘입자에서 상기 ZnO 무기주형입자를 제거하는 단계를 포함하는 중공 실리카 입자 제조방법인 것을 특징으로 한다. 본 발명은 별도의 열처리나 유기용매를 이용하지 않고 산처리 공정을 통해 용이하게 제거될 수 있는 ZnO 무기주형입자를 이용하여 중공실리카 입자를 생성하는바, 열처리 및 유기용매를 이용한 주형입자 제거 공정시 발생하는 입자 응집과 오염문제를 방지할 수 있다. 또한 ZnO 무기주형입자의 크기 및 형상을 제어함으로써 중공실리카의 중공크기를 최대화하여 중공 효율을 향상시키며, 적용분야에 따라 요구되는 중공 실리카 입자를 제공할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2017142114A1
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：PCT/KR2016/001731
申请日：2016-02-23
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: C01B33/18
CPC classification number: C01B33/18
Abstract: 발명은 과포화용액을 이용한 중공 실리카 입자 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 과포화용액 내에 존재하는 비용해 용질을 코어쉘 입자 생성을 위한 코어 재료로 이용하여 중공 실리카 입자를 생성할 수 있는 과포화용액을 이용한 중공 실리카 입자 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 (a) 용매에 용질을 투입하여 과포화용액을 생성하는 단계; (b) 상기 과포화용액에 실리카 전구체를 투입하여 상기 과포화용액에 포함된 비용해 용질 입자인 용질 코어 및 상기 실리카 전구체로부터 생성되는 실리카 쉘을 포함하는 코어쉘 입자를 생성하는 단계; 및 (c) 상기 용질 코어를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 과포화 용액에 포함된 비용해 용질을 코어쉘 입자 생성을 위한 코어 재료로써 활용하고, 이에 더하여 중공 실리카 입자 생성을 위한 코어 재료의 경우 용매에 의해 용이하게 제거될 수 있으므로 제조 과정의 간소화 및 제조 비용의 감소가 용이한 효과를 갖는다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用过饱和溶液生产中空二氧化硅颗粒的方法。 更具体地，使用芯材为成本生产本溶质的核 - 壳粒子在过饱和溶液中涉及使用能够产生的中空二氧化硅粒子的过饱和溶液制备中空二氧化硅颗粒的方法。 （A）将溶质引入溶剂中以产生过饱和溶液; （B）产生，其包括从过饱和溶液中的溶质颗粒产生到核心溶质的成本二氧化硅壳的核 - 壳颗粒，并且其中，通过将二氧化硅过饱和溶液中包含的前体中的二氧化硅前体; 和（c）去除溶质核心。 制造过程的简化，所以根据本发明可以用作芯材的成本生产出核 - 壳颗粒，包含在过饱和溶液中的溶质，此外，容易地通过用于芯材料的溶剂除去所产生的中空二氧化硅粒子 而且制造成本可以轻松降低。
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公开(公告)号：WO2019151559A1
公开(公告)日：2019-08-08
申请号：PCT/KR2018/002002
申请日：2018-02-19
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: C01B33/18 , C01G23/053
Abstract: 본 발명은 이산화타이타늄 쉘이 형성된 중공 실리카 입자의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 무기 주형 입자를 준비하는 단계, 상기 무기 주형 입자 표면에 실리콘 및 실리카를 포함하는 제1 쉘을 형성하는 단계, 상기 무기 주형 입자를 제거하여 중공 실리카 입자를 형성하는 단계 및 상기 중공 실리카 입자 표면에 이산화타이타늄을 포함하는 제2 쉘을 형성하는 단계를 포함하는 중공 실리카 입자의 제조방법에 관한 것이다.
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公开(公告)号：KR1020180089199A
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：KR1020170014023
申请日：2017-01-31
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: C01B33/021 , C01B33/18
CPC classification number: C01B33/021 , C01B33/18 , C01P2004/03 , C01P2004/34 , C01P2004/62 , C01P2004/64
Abstract: 본발명은, 중공실리콘입자및 이의제조방법에관한것으로, 실리콘및 실리카를포함하는쉘; 을포함하고, 상기실리콘대 실리카는, 1:0.01 내지 0.5 (질량비)인것인, 중공실리콘입자및 이의제조방법에관한것이다. 본발명은, 실리카를도입하여중공실리콘입자의제조공정및 제조비용을개선시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR102087011B1
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：KR1020180012095
申请日：2018-01-31
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: C01B33/18 , C01G23/053
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR102027052B1
公开(公告)日：2019-09-30
申请号：KR1020180012173
申请日：2018-01-31
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L41/193 , H01L41/187 , H01L41/37 , H01L41/317 , H01L41/39 , H01L41/45 , G01L1/16
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公开(公告)号：KR101872143B1
公开(公告)日：2018-06-27
申请号：KR1020170013896
申请日：2017-01-31
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
CPC classification number: G06F3/0414 , G06F3/0416 , G06F3/045 , G06F2203/04102 , G06F2203/04103
Abstract: 본발명은플렉시블터치스크린패널및 그의제조방법에관한것으로서, 일실시예에따른플렉시블터치스크린패널은, 상부기판상에서로평행하게형성된상부전극패턴; 하부기판상에형성되고, 상기상부전극패턴에수직한방향으로, 서로평행하게형성된하부전극패턴; 및유전체상에, 상기상부전극패턴및 상기하부전극패턴의평면도상 교차지점사이에배치되는산화그래핀아일랜드를포함하는유전체층;을포함한다.
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公开(公告)号：KR1020180126270A
公开(公告)日：2018-11-27
申请号：KR1020170061102
申请日：2017-05-17
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단 , (주) 우석켐
Abstract: 본발명은자외선차단용실리카계복합분체에관한것으로, 보다상세하게는다공성실리카; 상기다공성실리카의기공내부의표면에도핑된무기계자외선차단제; 상기다공성실리카의기공내부에함침된유기계자외선차단제; 및상기다공성실리카의외부표면에코팅된코팅층을포함하는자외선차단용실리카계복합분체, 이의제조방법및 이를포함하는조성물을제공한다.
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公开(公告)号：KR101888296B1
公开(公告)日：2018-08-13
申请号：KR1020170014023
申请日：2017-01-31
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: C01B33/021 , C01B33/18
Abstract: 본발명은, 중공실리콘입자및 이의제조방법에관한것으로, 실리콘및 실리카를포함하는쉘; 을포함하고, 상기실리콘대 실리카는, 1:0.01 내지 0.5 (질량비)인것인, 중공실리콘입자및 이의제조방법에관한것이다. 본발명은, 실리카를도입하여중공실리콘입자의제조공정및 제조비용을개선시킬수 있다.
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