公开(公告)号：WO2017142114A1

公开(公告)日：2017-08-24

申请号：PCT/KR2016/001731

申请日：2016-02-23

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  이영철 ,  문성철 ,  이지선

IPC: C01B33/18

CPC classification number: C01B33/18

Abstract: 발명은 과포화용액을 이용한 중공 실리카 입자 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 과포화용액 내에 존재하는 비용해 용질을 코어쉘 입자 생성을 위한 코어 재료로 이용하여 중공 실리카 입자를 생성할 수 있는 과포화용액을 이용한 중공 실리카 입자 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 (a) 용매에 용질을 투입하여 과포화용액을 생성하는 단계; (b) 상기 과포화용액에 실리카 전구체를 투입하여 상기 과포화용액에 포함된 비용해 용질 입자인 용질 코어 및 상기 실리카 전구체로부터 생성되는 실리카 쉘을 포함하는 코어쉘 입자를 생성하는 단계; 및 (c) 상기 용질 코어를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 과포화 용액에 포함된 비용해 용질을 코어쉘 입자 생성을 위한 코어 재료로써 활용하고, 이에 더하여 중공 실리카 입자 생성을 위한 코어 재료의 경우 용매에 의해 용이하게 제거될 수 있으므로 제조 과정의 간소화 및 제조 비용의 감소가 용이한 효과를 갖는다.

Abstract translation: 本发明涉及一种使用过饱和溶液生产中空二氧化硅颗粒的方法。 更具体地，使用芯材为成本生产本溶质的核 - 壳粒子在过饱和溶液中涉及使用能够产生的中空二氧化硅粒子的过饱和溶液制备中空二氧化硅颗粒的方法。 （A）将溶质引入溶剂中以产生过饱和溶液; （B）产生，其包括从过饱和溶液中的溶质颗粒产生到核心溶质的成本二氧化硅壳的核 - 壳颗粒，并且其中，通过将二氧化硅过饱和溶液中包含的前体中的二氧化硅前体; 和（c）去除溶质核心。 制造过程的简化，所以根据本发明可以用作芯材的成本生产出核 - 壳颗粒，包含在过饱和溶液中的溶质，此外，容易地通过用于芯材料的溶剂除去所产生的中空二氧化硅粒子 而且制造成本可以轻松降低。

公开(公告)号：KR1020180089199A

公开(公告)日：2018-08-08

申请号：KR1020170014023

申请日：2017-01-31

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  이영철 ,  노경재 ,  이지선 ,  문성철 ,  김용우

IPC: C01B33/021 ,  C01B33/18

CPC classification number: C01B33/021 ,  C01B33/18 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/34 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64

Abstract: 본발명은, 중공실리콘입자및 이의제조방법에관한것으로, 실리콘및 실리카를포함하는쉘; 을포함하고, 상기실리콘대 실리카는, 1:0.01 내지 0.5 (질량비)인것인, 중공실리콘입자및 이의제조방법에관한것이다. 본발명은, 실리카를도입하여중공실리콘입자의제조공정및 제조비용을개선시킬수 있다.

公开(公告)号：KR101689153B1

公开(公告)日：2016-12-23

申请号：KR1020150013472

申请日：2015-01-28

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  차지민 ,  문성철 ,  김현석 ,  윤영우

IPC: H01L21/033 ,  H01L21/027

Abstract: 본발명은재사용이가능하고공정방식에따른사용제한이없는나노쉐도우마스크를제조하는방법에관한것으로, 기판표면에희생층을형성하는단계; 상기희생층위에폴리머막을형성하는단계; 상기폴리머막에집속이온빔으로나노패턴을형성하는단계; 및상기희생층을제거하는방법으로상기나노패턴이형성된폴리머막을상기기판에서분리하여나노쉐도우마스크를제조하는단계를포함하는것을특징으로한다. 본발명은, 집속이온빔을이용하여나노패턴을형성한쉐도우마스크를전사하여사용함으로써, 패턴의크기및 형상의제어가편리한집속이온빔장치로마스크를제조하여증착공정의종류에무관하게적용이가능한쉐도우마스크를제조할수 있는효과가있다. 또한, 쉐도우마스크의손상없이전사함으로써재전사가가능하기때문에서, 반복적인증착공정에하나의쉐도우마스크를재전사하여사용할수 있는효과가있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种纳米图案阴影掩模的制造方法，其可重复使用，并且不管使用方法如何，都不受限制。 该方法包括：在衬底的表面上形成牺牲层; 在牺牲层上形成聚合物层; 通过使用聚焦离子束在聚合物层上形成纳米图案; 并且去除牺牲层以将具有纳米图案的聚合物层与基底分离，由此制造纳米图案化的荫罩。 由于本发明被配置为传送和使用具有由聚焦离子束形成的纳米图案的荫罩，所以具有能够以能够容易地控制尺寸的聚焦离子束系统制造荫罩的效果 和图案的形状，因此可以使用荫罩，而不管沉积工艺的类型如何。 此外，转印是可能的，而不会对荫罩造成损害，因此可以在沉积工艺中重复使用一个荫罩。

