-
公开(公告)号：KR1020130002139A
公开(公告)日：2013-01-07
申请号：KR1020110063198
申请日：2011-06-28
Applicant: 한국화학연구원
IPC: C08G73/10 , C07D209/48
Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a macrocyclic imide oligomer is provided to restrain the generation of a linear imide oligomer which is a by-product and to improve the yield of the macrocyclic imide oligomer. CONSTITUTION: A manufacturing method of a macrocyclic imide oligomer comprises: a step of reacting an acid dianhydride compound and a diamine compound in a condition maintaining the concentration of a reactant to 0.1-0.5M to manufacture an amic acid oligomer which contains 2-10 repeating units formed of diamine-acid dianhydride; and a step of manufacturing the amic acid oligomer with acetic acid or acetic acid dianhydride to manufacture the macrocyclic imide oligomer. The reaction of the amic acid oligomer is conducted at 20-90 deg. C.
Abstract translation: 目的：提供大环酰亚胺低聚物的制造方法，以抑制作为副产物的线型酰亚胺低聚物的产生并提高大环酰亚胺低聚物的产率。 构成：大环酰亚胺低聚物的制造方法包括：使酸二酐化合物与二胺化合物在维持反应物浓度至0.1〜0.5M的条件下反应，制造含有2-10重复的酰胺酸低聚物 由二胺酸二酐形成的单元; 以及用乙酸或乙酸二酐制造酰胺酸低聚物以制备大环酰亚胺低聚物的步骤。 酰胺酸低聚物的反应在20-90℃进行。 C。
-
2.发明公开트리플루오로 비닐 에테르기를 포함하는 화합물, 이를 포함하는 폴리이미드 공중합체, 이들의 제조방법 및 이를 이용한 광학용 필름 또는 디스플레이용 기판 有权具有三氟乙烯醚组合物的化合物，包含它们的共聚物，其制备方法和光学膜或使用其显示基材
公开(公告)号：KR1020140055387A
公开(公告)日：2014-05-09
申请号：KR1020120122113
申请日：2012-10-31
Applicant: 한국화학연구원
Abstract: The present invention relates to a compound having a trifluorovinyl ether group, a polyimide copolymer comprising the same, a preparation method thereof and optical films or a display substrate using the same, and a polyimide copolymer comprising a trifluorovinyl ether group whereby, according to the present invention, maintains optical properties and has significantly improved chemical resistance due to the properties of a cross-linked structure of an aromatic polyimide, thereby being useful in various kinds of optical films and display substrates.
Abstract translation: 本发明涉及具有三氟乙烯基醚基团的化合物，包含它们的聚酰亚胺共聚物，其制备方法和光学膜或使用其的显示基质，以及包含三氟乙烯基醚基团的聚酰亚胺共聚物，其中根据本发明 本发明由于芳族聚酰亚胺的交联结构的性质而保持光学性能并且具有显着改善的耐化学性，因此可用于各种光学膜和显示基板。
-
Patent Agency Ranking
-
公开(公告)号：KR101207439B1
公开(公告)日：2012-12-03
申请号：KR1020100038138
申请日：2010-04-23
Applicant: 한국화학연구원
IPC: C08G75/26 , C08G69/40 , C07C45/55 , C07C235/32
Abstract: 본발명은고리형올리고머를이용한폴리(에테르술폰-아미드) 공중합체의제조방법에관한것으로서, 더욱상세하게는고리형에테르술폰올리고머및 고리형아미드올리고머를제조하고, 상기고리형에테르술폰올리고머와고리형아미드올리고머를알칼리메탈의불화염촉매로서개환공중합반응시켜폴리(에테르술폰-아미드) 공중합체를제조하는방법에관한것이다.
-
公开(公告)号：KR1020110115922A
公开(公告)日：2011-10-24
申请号：KR1020100035530
申请日：2010-04-16
Applicant: 한국화학연구원
IPC: C08G65/22 , C08G73/10 , C08G65/26 , C08G65/326
Abstract: 본 발명은 고리형 올리고머를 이용한 폴리(에테르술폰-이미드) 공중합체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고리형 에테르술폰 올리고머 및 고리형 이미드 올리고머를 제조하고, 상기 고리형 에테르술폰 올리고머와 고리형 이미드 올리고머를 알칼리메탈의 불화염 촉매로서 개환 공중합 반응시켜 폴리(에테르술폰-아미드) 공중합체를 제조하는 방법에 관한 것이다.
-
6.发明授权트리플루오로 비닐 에테르기를 포함하는 화합물, 이를 포함하는 폴리이미드 공중합체, 이들의 제조방법 및 이를 이용한 광학용 필름 또는 디스플레이용 기판 有权具有三氟乙烯基醚基团的化合物，包括它们的共聚物，其制备方法和使用其的光学膜或显示基材
公开(公告)号：KR101421405B1
公开(公告)日：2014-07-18
申请号：KR1020120122113
申请日：2012-10-31
Applicant: 한국화학연구원
Abstract: 본 발명은 트리플루오로 비닐 에테르기를 포함하는 화합물, 이를 포함하는 폴리이미드 공중합체, 이들의 제조방법 및 이를 이용한 광학용 필름 또는 디스플레이용 기판에 관한 것으로, 본 발명에 따른 트리플루오로 비닐 에테르기를 포함하는 폴리이미드 공중합체는 방향족 폴리이미드의 가교구조의 특성으로 인하여 광학적 특성은 유지하면서 내화학성이 현저히 향상되므로, 각종 광학용 필름 및 디스플레이용 기판에 유용하게 사용될 수 있다.
-
公开(公告)号：KR1020110118504A
公开(公告)日：2011-10-31
申请号：KR1020100038138
申请日：2010-04-23
Applicant: 한국화학연구원
IPC: C08G75/26 , C08G69/40 , C07C45/55 , C07C235/32
Abstract: 본 발명은 고리형 올리고머를 이용한 폴리(에테르술폰-아미드) 공중합체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고리형 에테르술폰 올리고머 및 고리형 아미드 올리고머를 제조하고, 상기 고리형 에테르술폰 올리고머와 고리형 아미드 올리고머를 알칼리메탈의 불화염 촉매로서 개환 공중합 반응시켜 폴리(에테르술폰-아미드) 공중합체를 제조하는 방법에 관한 것이다.
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.02 seconds)
