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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101346606B1
公开(公告)日：2014-01-06
申请号：KR1020110094457
申请日：2011-09-20
Applicant: 한국세라믹기술원
Abstract: 본 발명은 3차원 곡면 표면을 갖는 임플란트용 기재상의 패턴 형성방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 표면이 3차원의 곡면을 이루는 기재의 표면에 소수성을 부여하는 단계; 상기 소수성이 부여된 기재의 표면에 포토레지스트를 코팅하는 단계; 상기 포토레지스트가 코팅된 기재의 표면에 패턴화된 마스크를 부착하거나 이격하여 마스킹 하는 단계; 상기 기재의 길이방향을 관통하는 가상의 선을 축으로 하여 회전하면서 상기 기재를 노광하는 단계; 및 상기 노광되거나 노광되지 않은 포토레지스트를 제거하고 에칭하는 단계;를 포함하여 구성되는 3차원의 곡면 표면을 갖는 임플란트용 기재상의 패턴 형성방법 및 형성장치를 제공한다.
이상과 같은 본 발명에 따르면, 통상 2차원 평면상에 패턴을 형성하는 포토리소그래피 공정을 3차원의 곡면 표면을 갖는 기재상에서도 가능하도록 함으로써 임플란트와 같은 실린더 타입의 구조물에도 패턴을 직접 형성하는 것이 가능하며, 임플란트와 같은 실린더 타입의 구조물에도 패턴을 형성하는 것이 가능하도록 함으로써, 임플란트를 완제품으로 제조하고, 패턴을 형성할 수 있도록 하여, 패턴 형성 공정을 용이하고 간이하게 수행할 수 있다.-
公开(公告)号：KR101322789B1
公开(公告)日：2013-10-29
申请号：KR1020110148000
申请日：2011-12-31
Applicant: 한국세라믹기술원
Abstract: 본 발명은 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 임플란트에 있어서, 상기 임플란트의 표면의 적어도 상부에 형성되며, 버프 가공에 의하여 부여된 대체로 일방향의 복수의 스크래치와, 상기 스크래치의 표면에 형성되는 산화층을 포함하여 구성되는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트를 제공한다.
이와 같이 방향성 스크래치가 형성된 임플란트는 샌드블라스트와 같은 통상적인 표면처리를 통한 임플란트와 치조골내 치밀골 및/또는 해면골과의 고정력을 향상시키는 효과를 동일하게 구유함은 물론, 그 표면에 형성된 산화층이 방향성 스크래치와 마찬가지로 방향성을 가지는 바, 스크래치 부분을 포함하여 임플란트 표면에 전반적으로 균질하게 산화층이 형성되도록 하며, 치조골 조직과의 반응성을 보다 향상시켜 임플란트와 치조골의 고정력을 배가하는 효과가 기대된다.-
公开(公告)号：KR1020130078851A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：KR1020110148000
申请日：2011-12-31
Applicant: 한국세라믹기술원
Abstract: PURPOSE: An implant having directional scratches on the surface through buffing and a manufacturing method thereof are provided to form directional scratches on the surface of an implant through buffing and then form microgrooves by patterning the surface, thereby improving the anchoring force of the implant with respect to alveolar bone tissue and the life expectancy of the implant according to the improvement of reactivity between the implant and the compact bone tissue and/or spongy bone tissue in the alveolar bone. CONSTITUTION: An implant having directional scratches on the surface through buffing includes the following parts: generally one-directional multiple scratches formed on the surface of the implant through buffing; and an oxide layer formed on the surface of the implant containing the scratches. A manufacturing method of the implant having directional scratches on the surface through buffing includes the following steps: a step of forming the generally one-directional multiple scratches on the surface of the implant through buffing; and a step of oxidizing the surface of the implant.
