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公开(公告)号：WO2019213585A1
公开(公告)日：2019-11-07
申请号：PCT/US2019/030683
申请日：2019-05-03
Applicant: ALIGN TECHNOLOGY, INC.
Inventor： LISKA, Robert , GORSCHE, Christian , HARAKALY, György , KURY, Markus , STAMPFL, Jürgen , DORFINGER, Peter , CHEN, Yan , LI, Chunhua , KAZA, Srinivas
IPC: A61K6/083 , A61C7/00 , B33Y80/00 , C08F236/02 , C08G18/75
Abstract: Provided herein are curable compositions for use in a high temperature lithography-based photopolymerization process, a method of producing crosslinked polymers using said curable compositions, crosslinked polymers thus produced, and orthodontic appliances comprising the crosslinked polymers.
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公开(公告)号：EP4272962A3
公开(公告)日：2024-01-03
申请号：EP23177480.3
申请日：2019-05-06
Applicant: Align Technology, Inc.
Inventor： LISKA, Robert , GORSCHE, Christian , HARAKALY, György , KURY, Markus , STAMPFL, Jürgen , DORFINGER, Peter , CHEN, Yan , LI, Chunhua , KAZA, Srinivas
IPC: B33Y80/00
Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft eine härtbare Zusammensetzung zur Verwendung in einem Hochtemperatur-Photopolymerisationsverfahren auf Lithographiebasis, die zumindest die definierten polymerisierbaren Komponenten A bis C umfasst, wovon: Komponente A zumindest ein oligomeres Dimethacrylat der chemischen Formel (I) ist und als Glasübergangstemperaturmodifikator dient;
Komponente B zumindest ein, gegebenenfalls Polyether-modifiziertes, (Poly-)Carbonat-(Poly-)Urethan-Dimethacrylat einer der chemischen Formeln (II), (III), (IV) oder (V) ist und als Zähigkeitsmodifikator dient; und
Komponente C Komponente C zumindest ein mono- oder multifunktioneller Methacrylat-basierter Reaktivverdünner ist.-
公开(公告)号：EP4551148A1
公开(公告)日：2025-05-14
申请号：EP23750811.4
申请日：2023-07-06
Applicant: Align Technology, Inc.
Inventor： STAMPFL, Jürgen , CHEN, Yan , LI, Chunhua , DORFINGER, Peter , HOCHWALLNER, Alexander
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公开(公告)号：EP4272962A2
公开(公告)日：2023-11-08
申请号：EP23177480.3
申请日：2019-05-06
Applicant: Align Technology, Inc.
Inventor： LISKA, Robert , GORSCHE, Christian , HARAKALY, György , KURY, Markus , STAMPFL, Jürgen , DORFINGER, Peter , CHEN, Yan , LI, Chunhua , KAZA, Srinivas
IPC: B33Y80/00
Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft eine härtbare Zusammensetzung zur Verwendung in einem Hochtemperatur-Photopolymerisationsverfahren auf Lithographiebasis, die zumindest die definierten polymerisierbaren Komponenten A bis C umfasst, wovon: Komponente A zumindest ein oligomeres Dimethacrylat der chemischen Formel (I) ist und als Glasübergangstemperaturmodifikator dient;
Komponente B zumindest ein, gegebenenfalls Polyether-modifiziertes, (Poly-)Carbonat-(Poly-)Urethan-Dimethacrylat einer der chemischen Formeln (II), (III), (IV) oder (V) ist und als Zähigkeitsmodifikator dient; und
Komponente C Komponente C zumindest ein mono- oder multifunktioneller Methacrylat-basierter Reaktivverdünner ist.-
公开(公告)号：EP3564282A1
公开(公告)日：2019-11-06
申请号：EP19172856.7
申请日：2019-05-06
Applicant: Align Technology, Inc.
Inventor： LISKA, Robert , GORSCHE, Christian , HARAKALY, György , KURY, Markus , STAMPFL, Jürgen , DORFINGER, Peter , CHEN, Yan , LI, Chunhua , KAZA, Srinivas
IPC: C08G18/10 , C08G18/32 , C08G18/44 , C08G18/48 , C08G18/50 , C08G18/67 , C08G18/71 , C08G18/73 , C08G18/75 , A61C7/00 , A61C13/00 , B33Y10/00 , B33Y70/00
Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft eine härtbare Zusammensetzung zur Verwendung in einem Hochtemperatur-Photopolymerisationsverfahren auf Lithographiebasis, die zumindest die definierten polymerisierbaren Komponenten A bis C umfasst, wovon:
Komponente A zumindest ein oligomeres Dimethacrylat der chemischen Formel (I) ist und als Glasübergangstemperaturmodifikator dient;
Komponente B zumindest ein, gegebenenfalls Polyether-modifiziertes, (Poly-)Carbonat-(Poly-)Urethan-Dimethacrylat einer der chemischen Formeln (II), (III), (IV) oder (V) ist und als Zähigkeitsmodifikator dient; und
Komponente C Komponente C zumindest ein mono- oder multifunktioneller Methacrylat-basierter Reaktivverdünner ist.
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