Abstract:
실리콘계 나노입자 박막 증착방법, 실리콘계 나노입자 박막 및 이를 위한 실리콘계 나노입자 박막 증착장치가 제공된다. 본 발명에 따른 실리콘계 나노입자 박막 증착방법은 실리콘계 나노입자를 합성하는 합성단계; 및 상기 실리콘계 나노입자를 기판에 제 1 증착시키는 증착단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 본 발명에 따른 실리콘계 나노입자 증착 방법 및 장치는, 합성된 실리콘계 나노입자를 또 다른 공정에서 전처리하지 않고, 합성과 동시에 기판에 증착시키므로, 나노입자 오염에 따른 전지효율 저하의 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단일 시스템에서 합성과 증착이 진행되므로 경제성이 우수하며, 더 나아가, 나노입자의 속도 및 기판 높이를 조절함으로써 대면적 기판에서 원하는 형태의 나노입자 박막의 증착이 가능하다.
Abstract:
The present invention provides a device for coating a substrate using a rotator comprising a rotator (100) which contains a substrate (B, B1) in the internal peripheral surface to be rotated; and a solution spray means which is arranged in the rotator (100) to spray a coating solution (S) toward the substrate when the rotator (100) is rotated, wherein the solution (S) is uniformly coated on the surface of the substrate by gravity and centrifugal force. With the above constitutions, the present invention has the advantages of coating the solution on the surface of the substrate in a uniform thickness using the rotation centrifugal force and the gravity of the rotator and variably adjusting the rotation speed of the rotator according to the density and viscosity of the solution (S). Furthermore, due to the gravity and the centrifugal force which presses the solution to be uniformly spread, the present invention may be also applied to the substrate having textures. [Reference numerals] (30) Driving source
Abstract:
The present invention is to provide a method for manufacturing a heterojunction solar cell. The method for manufacturing a heterojunction solar cell includes a step for spraying a first nanoink layer including intrinsic silicon nanoparticles on both surfaces of a substrate; a step for laminating an intrinsic silicon layer on both surfaces of the substrate by performing a thermal process on the firs nanoink layer; a step for laminating a first type silicon layer on one layer among the intrinsic silicon layers laminated on both surfaces of the substrate; and a step for laminating a second type silicon layer on another layer among the intrinsic silicon layers both surfaces of the substrate. [Reference numerals] (AA) Step for spraying a first nanoink layer ncluding intrinsic silicon nanoparticles on both surfaces of a substrate; (BB) Step for laminating an intrinsic silicon layer on both surfaces of the substrate by performing a thermal process on the first nanoink layer; (CC) Step for laminating a first type silicon layer on one layer among the intrinsic silicon layers laminated on both surfaces of the substrate; (DD) Step for laminating a second type silicon layer on another layer among the intrinsic silicon layers both surfaces of the substrate
Abstract:
PURPOSE: A method for depositing a silicon-series nano particle thin film, a silicon-series nano particle thin film, and a device for depositing a nano particle thin film are provided to combine and deposit silicon-series nano particles in one system, thereby preventing contamination of nano particles from the outside. CONSTITUTION: Silicon-series nano particles are combined. The combined silicon-series nano particles are transferred by pressure. The silicon-series nano particles are deposited by a reaction gas. The inputted reaction gas is dissolved so that a silicon-series thin film is deposited on a substrate.
Abstract:
본 발명은 기판에 분사된 용액에 회전 원심력과 중력을 부여하여 코팅시키도록 함과 아울러, 용액의 밀도에 따라 회전체의 회전속도를 가변 조절하여 용액을 기판의 표면에 골고루 코팅시키기 위한 기판의 코팅방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명의 코팅장치는, 회전축을 중심으로 회전 운동되는 회전체와, 상기 회전체의 상면에 배치되고 상부가 회전체의 바닥으로부터 이격되게 배치되는 고정대와, 고정대의 상부에 스윙 운동 가능하도록 연결되고 상측에 기판이 안착되는 지지대로 구성된다.
Abstract:
실리콘계 나노입자 박막 증착방법, 실리콘계 나노입자 박막 및 이를 위한 실리콘계 나노입자 박막 증착장치가 제공된다. 본 발명에 따른 실리콘계 나노입자 박막 증착방법은 실리콘계 나노입자를 합성하는 합성단계; 및 상기 실리콘계 나노입자를 기판에 제 1 증착시키는 증착단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 본 발명에 따른 실리콘계 나노입자 증착 방법 및 장치는, 합성된 실리콘계 나노입자를 또 다른 공정에서 전처리하지 않고, 합성과 동시에 기판에 증착시키므로, 나노입자 오염에 따른 전지효율 저하의 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단일 시스템에서 합성과 증착이 진행되므로 경제성이 우수하며, 더 나아가, 나노입자의 속도 및 기판 높이를 조절함으로써 대면적 기판에서 원하는 형태의 나노입자 박막의 증착이 가능하다.
Abstract:
본발명은 Ge 나노입자의크기조절방법, 크기조절된 Ge 나노입자의제조방법및 이를통해제조된 Ge 나노입자에관한것으로, 더상세하게는 Ge 나노입자에산화제를처리하여 Ge 나노입자표면에산화물층을형성하고, 상기형성된산화물층을제거하는과정을포함하는 Ge 나노입자의크기조절방법, 상기크기조절된 Ge 나노입자의제조방법및 상기제조방법으로제조된 Ge 나노입자에관한것이다. 본발명에따르면, 구성재가쉽게이용가능하고, 사용되는시약및 공정이간단하며, 고수율로크기가조절이된 Ge 나노입자를얻을수 있다.
Abstract:
본 발명은 본 발명은 내주면에 기판(B,B1)을 수용하여 회전하는 회전체(100); 및 상기 회전체(100)의 내부에 배치되고 상기 회전체(100)의 회전시 상기 기판을 향해서 코팅용 용액(S)을 분사하는 용액 분사수단;을 포함하고, 상기 용액(S)은 중력과 원심력에 의해 상기 기판의 표면에 고르게 코팅되는 것을 특징으로 하는 회전체를 이용한 기판의 코팅장치를 제공한다. 본 발명은 상기 구성에 의해서, 회전체의 회전 원심력과 중력을 이용하여 기판의 표면에 용액을 균일한 두께로 코팅할 수 있고, 용액(S)의 밀도 및 점성에 따라 회전체의 회전 속도를 가변 조절할 수 있는 유리한 이점을 갖고, 또한 중력과 원심력이 용액을 눌러 고르게 펴주기 때문에 텍스처가 있는 기판에도 적용할 수 있는 점이 또 하나의 장점이다.
Abstract:
The present invention relates to an apparatus and a method for coating a substrate for coating a solution sprayed on the substrate by applying rotational centrifugal force and gravity and for evenly coating the solution on the surface of the substrate by adjusting a rotational speed of a rotor depending on the density of the solution. The coating apparatus of the present invention comprises: a rotor which rotates around the axis of rotation; a fixing board disposed on the upper surface of the rotor, wherein the upper part of the fixing board is spaced apart from the bottom of the rotor; and a supporting board connected to the upper part of the fixing board to allow swing movement, wherein a substrate is safely attached to the upper part of the supporting board.
Abstract:
A nanoparticle synthesis apparatus using laser and a nanoparticle synthesis method using laser are provided. The nanoparticle synthesis apparatus according to the present invention comprises: a chamber; a source gas injection part provided at one side of the chamber and supplying source gas to the chamber; and a laser irradiation part provided at another side of the chamber and irradiating the source gas, supplied from the source gas injection part to the chamber, with laser. [Reference numerals] (130) Laser