公开(公告)号：KR101776290B1

公开(公告)日：2017-09-07

申请号：KR1020160030291

申请日：2016-03-14

Applicant: 한남대학교 산학협력단

Inventor： 이승호 ,  김운중 ,  김민기 ,  이인수

IPC: E06B9/52 ,  A01N59/00

Abstract: 본발명은높은항균성의금속이온을고분자물질표면에착물화시킨항균성을갖는금속착물형방충망및 그제조방법으로탄소기공막의복잡한단계가아닌원스텝으로제작이가능하고기존의기능성필터와다르게금속을화학적결합으로부착하고고분자물질을사용하므로활용도가높으며성형이쉽고빠른특징을갖는금속착물형방충망및 그제조방법에관한것이다.

公开(公告)号：KR101875002B1

公开(公告)日：2018-07-05

申请号：KR1020160154483

申请日：2016-11-18

Applicant: 한남대학교 산학협력단 ,  (주) 엠에스머트리얼즈

Inventor： 김운중 ,  배성호 ,  안세영 ,  김민기

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 본발명에따른슬러리는기존의화학-기계적연마(chemical-mechanical polishing, CMP) 슬러리에비해연마제의입경크기를일정하게유지시켜웨이퍼의스크래치발생을억제할수 있으며, PE-TEOS(Plasma Enhanced-Tetra Ethylene Ortho Silicate), 폴리실리콘막, 실리콘질화막등 다양한종류의웨이퍼에서우수한연마효율을달성할수 있다. 또한연마제의분산안정성이우수하고높은열안정성을가져반도체웨이퍼공정용연마제및 각종관련분야에폭넓게사용할수 있다.

公开(公告)号：KR1020180056327A

公开(公告)日：2018-05-28

申请号：KR1020160154483

申请日：2016-11-18

Applicant: 한남대학교 산학협력단 ,  (주) 엠에스머트리얼즈

Inventor： 김운중 ,  배성호 ,  안세영 ,  김민기

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1454

Abstract: 본발명에따른슬러리는기존의화학-기계적연마(chemical-mechanical polishing, CMP) 슬러리에비해연마제의입경크기를일정하게유지시켜웨이퍼의스크래치발생을억제할수 있으며, PE-TEOS(Plasma Enhanced-Tetra Ethylene Ortho Silicate), 폴리실리콘막, 실리콘질화막등 다양한종류의웨이퍼에서우수한연마효율을달성할수 있다. 또한연마제의분산안정성이우수하고높은열안정성을가져반도체웨이퍼공정용연마제및 각종관련분야에폭넓게사용할수 있다.