Abstract translation: 目的：提供通过抛光在表面上具有方向划痕的植入物及其制造方法，以通过抛光在植入物的表面上形成定向划痕，然后通过图案化表面形成微槽，从而改善植入物的锚定力 根据植入物与牙槽骨中的紧密骨组织和/或海绵状骨组织之间的反应性的改善，对牙槽骨组织和植入物的预期寿命。 构成：通过抛光在表面上具有方向划痕的植入物包括以下部件：通过抛光在植入物的表面上形成通常的单向多个划痕; 以及形成在植入物的表面上的包含划痕的氧化物层。 通过抛光在表面上具有方向划痕的植入物的制造方法包括以下步骤：通过抛光在植入物的表面上形成大体上单向多个划痕的步骤; 以及氧化植入物表面的步骤。
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公开(公告)号：KR1020160017143A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：KR1020140097711
申请日：2014-07-31
Applicant: 한국세라믹기술원
CPC classification number: A61C8/0015 , A61C13/0006 , A61F2002/2817 , A61K6/04 , A61K38/1875 , A61L27/54
Abstract: 본발명은임플란트의재료및 그표면에형성이된 TiO산화층에서세포활동성증진을시키기위한표면개질방법으로, 더자세하게는금속및 금속합금, 산화물또는물리·화학적으로형성된산화층에대해임플란트표면고유의물리적현상을변화시키지않고자외선이조사되는동안질소분위기에서표면처리를함으로써임플란트의소수성표면을친수성표면으로개질시킴과동시에임플란트표면에 Ti-N 결합을형성시켜단백질및 골세포와의친화성을높임으로써조기골 결합을강화할수 있는골 유착증진을위한치과용임플란트표면개질방법에관한것이다. 이상과같은본 발명에따르면, 티타늄및 티타늄합금재료에질소분위기에서자외선을일정시간주사해줌으로써자외선에의해합금재료표면의탄화수소가제거가되어친수성표면으로개질됨과동시에티타늄및 티타늄합금의표면에흡착된질소원소로인해재료표면에 Ti-N 형성을통한화학적특성이변화되어, 이러한표면에서의단백질부착과세포의증식및 분화를활성화시키는작용효과가기대된다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于增加在其表面上形成的植入材料和TiO_2层上的细胞活性的表面改性方法。 更具体地说，牙科植入物表面改性方法用于在氮气气氛中进行表面处理操作，同时照射紫外线以便将植入物的疏水表面改性为亲水表面，而不改变植入物表面的独特物理性质 关于物理或化学形成的氧化物层，金属，金属合金或氧化物。 该方法还可以用于在植入物表面上形成Ti-N偶联物，以增加蛋白质和骨细胞的亲和力，以增强其初始骨偶联和骨整合。 本发明的方法可以通过在氮气气氛中照射到钛和钛合金材料上的一定量的时间将其上的碳氢化合物除去，从而将合金材料的表面改性为亲水性表面。 该方法也可用于通过在吸附到钛和钛合金材料的表面中的氮的表面上形成Ti-N偶联来改变化学性质，以激活蛋白质附着和细胞的增殖和分化 表面。
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公开(公告)号：KR1020130030885A
公开(公告)日：2013-03-28
申请号：KR1020110094457
申请日：2011-09-20
Applicant: 한국세라믹기술원
CPC classification number: A61C8/0018 , A61C13/0006 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/18 , G03F7/26
Abstract: PURPOSE: A patterning device on a substrate with a three dimensional surface is provided to easily and simply conduct a patterning process, to simplify the structure thereof, thereby providing a photolithography device which is easy to use. CONSTITUTION: A patterning method on a substrate with a three dimensional surface comprises: a step of applying hydrophobic property to the surface of the substrate; a step of coating the surface with a photoresist; a step of attaching a patterned mask to the surface; a step of exposing the substrate while rotating on a virtual axis which penetrates through the substrate in a longitudinal direction; and a step of removing and etching unexposed parts of the photoresist.
Abstract translation: 目的：提供具有三维表面的基板上的图案形成装置，以容易且简单地进行图案化处理，以简化其结构，从而提供易于使用的光刻装置。 构成：在具有三维表面的基板上的图案化方法包括：将疏水性施加到基板表面的步骤; 用光致抗蚀剂涂覆表面的步骤; 将图案化掩模附着到表面的步骤; 在沿纵向穿过基板的假想轴上旋转的同时使基板曝光的步骤; 以及去除和蚀刻光致抗蚀剂的未曝光部分的步骤。
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