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1.发明专利
公开(公告)号：KR102224079B1
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：KR1020200109928A
申请日：2020-08-31
Applicant: 한국화학연구원
CPC classification number: F27D17/001 , B01D53/225 , B01D53/228 , C01B32/40
Abstract: 이산화탄소, 질소, 일산화탄소 및 수소를 포함하는 산업부생가스를 공급하는 공급부; 이산화탄소 및 수소를 투과시킬 수 있는 분리막을 포함하며, 상기 공급부로부터 공급되는 산업부생가스를 공급받아 이산화탄소 및 수소를 투과시키는 제1 막분리부; 및 전이금속이 담지된 고분자막을 포함하며, 상기 제1 막분리부에서 잔류한 기체를 공급받아 일산화탄소를 투과시키는 제2 막분리부;를 포함하는 산업부생가스로부터 일산화탄소 회수 시스템이 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따른 일산화탄소 회수 시스템은 별도의 원료와 부원료 및 열에너지가 사용됨이 없이 상온에서 오직 압력 조작만으로 산업부생가스로부터 일산화탄소를 고순도로 회수할 수 있으므로 분리비용이 적게 들고, 공정이 간단하여 투자비 또한 적게 들며, 부수입을 올릴 수 있는 액화 CO
2 도 얻게 되므로 경제성이 높다는 이점이 있다.-
公开(公告)号：WO2018016750A1
公开(公告)日：2018-01-25
申请号：PCT/KR2017/006586
申请日：2017-06-22
Applicant: 한국화학연구원
CPC classification number: B01D3/00 , B01D53/02 , B01D53/22 , C01B21/22 , Y02C20/10 , Y02P20/151 , Y02P20/153 , Y02P20/328 , Y02P70/34
Abstract: 본 발명은 질산암모늄의 열분해에 의한 아산화질소(N 2 O) 생산공정, 아디프산 생산공정, 질산 생산공정, 카프로락탐 생산공정 등의 산업공정에서 발생하는 기체 혼합물로부터 아산화질소를 회수 및 정제하는 공정에 관한 것이다.
Abstract translation:
，例如本发明中，一氧化二氮以硝酸铵的热分解（N <子> 2 O）的生产过程中，己二酸生产过程中，硝酸生产工艺中，己内酰胺生产过程如 本发明涉及从工业生产过程中产生的气体混合物中回收和纯化一氧化二氮的方法。
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公开(公告)号：KR102224079B1
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：KR1020200109928
申请日：2020-08-31
Applicant: 한국화학연구원
Abstract: 이산화탄소, 질소, 일산화탄소및 수소를포함하는산업부생가스를공급하는공급부; 이산화탄소및 수소를투과시킬수 있는분리막을포함하며, 상기공급부로부터공급되는산업부생가스를공급받아이산화탄소및 수소를투과시키는제1 막분리부; 및전이금속이담지된고분자막을포함하며, 상기제1 막분리부에서잔류한기체를공급받아일산화탄소를투과시키는제2 막분리부;를포함하는산업부생가스로부터일산화탄소회수시스템이개시된다. 본발명의일 측면에따른일산화탄소회수시스템은별도의원료와부원료및 열에너지가사용됨이없이상온에서오직압력조작만으로산업부생가스로부터일산화탄소를고순도로회수할수 있으므로분리비용이적게들고, 공정이간단하여투자비또한적게들며, 부수입을올릴수 있는액화 CO2도얻게되므로경제성이높다는이점이있다.
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公开(公告)号：KR101863058B1
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：KR1020170044848
申请日：2017-04-06
Applicant: 한국화학연구원
CPC classification number: C10G70/045 , C10G5/06 , C10G2300/4012 , C10L3/10
Abstract: 바이오메탄정제방법및 정제장치에관한것으로, 바이오가스를압축하는단계; 상기압축된바이오가스를제 1 고분자분리막으로투입하여, 제 1 잔류부스트림및 제 1 투과부스트림으로분리하는단계; 상기제 1 잔류부스트림을제 2 고분자분리막으로투입하여, 제 2 잔류부스트림및 제 2 투과부스트림으로분리하는단계; 상기제 2 잔류부스트림을선택적으로제 3 고분자분리막으로투입하여제 3 잔류부스트림및 제 3 투과부스트림으로분리하거나, 메탄회수부로투입하는단계; 및상기제 2 투과부스트림을제 4 고분자분리막으로투입하여제 4 잔류부스트림및 제 4 투과부스트림으로분리하는단계;를포함하는, 바이오메탄정제방법및 이를수행할수 있는정제장치를제공할수 있다.
