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公开(公告)号：WO2022114660A1
公开(公告)日：2022-06-02
申请号：PCT/KR2021/016893
申请日：2021-11-17
Applicant: 한양대학교에리카산학협력단
Abstract: 정전용량형 가스센서가 제공된다. 상기 정전용량형 가스센서는, 타겟 가스를 흡탈착하는 감응 물질, 상기 감응 물질을 둘러싸는 상부 전극, 상기 상부 전극과 대향하는 하부 전극, 및 상기 상부 전극 및 상기 하부 전극 사이에 배치되는 다공성 구조체를 포함하되, 상기 감응 물질이 상기 타겟 가스를 흡탈착함에 따라, 커패시턴스(capacitance)가 변화되는 것을 포함할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2016137025A1
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：PCT/KR2015/001784
申请日：2015-02-25
Applicant: 한양대학교에리카산학협력단
IPC: C23C4/16
CPC classification number: C23C4/16
Abstract: 아크 용사 시스템이 제공된다. 본 발명의 실시 예에 따른 아크 용사 시스템은, 고주파를 이용한 아크 용사 시스템, 이를 이용한 아크 용사 방법, 아크 용사를 위한 합금, 이를 이용한 아크 용사 장치, 아크 용사건, 및 이를 이용한 아크 용사 방법을 포함한다.
Abstract translation: 提供电弧喷涂系统。 根据本发明实施例的电弧喷涂系统包括：使用高频电弧喷涂系统，使用该电弧喷涂方法的电弧喷涂方法，电弧喷涂用合金，使用该合金的电弧喷涂装置，电弧喷枪， 以及使用其的电弧喷涂法。
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公开(公告)号：WO2020111364A1
公开(公告)日：2020-06-04
申请号：PCT/KR2018/015499
申请日：2018-12-07
Applicant: 한양대학교에리카산학협력단
IPC: B01J20/30 , B01J20/02 , B01J20/04 , C02F1/28 , C02F103/16 , C02F103/20 , C02F101/18
Abstract: 적어도 2종 이상의 금속염을 혼합하여, 양이온 화합물 층과, 음이온 및 결정수를 포함하는 음이온 화합물 층이 교대로 반복되어 적층된 적층 구조체를 제조하는 단계, 상기 적층 구조체를 1차 열처리하여, 상기 양이온 화합물 층 사이를 팽창시켜 예비 음이온 흡착제를 제조하는 단계, 및 상기 예비 음이온 흡착제를 2차 열처리하여, 상기 음이온 화합물 층의 상기 음이온 및 상기 결정수를 제거하되, 적어도 하나의 상기 음이온을 잔존시켜, 음이온 흡착제를 제조하는 단계를 포함하는 음이온 흡착제의 제조 방법이 제공될 수 있다.
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