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公开(公告)号：CN113168123A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980082729.9
申请日：2019-12-12
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： E·J·芒可曼 , M·A·基耶达 , S·鲁 , V·A·佩雷斯-福尔肯
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种用于光刻系统中的掩模版子场热控制的设备。该设备包括被配置为固定物体的夹具。夹具包括在空间上以图案布置的多个气体分布特征。该设备还包括气压控制器，该气压控制器被配置为单独地控制通过多个气体分布特征中的每个气体分布特征的气体流量，以对夹具与物体之间的空间中的气压分布进行调制。气体分布特征包括以阵列形式布置的多个沟槽或孔。
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公开(公告)号：CN113454535B
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202080014571.4
申请日：2020-01-27
Applicant: ASML控股股份有限公司
Abstract: 一种设备，包括第一基板、第二基板和设置在所述第一基板与所述第二基板之间的中间层。所述中间层被配置成作为在所述设备受到外力的情况下的第一失效点或破损点。所述设备还可以包括设置在所述第一基板与所述第二基板之间的结合层。所述结合层被配置成将所述中间层结合到所述第一基板和第二基板。所述设备还可以包括被联接至所述第一基板和所述第二基板的紧固件。所述紧固件被配置成将所述中间层固定到所述第一基板和所述第二基板。所述中间层可以包括涂覆至所述第一衬底或所述第二衬底的涂层。所述设备还可以包括设置在所述第一基板与所述紧固件之间或所述第二基板与所述紧固件之间的第二中间层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112969972B
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN201980073826.1
申请日：2019-10-29
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： R·V·古纳瓦尔达那 , V·A·佩雷斯-福尔肯 , S·L·史密斯 , M·A·基耶达 , E·J·芒可曼 , A·布朗
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种被配置成将掩模版保持在掩模版平台上的固定平面中的夹持设备包括：夹具、传感器和控制器。所述传感器设置在所述夹具的前侧上且被配置成在掩模版交换过程期间检测所述掩模版在掩模版交换区域中的位置。所述掩模版的所述位置包括所述掩模版的后侧与所述夹具的所述前侧之间的竖直距离、以及所述掩模版的所述后侧与所述夹具的所述前侧之间的相对倾角。所述控制器联接至所述传感器且被配置成基于由所述传感器检测的所述掩模版的所述位置来控制所述夹具的位置。
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公开(公告)号：CN113454535A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202080014571.4
申请日：2020-01-27
Applicant: ASML控股股份有限公司
Abstract: 一种设备，包括第一基板、第二基板和设置在所述第一基板与所述第二基板之间的中间层。所述中间层被配置成作为在所述设备受到外力的情况下的第一失效点或破损点。所述设备还可以包括设置在所述第一基板与所述第二基板之间的结合层。所述结合层被配置成将所述中间层结合到所述第一基板和第二基板。所述设备还可以包括被联接至所述第一基板和所述第二基板的紧固件。所述紧固件被配置成将所述中间层固定到所述第一基板和所述第二基板。所述中间层可以包括涂覆至所述第一衬底或所述第二衬底的涂层。所述设备还可以包括设置在所述第一基板与所述紧固件之间或所述第二基板与所述紧固件之间的第二中间层。
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公开(公告)号：CN113557475B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202080020074.5
申请日：2020-03-06
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： H·克里斯南 , J·H·里昂 , E·J·芒可曼 , V·A·佩雷斯-福尔肯
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687 , H02N13/00
Abstract: 一种用于支撑衬底的静电夹具包括衬底区域、在衬底区域的边缘处的电极区域、支撑层、导电层、接触层和电极。支撑层具有本体，该本体具有基本上彼此平行并且设置在本体的相对侧的第一表面和第二表面。通孔被设置在电极区域中并且在第一表面与第二表面之间提供通路。导电层被设置在支撑层的第二表面上。接触层被设置在导电层上。接触层在电极区域中是不间断的并且在衬底区域中包括突节。当静电夹具支撑衬底时，突节接触衬底。电极设置在通孔中并且电耦合到导电层。
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公开(公告)号：CN113557475A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202080020074.5
申请日：2020-03-06
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： H·克里斯南 , J·H·里昂 , E·J·芒可曼 , V·A·佩雷斯-福尔肯
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687 , H02N13/00
Abstract: 一种用于支撑衬底的静电夹具包括衬底区域、在衬底区域的边缘处的电极区域、支撑层、导电层、接触层和电极。支撑层具有本体，该本体具有基本上彼此平行并且设置在本体的相对侧的第一表面和第二表面。通孔被设置在电极区域中并且在第一表面与第二表面之间提供通路。导电层被设置在支撑层的第二表面上。接触层被设置在导电层上。接触层在电极区域中是不间断的并且在衬底区域中包括突节。当静电夹具支撑衬底时，突节接触衬底。电极设置在通孔中并且电耦合到导电层。
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公开(公告)号：CN112969972A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201980073826.1
申请日：2019-10-29
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： R·V·古纳瓦尔达那 , V·A·佩雷斯-福尔肯 , S·L·史密斯 , M·A·基耶达 , E·J·芒可曼 , A·布朗
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种被配置成将掩模版保持在掩模版平台上的固定平面中的夹持设备包括：夹具、传感器和控制器。所述传感器设置在所述夹具的前侧上且被配置成在掩模版交换过程期间检测所述掩模版在掩模版交换区域中的位置。所述掩模版的所述位置包括所述掩模版的后侧与所述夹具的所述前侧之间的竖直距离、以及所述掩模版的所述后侧与所述夹具的所述前侧之间的相对倾角。所述控制器联接至所述传感器且被配置成基于由所述传感器检测的所述掩模版的所述位置来控制所述夹具的位置。
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