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公开(公告)号:KR101367648B1
公开(公告)日:2014-02-28
申请号:KR1020110083820
申请日:2011-08-23
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단 , (주)폴리원테크놀로지
Abstract: 본 발명은 변성 폴리페닐렌 옥사이드(modified polyphenylene oxide), 하이 임팩트 폴리스티렌(high impact polystyrene) 및 범용 폴리스티렌(general purpose polystyrene)을 포함하는 수지 베이스; 유리섬유(glass fiber); 및 실리콘계 커플링제를 포함하는 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명을 통하여 우수한 내열성, 기계적 특성 및 물리적 특성을 유지하면서, 적합하면서도 일정한 표면 저항을 갖는 수지 조성물을 얻을 수 있다.-
公开(公告)号:KR101312985B1
公开(公告)日:2013-10-01
申请号:KR1020110053426
申请日:2011-06-02
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단 , (주)폴리원테크놀로지
IPC: C08L23/04 , C08L31/04 , C08K3/04 , C08L101/12
Abstract: 본 발명은 대전방지용 반도전성 수지 조성물 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 폴리에틸렌, 에틸렌 비닐 아세테이트 및 카본 블랙을 적절히 포함하는 대전방지용 반도전성 수지 조성물 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명을 통해 개선된 표명 저항을 지니면서도 인장강도와 신장률의 물리적 특성이 우수하고 압출가공성이 뛰어난 대전방지용 반도전성 수지 조성물 및 그의 제조방법을 제공한다.
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公开(公告)号:KR1020130021527A
公开(公告)日:2013-03-06
申请号:KR1020110083820
申请日:2011-08-23
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단 , (주)폴리원테크놀로지
Abstract: PURPOSE: A resin composition is provided to have moderate surface resistance and excellent physical and mechanical properties without generating carbon dusts. CONSTITUTION: A resin composition comprises a modified polyphenylene oxide, high impact polystyrene, and general purpose polystyrene; a glass fiber; and a silicone-based coupling agent. The composition ratio of the polyphenylene oxide, high impact polystyrene, and general purpose polystyrene in the base resin is 70-90 weight%:5-20weight%:5-20 weight% in order. The included amount of the glass fiber is 5-30 parts by weight based on 100.0 parts by weight of the resin base.
Abstract translation: 目的:提供树脂组合物以具有中等的表面电阻和优异的物理和机械性能而不产生碳粉尘。 构成:树脂组合物包含改性聚苯醚,高抗冲聚苯乙烯和通用聚苯乙烯; 玻璃纤维; 和硅氧烷基偶联剂。 基础树脂中聚苯醚,高抗冲聚苯乙烯和通用聚苯乙烯的组成比为70-90重量%:5-20重量%:5-20重量%。 玻璃纤维的含量相对于树脂基质的100.0重量份为5-30重量份。
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公开(公告)号:KR102253407B1
公开(公告)日:2021-05-18
申请号:KR1020200010056
申请日:2020-01-28
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Abstract: 본발명은우수한절연성을나타내어트랙킹억제특성을갖으며, 우수한가공성, 내열성, 내후성및 난연성을가지는난연성폴리올레핀계수지조성물및 이를이용한고압전선에관한것이다.
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公开(公告)号:KR101473523B1
公开(公告)日:2014-12-17
申请号:KR1020120020947
申请日:2012-02-29
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단 , (주)폴리원테크놀로지
IPC: C09D109/06 , C09D5/00 , C09D5/24 , C09D133/24
Abstract: 본발명은아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌공중합체(Acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, ABS) 수지 60 내지 90중량부; 및스티렌-에틸렌-부틸렌-스틸렌(Styrene-Ethylene-Butylene-Styrene, SEBS) 또는스티렌-부틸렌-스티렌(Styrene-Butylene-Styrene, SBS) 수지 10 내지 60중량부의비율로이루어진공중합체수지혼합물 100중량부; 폴리에테르블록아미드(Polyether block amides) 10 ~ 30중량부; UV 안정제 0.1 ~ 1중량부; 산화방지제는 0.1 ~ 1중량부; 분산제 0.1 ~ 0.5중량부를포함하는 IC TRAY용대전방지코팅조성물에관한것이다. 본발명에의하면, 영구대전방지특성을구현하면서카본블랙등의입자를사용을하지않아, 다양한색상의제품이가능하고분진및 오염물질의문제도해결할수 있을뿐만아니라, 코팅된파이프의표면저항이 10~10&OHgr;의범위가되며, 파이프의인장강도및 내충격성을향상시킬수 있는 IC TRAY용대전방지코팅조성물을제공할수 있다.