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR101529130B1
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：KR1020140124206
申请日：2014-09-18
Applicant: 한국화학연구원
CPC classification number: B01D71/06 , B01D53/225 , B01D53/228 , B01D2256/245 , B01D2258/05
Abstract: 본발명은바이오가스를압력이 3 bar 내지 11 bar, 바이오가스의온도가 - 20 ℃내지 10 ℃가되도록압축및 냉각하는단계(단계 1); 상기단계 1에서압축및 냉각된바이오가스를제1 고분자분리막면적, 제2 고분자분리막면적및 제3 고분자분리막면적의비가 1 : 1 : 1 내지 1 : 5 : 1이며, 제1 고분자분리막잔류부스트림은제2 고분자분리막과연결되고, 제1 고분자분리막투과부스트림은제3 고분자분리막과연결된기체분리용 3 단고분자분리막에도입하며, 제1 고분자분리막의투과부, 제2고분자분리막의투과부및 제3 고분자분리막의투과부를 0.2 bar 내지 0.9 bar의감압조건으로유지하여메탄및 이산화탄소를분리하는단계(단계 2); 및제2 고분자분리막의투과부는감압을유지하면서제3 고분자분리막의잔류부와함께상기단계 1의압축공정전으로재순환시키는단계(단계 3);를포함하고, 상기고분자분리막은이산화탄소투과도가 100 GPU 내지 1,000 GPU이고, 이산화탄소/메탄선택도가 20 내지 34인고분자분리막인것을특징으로하는바이오가스로부터고순도메탄가스의분리방법을제공한다. 본발명에따른바이오가스로부터고순도메탄가스의분리방법은음식물쓰레기및 유기물에서발생하는바이오가스로부터고순도의메탄을생산할수 있도록하는효과가있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种来自沼气的高纯度甲烷气体的分离方法，包括：压缩和冷却沼气以产生3巴至11巴的压力并使沼气的温度从 - 20至10度 C; 同时保持第一聚合物分离膜的穿透部分，第二聚合物分离膜的穿透部分和第二聚合物分离膜的渗透部分在减压条件为0.2的步骤（步骤2）中分离甲烷和二氧化碳 bar至0.9巴，其中第一聚合物分离膜，第二聚合物分离膜和第三聚合物分离膜的面积比为1:1至1:5:1，第一 将聚合物分离膜连接到第二聚合物分离膜，将第一聚合物分离膜的穿透部分的流引入用于分离连接到第三聚合物分离膜的气体的三段聚合物分离膜中; 以及维持第二聚合物分离膜的渗透减压的步骤（步骤3），并且在步骤1的压缩过程之前与第三聚合物分离膜的残留部分一起再循环。聚合物分离膜具有100GPU 1,000 GPU的二氧化碳传输和20至34的二氧化碳/甲烷选择性。 本发明能够从由食物废物和有机材料生产的沼气中产生高纯度甲烷。
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公开(公告)号：KR101858190B1
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：KR1020160091920
申请日：2016-07-20
Applicant: 한국화학연구원
CPC classification number: B01D3/00 , B01D53/02 , B01D53/22 , C01B21/22 , Y02C20/10 , Y02P20/151 , Y02P20/153 , Y02P20/328 , Y02P70/34
Abstract: 본발명은아산화질소를포함하는기체혼합물또는배기가스를공급하여기체혼합물내 함유된미세액적상태의수분, 미세액적상태의유분및 미세입자불순물로이루어지는군으로부터선택되는 1 종이상을제거하는전처리공정; 상기전처리공정을거친기체혼합물로부터아산화질소분리성능이우수한분리막을사용하여아산화질소를질소또는/및산소로부터선택적으로분리하여농축하는막분리공정; 상기막분리공정을거친기체혼합물에함유된이산화탄소, 이산화질소, 수증기및 유기탄화수소로이루어지는군으로부터선택되는 1 종이상의불순물을흡착에의해제거하는흡착공정; 및상기흡착공정을거친기체혼합물을압축및 냉각하고증류로분리하여고순도아산화질소를회수하는증류공정;을포함하는아산화질소의회수및 정제공정을제공한다. 본발명에따른아산화질소의회수및 정제공정에의하여아산화질소, 아디프산, 질산및 카프로락탐생산공정의배기가스로부터이산화탄소에비하여지구온난화지수(GWP)가 310배높은아산화질소를회수하여온실가스의저감효과를얻을수 있다. 또한, 본발명에따른아산화질소의회수및 정제공정에의하여아산화질소, 아디프산, 질산및 카프로락탐생산공정의배기가스로부터반도체, LCD, OLED 공정용등으로사용할수 있는고순도(99.999 부피% 이상)의아산화질소를고회수율(90 % 이상)로회수및 정제할수 있다.
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