Abstract:
본 발명의 목적은 효율적으로 폴리비닐리덴 플루오라이드를 제조하는 방법을 제공하는데 있다. 또한, 본 발명의 다른 목적은 상기 방법으로 제조되는 폴리비닐리덴 플루오라이드 및 이를 포함하는 전극용 불소계 바인더를 제공하는데 있다. 이를 위하여 본 발명은 비닐리덴 플루오라이드(VDF)와 중합개시제로 퍼플루오로 프로피오닐 퍼옥사이드를 혼합하여 혼합물을 얻는 단계; 및 혼합물을 승온하여 중합반응을 수행하는 단계;를 포함하는 폴리비닐리덴 플루오라이드(PVDF) 제조방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 상기의 방법으로 제조되고, 50 내지 800 um의 평균 입자크기를 갖는 폴리비닐리덴 플루오라이드(PVDF)를 제공한다. 본 발명에 따르면, 기존 제조방법과 비교하여 상대적으로 온화한 조건에서 폴리비닐리덴 플루오라이드를 합성하면서도 고수율로 원하는 분자량의 폴리비닐리덴 플루오라이드를 합성할 수 있으며, 이에 따라 제조되는 폴리비닐리덴 플루오라이드는 균일한 분자량을 가져, 전극용 바인더로 사용시에 품질의 균일성을 보장할 수 있는 효과가 있다.
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본 발명은 신규한 옥심에스테르 유도체 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 상세하게 본 발명에 따른 옥심에스테르 유도체 화합물은 감도, 내열성, 내광성, 내화학성 및 내현상성이 우수하여 소량의 사용으로도 TFT-LCD 제조 공정 중의 노광 및 포스트베이크 공정 등에 효과적인 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물을 제공할 수 있다.
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본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 카바졸 멀티 베타 옥심에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제와 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. [화학식 1] 상기 화학식 1에서, A 및 R 1 내지 R 3 는 각각 발명의 상세한 설명에서 정의한 바와 같다.
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본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 카바졸 멀티 베타 옥심에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제와 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. [화학식 1] 상기 화학식 1에서, A 및 R 1 내지 R 3 는 각각 발명의 상세한 설명에서 정의한 바와 같다.
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본 발명은 근자외선 여기 발광 화합물에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 근자외선 영역에서 여기되는 형광성 퀴나졸리논 화합물에 관한 것이다. 본 발명에 따른 형광성 퀴나졸리논 화합물은 주광에서 무색을 나타내나 근자외선 영역의 광을 조사할 경우 높은 형광 강도를 나타낼 수 있다. 또한, 상기의 형광성 퀴나졸리논 화합물은 높은 광견뢰도 및 열안정성 뿐만 아니라 높은 분산성을 가지므로 인쇄 및 플라스틱 성형 제품에 용이하게 적용할 수 있다.