Abstract:
본 발명은 가공성이 개선된 다공체 및 그 제조방법과 가공방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 용액상태의 단위체 또는 부분중합체, 또는 용융상태의 수지를 마련하는 단계; 상기 용액상태의 단위체 또는 부분중합체, 또는 용융상태의 수지에 다공체를 침잠하여 수지가 다공체의 기공에 침투되도록 하는 단계; 및 상기 다공체에 침투된 수지를 광중합, 열중합 또는 냉각에 의하여 경화시키거나 응고시키는 단계;를 포함하여 구성되는 가공성이 개선된 다공체의 제조방법을 제공한다.
Abstract:
본 발명은 3차원 곡면 표면을 갖는 임플란트용 기재상의 패턴 형성방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 표면이 3차원의 곡면을 이루는 기재의 표면에 소수성을 부여하는 단계; 상기 소수성이 부여된 기재의 표면에 포토레지스트를 코팅하는 단계; 상기 포토레지스트가 코팅된 기재의 표면에 패턴화된 마스크를 부착하거나 이격하여 마스킹 하는 단계; 상기 기재의 길이방향을 관통하는 가상의 선을 축으로 하여 회전하면서 상기 기재를 노광하는 단계; 및 상기 노광되거나 노광되지 않은 포토레지스트를 제거하고 에칭하는 단계;를 포함하여 구성되는 3차원의 곡면 표면을 갖는 임플란트용 기재상의 패턴 형성방법 및 형성장치를 제공한다. 이상과 같은 본 발명에 따르면, 통상 2차원 평면상에 패턴을 형성하는 포토리소그래피 공정을 3차원의 곡면 표면을 갖는 기재상에서도 가능하도록 함으로써 임플란트와 같은 실린더 타입의 구조물에도 패턴을 직접 형성하는 것이 가능하며, 임플란트와 같은 실린더 타입의 구조물에도 패턴을 형성하는 것이 가능하도록 함으로써, 임플란트를 완제품으로 제조하고, 패턴을 형성할 수 있도록 하여, 패턴 형성 공정을 용이하고 간이하게 수행할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 임플란트에 있어서, 상기 임플란트의 표면의 적어도 상부에 형성되며, 버프 가공에 의하여 부여된 대체로 일방향의 복수의 스크래치와, 상기 스크래치의 표면에 형성되는 산화층을 포함하여 구성되는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트를 제공한다. 이와 같이 방향성 스크래치가 형성된 임플란트는 샌드블라스트와 같은 통상적인 표면처리를 통한 임플란트와 치조골내 치밀골 및/또는 해면골과의 고정력을 향상시키는 효과를 동일하게 구유함은 물론, 그 표면에 형성된 산화층이 방향성 스크래치와 마찬가지로 방향성을 가지는 바, 스크래치 부분을 포함하여 임플란트 표면에 전반적으로 균질하게 산화층이 형성되도록 하며, 치조골 조직과의 반응성을 보다 향상시켜 임플란트와 치조골의 고정력을 배가하는 효과가 기대된다.
Abstract:
PURPOSE: A zinc oxide thin film for a transparent conductive layer, a flat panel display using the same, a lighting device, and manufacturing methods thereof are provided to reduce manufacturing costs by using the zinc oxide thin film. CONSTITUTION: A transparent conductive layer(150) is formed on a substrate by using zinc oxide conductive materials doped with III group elements like gallium and aluminum. A surface layer(155) with a nano crystal state is formed on the transparent conductive layer. The thickness of the surface layer is 2 to 20 nm. The surface is deposited by a sputtering process.
Abstract:
PURPOSE: A patterning device on a substrate with a three dimensional surface is provided to easily and simply conduct a patterning process, to simplify the structure thereof, thereby providing a photolithography device which is easy to use. CONSTITUTION: A patterning method on a substrate with a three dimensional surface comprises: a step of applying hydrophobic property to the surface of the substrate; a step of coating the surface with a photoresist; a step of attaching a patterned mask to the surface; a step of exposing the substrate while rotating on a virtual axis which penetrates through the substrate in a longitudinal direction; and a step of removing and etching unexposed parts of the photoresist.
Abstract:
본발명은다공성입자및 다공성입자에담지된항균물질을포함하는항균물질을갖는다공성입자에관한것으로, 본발명의항균물질을갖는다공성입자는치과용인상재의항균제첨가량을제어하고치과용인상재와항균제가분리되지않도록안정성을향상시킬수 있고, 항균물질을갖는다공성입자의제조시 에멀젼법을이용하여입자의크기및 입자기공의크기를조절할수 있다.