公开(公告)号：KR200369552Y1

公开(公告)日：2004-12-08

申请号：KR2020040027076

申请日：2004-09-21

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 김지현 ,  임근희 ,  니키포로브세르게이에이 ,  김종현

IPC: H05H1/34 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32715 ,  C23C16/505 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32174 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32651 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32733 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4645

Abstract: 본 고안은 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반응기 내에서 플라즈마를 이용하여 이온 주입이나 증착을 수행하는 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다. 본 고안은 플라즈마를 이용하여 소정의 기체(substrate)에 이온을 주입하거나 소정 물질을 증착하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 반응기, 상기 반응기 내부 공간에 플라즈마를 형성하는 플라즈마 발생원, 상기 반응기 내부에서 상기 기체를 지지하는 시료대, 상기 기체가 지지되는 시료대의 배면측 반응기 벽면에 설치되며, 상기 시료대를 상기 반응기에 대해 지지 및 절연하는 동시에 그 내부가 상기 시료대에 공급하는 고전압 전원을 도입하는 통로로 작용하는 고전압 피드쓰루 및 상기 고전압 피드쓰루를 통해 상기 시료대에 상기 고전압 전원을 공급하는 전원부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR100663206B1

公开(公告)日：2007-01-02

申请号：KR1020040102935

申请日：2004-12-08

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 김지현 ,  임근희 ,  니키포로브세르게이에이 ,  김종현

IPC: H01J37/30

Abstract: 본 발명은 챔버 내에서 플라즈마 이온 주입을 수행할 때 발생하는 이차 전자를 차폐하는 차폐 장치에 관한 것이다. 본 발명은 플라즈마 이온 주입 장치의 챔버 내부에 장착되어 이온 주입시 상기 챔버 내부에서 발생되는 이차 전자에 노출되는 콤포넌트를, 상기 이차 전자로부터 보호하는 이차 전자 차폐 장치에 있어서, 상기 콤포넌트의 안착 공간에 대응하는 내부 공간을 형성하는 지지 구조 및 상기 지지 구조에 부착되며, 상기 콤포넌트 위에 자장을 형성하도록 배열되는 최소한 하나 이상의 자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 이차 전자 차폐 장치를 제공한다. 본 발명에 따르면, 플라즈마 이온 주입 장치의 내부 장착 콤포넌트 중 전자 또는 열에 취약한 콤포넌트를 이차 전자로부터 효과적으로 보호할 수 있다.
플라즈마 이온 주입 장치, 플라즈마, 이차 전자, 자석, 편향, 차폐

公开(公告)号：KR100548806B1

公开(公告)日：2006-02-02

申请号：KR1020040027910

申请日：2004-04-22

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 김지현 ,  임근희 ,  니키포로브세르게이에이

IPC: H01L21/265

Abstract: 플라즈마 이온 주입장치 및 그 플라즈마 이온 주입방법이 개시된다. 본 발명에 따른 플라즈마 이온 주입장치는, 시료가 장착되며 진공조 내에 서로 대향하는 방향으로 마주하여 설치되는 적어도 한 쌍의 시료대, 각각의 시료대에 공통으로 연결되며 음의 고전압 펄스를 공급하는 펄스전원 공급부, 진공조 내에 플라즈마화할 가스를 공급하는 가스 공급부, 및 가스 공급부에 의해 공급된 가스를 플라즈마로 변환시키는 플라즈마 변환부를 포함한다. 여기서, 펄스전원 공급부는 플라즈마 변환부에 의해 변환된 플라즈마를 이용하여 시료의 표면에 플라즈마 이온을 주입시킨다.
플라즈마, 이온, 이차전자, 시료대, 가스, 펄스

公开(公告)号：KR1020060064214A

公开(公告)日：2006-06-13

申请号：KR1020040102935

申请日：2004-12-08

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 김지현 ,  임근희 ,  니키포로브세르게이에이 ,  김종현

IPC: H01J37/30

Abstract: 본 발명은 챔버 내에서 플라즈마 이온 주입을 수행할 때 발생하는 이차 전자를 차폐하는 차폐 장치에 관한 것이다. 본 발명은 플라즈마 이온 주입 장치의 챔버 내부에 장착되어 이온 주입시 상기 챔버 내부에서 발생되는 이차 전자에 노출되는 콤포넌트를, 상기 이차 전자로부터 보호하는 이차 전자 차폐 장치에 있어서, 상기 콤포넌트의 안착 공간에 대응하는 내부 공간을 형성하는 지지 구조 및 상기 지지 구조에 부착되며, 상기 콤포넌트 위에 자장을 형성하도록 배열되는 최소한 하나 이상의 자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 이차 전자 차폐 장치를 제공한다. 본 발명에 따르면, 플라즈마 이온 주입 장치의 내부 장착 콤포넌트 중 전자 또는 열에 취약한 콤포넌트를 이차 전자로부터 효과적으로 보호할 수 있다.
플라즈마 이온 주입 장치, 플라즈마, 이차 전자, 자석, 편향, 차폐

公开(公告)号：KR1020050102505A

公开(公告)日：2005-10-26

申请号：KR1020040027910

申请日：2004-04-22

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 김지현 ,  임근희 ,  니키포로브세르게이에이

IPC: H01L21/265

Abstract: 플라즈마 이온 주입장치 및 그 플라즈마 이온 주입방법이 개시된다. 본 발명에 따른 플라즈마 이온 주입장치는, 시료가 장착되며 진공조 내에 서로 대향하는 방향으로 마주하여 설치되는 적어도 한 쌍의 시료대, 각각의 시료대에 공통으로 연결되며 음의 고전압 펄스를 공급하는 펄스전원 공급부, 진공조 내에 플라즈마화할 가스를 공급하는 가스 공급부, 및 가스 공급부에 의해 공급된 가스를 플라즈마로 변환시키는 플라즈마 변환부를 포함한다. 여기서, 펄스전원 공급부는 플라즈마 변환부에 의해 변환된 플라즈마를 이용하여 시료의 표면에 플라즈마 이온을 주입시킨다.