公开(公告)号：TW578212B

公开(公告)日：2004-03-01

申请号：TW091118370

申请日：2002-08-15

Applicant: ASM美國股份有限公司 ASM AMERICA, INC.

Inventor： 奧利 凱爾培拉 OLLI KILPELA ,  薇爾 薩琳娜 VILLE SAANILA ,  偉民李 WEI-MIN LI ,  凱艾瑞克 愛爾斯 KAI-ERIK ELERS ,  朱哈娜 寇斯塔摩 JUHANA KOSTAMO ,  艾維 瑞傑馬克斯 IVO RAAI JMAKERS ,  恩斯特 葛蘭尼門 ERNST GRANNEMAN

IPC: H01L

CPC classification number: C23C16/45544 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45514 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45589 ,  C23C16/507 ,  C23C16/509

Abstract: 揭露各種用氣相反應劑在表面上交替重複進行表面反應，以在基底的表面上製作薄膜的反應器。在一個實施例中，反應器包括定義出反應空間的反應室；有一個沖洗頭平板將反應空間隔成上下兩部分；第一前驅物會直接被供應到反應室的下半部，而第二前驅物會直接供應到反應室的上半部，基底會放置在反應室的下部分，沖洗頭平板包括複數個通道可以使反應室的上半部分與下半部分相溝通。在另一個設計上，反應室的上半部定義出一個電漿穴，在其中會形成臨場電漿。在另一種設計中，反應室包括一個百葉窗板，可以選擇性的開關沖洗頭平板中的通道。在其他設計中，沖洗頭平板被設計用來改善流經過反應室的氣流之局部流動圖案。

Abstract in simplified Chinese: 揭露各种用气相反应剂在表面上交替重复进行表面反应，以在基底的表面上制作薄膜的反应器。在一个实施例中，反应器包括定义出反应空间的反应室；有一个冲洗头平板将反应空间隔成上下两部分；第一前驱物会直接被供应到反应室的下半部，而第二前驱物会直接供应到反应室的上半部，基底会放置在反应室的下部分，冲洗头平板包括复数个信道可以使反应室的上半部分与下半部分相沟通。在另一个设计上，反应室的上半部定义出一个等离子穴，在其中会形成临场等离子。在另一种设计中，反应室包括一个百叶窗板，可以选择性的开关冲洗头平板中的信道。在其他设计中，冲洗头平板被设计用来改善流经过反应室的气流之局部流动图案。