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公开(公告)号:KR102228630B1
公开(公告)日:2021-03-16
申请号:KR1020180171703A
申请日:2018-12-28
IPC: C07D209/88 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/028 , G03F7/105
CPC classification number: C07D209/88 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/028 , G03F7/105
Abstract: 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 카바졸 멀티 베타 옥심에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제와 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에서, A 및 R
1 내지 R
3 는 각각 발명의 상세한 설명에서 정의한 바와 같다.-
公开(公告)号:WO2020139042A3
公开(公告)日:2020-07-02
申请号:PCT/KR2019/018657
申请日:2019-12-27
IPC: C07D209/88 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/028 , G03F7/105
Abstract: 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 카바졸 멀티 베타 옥심에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제와 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. [화학식 1] 상기 화학식 1에서, A 및 R 1 내지 R 3 는 각각 발명의 상세한 설명에서 정의한 바와 같다.
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公开(公告)号:WO2020139042A2
公开(公告)日:2020-07-02
申请号:PCT/KR2019/018657
申请日:2019-12-27
IPC: C07D209/88 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/028 , G03F7/105
Abstract: 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 카바졸 멀티 베타 옥심에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제와 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. [화학식 1] 상기 화학식 1에서, A 및 R 1 내지 R 3 는 각각 발명의 상세한 설명에서 정의한 바와 같다.
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公开(公告)号:KR102228630B1
公开(公告)日:2021-03-16
申请号:KR1020180171703
申请日:2018-12-28
IPC: C07D209/88 , G03F7/028 , G03F7/105 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 본발명은하기화학식 1로표시되는카바졸멀티베타옥심에스테르유도체화합물및 이를포함하는광중합개시제와포토레지스트조성물에관한것이다. [화학식 1] JPEG112018131472562-pat00057.jpg3962 상기화학식 1에서, A 및 R1 내지 R3는각각발명의상세한설명에서정의한바와같다.
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