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公开(公告)号:KR1020120134500A
公开(公告)日:2012-12-12
申请号:KR1020110053426
申请日:2011-06-02
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단 , (주)폴리원테크놀로지
IPC: C08L23/04 , C08L31/04 , C08K3/04 , C08L101/12
Abstract: PURPOSE: An antistatic semiconductive resin composition is provided to have superior extrusion processability and excellent physical properties such as a tensile strength while having a surface resistance within a moderate range. CONSTITUTION: An antistatic semiconductive resin composition comprises polyethylene, ethylene vinyl acetate and carbon black. The sum of p+q+r, where p is the weight% of the polyethylene and the q is the weight% of the ethylene vinyl acetate and r is the weight% of the carbon black based on the total weight of the semiconductive resin composition, p is 108-2r - 118-2r q is r-18 - r-11, and r is 21-29. [Reference numerals] (S10) Putting raw material in; (S20) Mixing; (S30) Extruding; (S40) Cooling/cutting
Abstract translation: 目的:提供抗静电半导体树脂组合物,以具有优异的挤出加工性和优异的物理性能,例如抗拉强度,同时具有在适度范围内的表面电阻。 构成:抗静电半导体树脂组合物包含聚乙烯,乙烯 - 乙酸乙烯酯和炭黑。 p + q + r的总和,其中p是聚乙烯的重量%,q是乙烯乙酸乙烯酯的重量%,r是基于半导体树脂组合物的总重量的炭黑的重量% ,p为108-2r-118-2r q为r-18-r-11,r为21-29。 (附图标记)(S10)将原料放入; (S20)混合; (S30)挤压; (S40)冷却/切割
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公开(公告)号:KR1020130099439A
公开(公告)日:2013-09-06
申请号:KR1020120020947
申请日:2012-02-29
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단 , (주)폴리원테크놀로지
IPC: C09D109/06 , C09D5/00 , C09D5/24 , C09D133/24
CPC classification number: C09D155/02 , C09D5/24 , C09D109/06 , C09D125/10
Abstract: PURPOSE: An antistatic coating composition for an IC tray is provided to manufacture a product in various colors and to solve dust and contaminant problems as the antistatic coating composition is capable of realizing permanent antistatic property and does not use particles, such as carbon black. CONSTITUTION: An antistatic coating composition for an IC tray comprises 100.0 parts by weight of a copolymer resin, 10 to 30 parts by weight of polyether block amides, 0.1 to 1 part by weigh to a UV stabilizer, 0.1 to 1 part by weight of antioxidant, and 0.1 to 0.5 part by weight of a dispersing agent. The copolymer resin is formed 60 to 90 parts by weight of an acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS) resin; and 10 to 60 parts by weight of a styrene-ethylene-butylene-styrene (SEBS) resin or a styrene-butylene-styrene (SBS) resin.
Abstract translation: 目的:提供用于IC托盘的抗静电涂料组合物,以制造各种颜色的产品并解决灰尘和污染问题,因为抗静电涂料组合物能够实现永久抗静电性能,并且不使用诸如炭黑的颗粒。 构成:用于IC托盘的抗静电涂料组合物包含100.0重量份的共聚物树脂,10-30重量份的聚醚嵌段酰胺,0.1-1重量份的UV稳定剂,0.1-1重量份的抗氧化剂 ,和0.1〜0.5重量份的分散剂。 共聚物树脂形成60至90重量份的丙烯腈 - 丁二烯 - 苯乙烯共聚物(ABS)树脂; 和10至60重量份的苯乙烯 - 乙烯 - 丁烯 - 苯乙烯(SEBS)树脂或苯乙烯 - 丁烯 - 苯乙烯(SBS)树脂。
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