公开(公告)号：TW445304B

公开(公告)日：2001-07-11

申请号：TW088111373

申请日：1999-07-08

Applicant: ASM美國公司

Inventor： 雅朗多列 ,  丹尼斯古得溫 ,  肯尼斯歐尼爾 ,  哥本維伯格 ,  大衛羅得瑞格 ,  拉文得雅加渥

IPC: C23C ,  C30B

CPC classification number: C30B29/14 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4408 ,  C30B25/08 ,  Y10S414/139

Abstract: 一種用於在反應器中減少粒子之裝置及方法。該裝置含有一室，用於處理半導體晶圓。該室具有一晶圓操縱室，由隔離閘閥連接於處理室。此外，該裝置含有管路，用於輸送淨化氣體至該晶圓操縱室。該淨化氣體係被用來自該室排除粒子。同時，該裝置亦含有一引導操作式逆壓調整器，用於調節輸送及自該室去除該淨化氣體。該裝置以一受控制之速率來致動該隔離閘閥以降低來自進入於該室內之淨化氣體之擾動。同時，該裝置亦含有一伯努利棒管，用於提起及保持一單一之半導體晶圓。一圓罩裝載式調整器係使用來控制該氣體至該伯努利棒管之速率。該圓罩裝載式調整器係由一引導氣體所致動。該伯努利棒管之上升及下降速率可藉許多限制及在該引導氣體管線中之止回閥予以控制。同時，該裝置亦使用游離器於進入於該晶圓操縱室及裝載閂鎖之淨化氣體管線中。透過在裝載門鎖及晶圓操縱室之前使用在淨化氣體管線中的阿爾法粒子放射源之下，被淨化之氣體分子係被游離化。該游離之氣體係導電性的，且因而放電所有在該半導體裝置內之靜電。藉由靜電電荷之可去除，粒子與晶圓不再相互藉靜電力來吸引。此外，該裝置含有用於當在反應器內切換諸閥時會減少氣體流之擾動的機構。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于在反应器中减少粒子之设备及方法。该设备含有一室，用于处理半导体晶圆。该室具有一晶圆操纵室，由隔离闸阀连接于处理室。此外，该设备含有管路，用于输送净化气体至该晶圆操纵室。该净化气体系被用来自该室排除粒子。同时，该设备亦含有一引导操作式逆压调整器，用于调节输送及自该室去除该净化气体。该设备以一受控制之速率来致动该隔离闸阀以降低来自进入于该室内之净化气体之扰动。同时，该设备亦含有一伯努利棒管，用于提起及保持一单一之半导体晶圆。一圆罩装载式调整器系使用来控制该气体至该伯努利棒管之速率。该圆罩装载式调整器系由一引导气体所致动。该伯努利棒管之上升及下降速率可藉许多限制及在该引导气体管线中之止回阀予以控制。同时，该设备亦使用游离器于进入于该晶圆操纵室及装载闩锁之净化气体管线中。透过在装载门锁及晶圆操纵室之前使用在净化气体管线中的阿尔法粒子放射源之下，被净化之气体分子系被游离化。该游离之气体系导电性的，且因而放电所有在该半导体设备内之静电。借由静电电荷之可去除，粒子与晶圆不再相互藉静电力来吸引。此外，该设备含有用于当在反应器内切换诸阀时会减少气体流之扰动的机构。