산화물 기반의 고 유연성 투명전극
    1.
    发明公开
    산화물 기반의 고 유연성 투명전극 有权
    高柔性和透明电极基氧化物

    公开(公告)号:KR1020140117155A

    公开(公告)日:2014-10-07

    申请号:KR1020130032237

    申请日:2013-03-26

    Abstract: An oxide based highly flexible transparent electrode according to the present invention has a highly flexible characteristic which can be applied to a highly flexible display device, which is a next generation display, and concurrently has excellent electrical and optical characteristics. The transparent electrode is manufactured by a first step of preparing a flexible substrate made of glass or polymer; a second step of fixating the substrate at a rotator arranged within a chamber to be rotatable, generating a vacuum by a high vacuum pump, a low vacuum pump and a vacuum pump, and adjusting the density of plasma and adjusting an indium content in overall thickness and materials of a ZITO:Ga or ZITO:Al thin film to form (deposit) the ZITO:Ga or ZITO:Al thin film by applying RF power to each of a first sputter gun equipped with a ZnO target doped with group 3 elements (Ga, Al) and a second sputter gun equipped with an ITO target; and a third step of performing heat treatment for the substrate that has passed the second step, at 200-300°C for 50-70 seconds. The present invention provides the oxide based highly flexible transparent electrode by optimizing process conditions when manufacturing a multi-component metal oxide based transparent electrode made of ZnO-ITO doped with the 3 group elements, to have excellent electrical characteristics and high light transmittance as well as high flexibility and to reduce usage of indium which is a main material of the ITO and a rare earth metal.

    Abstract translation: 根据本发明的基于氧化物的高柔性透明电极具有高度灵活的特性,其可以应用于作为下一代显示器的高度柔性的显示装置,并且同时具有优异的电气和光学特性。 通过制备由玻璃或聚合物制成的柔性基底的第一步制造透明电极; 将基板固定在室内的旋转体上以便可旋转的第二步骤,通过高真空泵,低真空泵和真空泵产生真空,并调节等离子体的密度并调整铟的总厚度 和ZITO:Ga或ZITO:Al薄膜的材料,通过向配备有掺杂有3族元素的ZnO靶的第一溅射枪施加RF功率来形成(沉积)ZITO:Ga或ZITO:Al薄膜 Ga,Al)和配备有ITO靶的第二溅射枪; 对经过第二工序的基板进行热处理,在200〜300℃下进行50〜70秒的第三工序。 本发明通过在制造掺杂有3组元素的ZnO-ITO制成的多组分金属氧化物基透明电极的工艺条件下优化提供氧化物高柔性透明电极,具有优异的电特性和高透光率 高灵活性和减少作为ITO和稀土金属的主要材料的铟的使用。

    원통형 스퍼터링 캐소드
    2.
    发明公开
    원통형 스퍼터링 캐소드 无效
    圆柱喷雾阴极

    公开(公告)号:KR1020160089952A

    公开(公告)日:2016-07-29

    申请号:KR1020150009502

    申请日:2015-01-20

    CPC classification number: C23C14/3407 C23C14/35

    Abstract: 본발명은, 원통형의스퍼터링타깃(10), 스퍼터링타깃(10)의내부에스퍼터링타깃(10)의길이방향으로배치되며자기장을형성하는마그넷(20), 마그넷(20)을지지하는마그넷지지유닛(30)을포함하고, 마그넷(20)은스퍼터링타깃(10)의내주면과간극(G)을두고대면하는대향면(22)을가지며대향면(22)이스퍼터링타깃(10)의내주에대응되는곡률을갖도록형성된원통형스퍼터링캐소드를제공한다.

    Abstract translation: 本发明提供一种圆柱形溅射阴极,包括:圆柱形溅射靶(10); 在所述溅射靶(10)内沿所述溅射靶(10)的纵向布置的磁体(20),形成磁场; 以及支撑所述磁体(20)的磁体支撑单元(30)。 所述磁体(20)具有与所述溅射靶(10)的内周面对置的相反面(22),同时留有间隙(G),所述相对面(22)形成为具有与所述内周 的溅射靶(10)。

    산화물 기반의 고 유연성 투명전극
    3.
    发明授权
    산화물 기반의 고 유연성 투명전극 有权
    高柔性和透明电极基氧化物

    公开(公告)号:KR101449258B1

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:KR1020130032237

    申请日:2013-03-26

    Abstract: 본 발명에 따른 산화물 기반의 고 유연성 투명전극은 차세대 디스플레이인 고 유연 디스플레이 소자에 적용할 수 있는 고유연의 특성을 갖으며 동시에 전기적, 광학적 특성이 뛰어난 투명 전극에 관한 것으로 유리 또는 폴리머 소재의 유연한 기판을 준비하는 제 1단계와 상기의 기판을 챔버내에 구비된 로테이터에 회전가능토록 고정한 후 고진공 펌프와 저진공 펌프 및 진공 벨브에 의하여 진공을 발생시키고, 3족 원소(Ga, Al)가 도핑된 ZnO 타겟(target)을 장착한 제 1스퍼터건과 ITO 타겟을 장착한 제 2스퍼터건에 각각 RF파워를 가함으로써 플라즈마 밀도를 조절하여 ZITO:Ga 또는 ZITO:Al 박막의 전체적인 두께와 물질에서 In(인듐)이 차지하는 함량을 조절하여 ZITO:Ga 또는 ZITO:Al의 박막을 형성(증착)하는 제 2단계 및 상기의 제 2단계를 완료한 기판을 200℃~300℃에 서 50초~70초 동안 열처리하는 제 3단계로 제작되어 고 유연성을 가지는 것은 물론이고 우수한 전기적 특성과 높은 광투과율을 가지며 ITO의 주된 물질이자 희토류 금속인 인듐의 사용량을 감소시킬 수 있도록 3족 원소가 도핑된 ZnO-ITO의 다성분계 금속산화물계 투명 전극으로 다성분 금속 산화물계 투명전극의 제조 시 공정 조건 등을 최적화시킴으로써 산화물 기반의 고 유연성 투명전극을 제공하는 효과가 있다.

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