Abstract:
본 발명은, 투명 플라스틱 기판 위에 산화아연계 투명 도전박막을 스퍼터링으로 증착시켜 투명 도전필름을 제조하는 방법에 있어서, 플라스틱 기판을 연화점(glass transition temperature) 미만에서 가스 탈착(outgasing) 처리한 후 증착을 수행함으로서 비저항값을 낮출 수 있을 뿐만 아니라 우수한 공정 재현성을 제공할 수 있는 산화아연계 투명 도전필름의 제조방법 및 이에 의해 제조된 산화아연계 투명 도전필름에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 스퍼터링 공정 이전에 먼저 플라스틱 기판 내부에 존재하는 수분, 산소, 가소제 성분 등의 불순물 가스를 스퍼터링 증착챔버 밖의 진공 가열장치에서 미리 제거함으로써, 증착챔버 내부의 오염을 막아 비저항을 크게 개선할 수 있을 뿐 아니라 공정 재현성도 우수하고 전기적 특성도 우수한 산화아연계 투명 도전필름을 얻을 수가 있다. 플라스틱 기판, 산화아연(ZnO), 가스 탈착(outgasing), 불순물 가스
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of a zinc oxide based transparent conductive film is provided to prevent impure gas from emitting from a plastic substrate even if deposition is made in a vacuum state since the zinc oxide based transparent conductive film is deposited on the plastic substrate by sputtering after gas is removed from the plastic substrate in a separate vacuum heating device outside a sputtering deposition chamber. CONSTITUTION: A manufacturing method of a zinc oxide based transparent conductive film comprises next steps. A transparent plastic substrate is charged in a vacuum heating device. Impure gas is removed from the vacuum heating device, a rotary pump operates to become a vacuum state and air is discharged until pressure becomes 1×10-2Torr or less. Thermal treatment is made at a temperature of below a softening point of the transparent plastic substrate and impure gas is discharged from the transparent plastic substrate. The operation of the rotary pump stops and the transparent plastic substrate, from which impure gas has been removed, is unloaded.