公开(公告)号：KR101888296B1

公开(公告)日：2018-08-13

申请号：KR1020170014023

申请日：2017-01-31

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  이영철 ,  노경재 ,  이지선 ,  문성철 ,  김용우

IPC: C01B33/021 ,  C01B33/18

Abstract: 본발명은, 중공실리콘입자및 이의제조방법에관한것으로, 실리콘및 실리카를포함하는쉘; 을포함하고, 상기실리콘대 실리카는, 1:0.01 내지 0.5 (질량비)인것인, 중공실리콘입자및 이의제조방법에관한것이다. 본발명은, 실리카를도입하여중공실리콘입자의제조공정및 제조비용을개선시킬수 있다.

公开(公告)号：KR1020170096820A

公开(公告)日：2017-08-25

申请号：KR1020160018551

申请日：2016-02-17

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  이영철 ,  문성철 ,  이지선

IPC: C01B33/18

CPC classification number: C01B33/18

Abstract: 본발명은과포화용액을이용한중공실리카입자제조방법에관한것이다. 보다상세하게는과포화용액내에존재하는비용해용질을코어쉘입자생성을위한코어재료로이용하여중공실리카입자를생성할수 있는과포화용액을이용한중공실리카입자제조방법에관한것이다. 본발명은 (a) 용매에용질을투입하여과포화용액을생성하는단계; (b) 상기과포화용액에실리카전구체를투입하여상기과포화용액에포함된비용해용질입자인용질코어및 상기실리카전구체로부터생성되는실리카쉘을포함하는코어쉘입자를생성하는단계; 및 (c) 상기용질코어를제거하는단계를포함하는것을특징으로한다. 본발명에의하면과포화용액에포함된비용해용질을코어쉘입자생성을위한코어재료로써활용하고, 이에더하여중공실리카입자생성을위한코어재료의경우용매에의해용이하게제거될수 있으므로제조과정의간소화및 제조비용의감소가용이한효과를갖는다.

Abstract translation: 本发明涉及使用过饱和溶液制造中空二氧化硅颗粒的方法。 更具体地，本发明涉及一种制造使用能够创建用作由存在于过饱和溶液中的溶质的成本生产的核 - 壳粒子的芯材的中空二氧化硅颗粒的过饱和溶液的中空二氧化硅颗粒的方法。 （A）将溶质引入溶剂中以产生过饱和溶液; （b）将二氧化硅前体引入过饱和溶液中以产生包含过饱和溶液中含有的挥发性溶质颗粒粒子核和由二氧化硅前体制备的二氧化硅壳的核壳粒子; 和（c）去除溶质核心。 根据本发明，过饱和溶液中所含的分解溶质被用作制造核壳颗粒的核心材料，另外，用于生产中空二氧化硅颗粒的核心材料可容易地通过溶剂除去， 很容易降低制造成本。

公开(公告)号：KR1020160092730A

公开(公告)日：2016-08-05

申请号：KR1020150013472

申请日：2015-01-28

Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단

Inventor： 이성의 ,  차지민 ,  문성철 ,  김현석 ,  윤영우

IPC: H01L21/033 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0337 ,  H01L21/0273

Abstract: 본발명은재사용이가능하고공정방식에따른사용제한이없는나노쉐도우마스크를제조하는방법에관한것으로, 기판표면에희생층을형성하는단계; 상기희생층위에폴리머막을형성하는단계; 상기폴리머막에집속이온빔으로나노패턴을형성하는단계; 및상기희생층을제거하는방법으로상기나노패턴이형성된폴리머막을상기기판에서분리하여나노쉐도우마스크를제조하는단계를포함하는것을특징으로한다. 본발명은, 집속이온빔을이용하여나노패턴을형성한쉐도우마스크를전사하여사용함으로써, 패턴의크기및 형상의제어가편리한집속이온빔장치로마스크를제조하여증착공정의종류에무관하게적용이가능한쉐도우마스크를제조할수 있는효과가있다. 또한, 쉐도우마스크의손상없이전사함으로써재전사가가능하기때문에서, 반복적인증착공정에하나의쉐도우마스크를재전사하여사용할수 있는효과가있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种制造纳米阴影掩模的方法，所述纳米阴影掩模可根据工艺方法重新使用且不受使用限制，所述方法包括：在衬底的表面上形成牺牲层; 在牺牲层上形成聚合物膜; 通过聚焦离子束在聚合物膜上形成纳米图案; 并且通过去除牺牲层以形成纳米荫罩的方法从衬底分离纳米基质形成的聚合物膜。 本发明中，通过使用阴影掩模的转移通过使用聚焦离子束，图案尺寸的控制，以形成纳米图案和形状方便FIB设备以产生掩模有能够不管应用沉积工艺阴影的类型的 有一个可以制造面具的效果。 另外，由于可以在不损坏荫罩的情况下通过转移荫罩来执行转移，所以具有这样的效果，即一个荫罩能够被重新转移并用于重复沉积过程。