Abstract:
본 발명은 배기가스가 다방향으로 관통하도록 다수의 공극을 형성한 다공극성 티타늄 또는 알루미늄 금속 구조체를 파우더 또는 허니컴 형태가 아닌 금속 입체 구조물로 제조하고, 상기 다공극성 금속 구조체 상에 고비표면적을 가지는 세라믹(티타니아 또는 알루미나) 나노튜브를 성장시켜 상기 세라믹 나노튜브 내부 및 외부 표면에 소량의 활성금속을 나노박막층으로 고분산 증착 또는 담지시킴으로써, 생산성 및 경제성이 우수할 뿐만 아니라 촉매 성능이 우수한 고효율의 선박용 탈질 촉매에 관한 것이다. 또한, 본 발명에 따른 선박용 탈질 촉매는 탈질 시스템의 구조에 따라 상기 다공극성 금속 구조체의 형상을 원형, 사각형 등 다양한 형태로 변화시킬 수 있으므로, 선박 내 한정된 공간에서 최소화 및 최적화하여 설치할 수 있을 뿐만 아니라 설치가 용이하고 유지보수 및 관리가 편리하다.
Abstract:
본 발명은 가공물테이블의 기준면에 대하여 공구의 위치를 자동으로 세팅할 수 있는 공구위치 세팅장치 및 그것을 이용한 공구위치 세팅방법에 관한 것이다. 본 발명은 가공물테이블에 설치되어 접촉하는 물체의 변위를 측정하는 제1변위측정수단과, 공구가 설치된 공구설치부재와 결합되어 함께 이동하는 것으로서 물체의 변위를 측정하는 제2변위측정수단과, 상기 공구설치부재의 이동변위를 측정하는 제3변위측정수단과, 상기 기준면을 향해 공구설치부재를 이송시키는 제1이송기와, 상기 기준면과 평행한 방향으로 가공물테이블 또는 공구설치부재를 이송시키는 제2이송기, 및 상기 제1변위측정수단과 제2변위측정수단과 제3변위측정수단의 측정값을 획득하여 공구의 위치를 확인하는 제어기를 포함한다.
Abstract:
본 발명에 따른 저온 침탄처리방법은, 대상금속에 전처리를 수행하는 (a)단계, 상기 대상금속을 반응챔버에 투입하고, 설정온도로 승온시키는 (b)단계, 상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하고, 반응가스를 기 설정된 압력으로 주입하여 침탄을 가속시키는 (c)단계, 상기 반응챔버에 반응가스를 상기 (c)단계의 반응가스의 압력 이하로 공급하여 침탄을 확산시키는 (d)단계 및 상기 (c)단계 및 상기 (d)단계를 기 설정된 시간 간격으로 반복 수행하는 (e)단계를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 다공극성 세라믹 3차원 입체 망상 구조체를 이용한 선박용 탈질 촉매 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 다공극성 세라믹 3차원 입체 망상 구조체 내부 및 외부 표면 상에 최소량의 활성금속을 나노박막층으로 증착 또는 담지하여 고분산된 고효율의 선박용 탈질 촉매 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 음향감지센서 및 하중측정센서를 이용하여 가공상태를 감시하고 이상상태의 종류를 판별하는 와이어소의 감시장치에 관한 것이다. 본 발명은, 하부플레이트와 설정간격을 두고 하부플레이트의 상측에 위치하는 상부플레이트와, 상기 하부플레이트에 설치되어 음향을 감지하는 음향감지센서와, 상기 하부플레이트 또는 상부플레이트에 설치되어 상기 하부플레이트가 전달받는 하중을 감지하는 하중측정센서와, 상기 하부플레이트가 상부플레이트와 상기 설정간격을 유지하도록 하고 외력에 의해 하부플레이트가 상부플레이트를 향해 접근하는 것을 허용하는 상태로 상기 하부플레이트와 상부플레이트를 서로 체결하는 체결수단과, 상기 음향감지센서와 하중측정센서의 감지신호를 전송받아 가공상태의 이상유무를 판단하는 컨트롤러를 포함한다.
Abstract:
본 발명에 따른 금속표면처리장치는, 표면 처리가 가능한 온도로 가열된 대상금속을 표면처리하는 금속표면처리장치에 있어서, 상기 대상금속의 외면 형상에 대응되는 형상으로 이루어져 상기 대상금속의 외면과 일정 간격 이내에 배치되며, 상기 대상금속의 적어도 일부를 수용하는 반응챔버 및 상기 반응챔버 내에 수용된 대상금속 측으로 자기촉매반응에 필요한 처리가스를 공급하는 처리가스공급부를 포함한다. 그리고 이를 이용한 금속표면처리방법은, 대상금속의 외면 형상에 대응되는 형상으로 이루어져 상기 대상금속의 외면과 일정 간격 이내에 배치되며, 상기 대상금속의 적어도 일부를 수용하는 반응챔버 내에 대상금속을 위치시키는 단계 및 처리가스공급부를 통해 상기 반응챔버 내에 처리가스를 공급하여 상기 대상금속에 자기촉매반응에 의한 처리가스층을 형성하는 단계를 포함한다.