公开(公告)号：CN113646700B

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202080027016.5

申请日：2020-03-25

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎雷 ,  J·L·克鲁泽 ,  林宇翔 ,  K·U·索博列夫

IPC: G03F9/00

Abstract: 用于测量衬底上的对准标记的参数的装置和方法，其中光学系统被布置为接收来自对准标记的至少一个衍射阶次并且衍射阶次在光学系统的光瞳、晶片共轭平面处被调制，固态光学设备被布置为接收调制的衍射阶次，并且光谱仪被布置为从固态光学设备接收调制的衍射阶次并确定调制的衍射阶次中的一个或多个光谱分量的强度。

公开(公告)号：CN108292038A

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201680071415.5

申请日：2016-11-21

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： K·U·索博列夫

IPC: G02B27/00 ,  G02B21/02 ,  G03F7/20

Abstract: 一种对准系统使用自参考干涉仪，所述自参考干涉仪包括具有多个透镜元件组的物镜系统。在一个实施例中，物镜配置并布置成提供大数值孔径、长工作距离和低波前误差。

公开(公告)号：CN113196180B

公开(公告)日：2024-08-20

申请号：CN201980084736.2

申请日：2019-12-12

Applicant: ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎里 ,  F·G·C·比基恩 ,  亚历山德罗·波洛 ,  K·U·索博列夫 ,  S·R·胡伊斯曼 ,  J·L·克勒泽

IPC: G03F9/00

Abstract: 一种用于确定衬底对准的设备和方法，其中利用空间相干辐射同时照射多个对准标记，并且并行地收集来自被照射标记的光以获得关于标记的位置和标记内的变形的信息。

公开(公告)号：CN113196180A

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN201980084736.2

申请日：2019-12-12

Applicant: ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎里 ,  F·G·C·比基恩 ,  亚历山德罗·波洛 ,  K·U·索博列夫 ,  S·R·胡伊斯曼 ,  J·L·克勒泽

IPC: G03F9/00

Abstract: 一种用于确定衬底对准的设备和方法，其中利用空间相干辐射同时照射多个对准标记，并且并行地收集来自被照射标记的光以获得关于标记的位置和标记内的变形的信息。

公开(公告)号：CN108292038B

公开(公告)日：2021-01-15

申请号：CN201680071415.5

申请日：2016-11-21

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： K·U·索博列夫

IPC: G02B27/00 ,  G02B21/02 ,  G03F7/20

Abstract: 一种对准系统使用自参考干涉仪，所述自参考干涉仪包括具有多个透镜元件组的物镜系统。在一个实施例中，物镜配置并布置成提供大数值孔径、长工作距离和低波前误差。

公开(公告)号：CN113646700A

公开(公告)日：2021-11-12

申请号：CN202080027016.5

申请日：2020-03-25

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎雷 ,  J·L·克鲁泽 ,  林宇翔 ,  K·U·索博列夫

IPC: G03F9/00

Abstract: 用于测量衬底上的对准标记的参数的装置和方法，其中光学系统被布置为接收来自对准标记的至少一个衍射阶次并且衍射阶次在光学系统的光瞳、晶片共轭平面处被调制，固态光学设备被布置为接收调制的衍射阶次，并且光谱仪被布置为从固态光学设备接收调制的衍射阶次并确定调制的衍射阶次中的一个或多个光谱分量的强度。

公开(公告)号：CN118859651A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202411265521.X

申请日：2020-03-25

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎雷 ,  J·L·克鲁泽 ,  林宇翔 ,  K·U·索博列夫

IPC: G03F9/00

Abstract: 用于测量衬底上的对准标记的参数的装置和方法，其中光学系统被布置为接收来自对准标记的至少一个衍射阶次并且衍射阶次在光学系统的光瞳、晶片共轭平面处被调制，固态光学设备被布置为接收调制的衍射阶次，并且光谱仪被布置为从固态光学设备接收调制的衍射阶次并确定调制的衍射阶次中的一个或多个光谱分量的强度。

公开(公告)号：CN115004109A

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN202180010634.3

申请日：2021-01-21

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： P·C·科奇斯珀格 ,  C·M·道汉 ,  J·L·克勒泽 ,  M·E·帕洛斯基 ,  A·本迪克塞 ,  K·U·索博列夫 ,  J·H·沃尔什 ,  R·B·维纳 ,  A·M·温卡塔拉曼

IPC: G03F1/84

Abstract: 检查系统包括产生辐射束并且照射物体的第一表面的辐射源，从而限定所述物体的所述第一表面的区。所述辐射源还照射所述物体的第二表面，从而限定所述第二表面的区，其中所述第二表面位于所述物体内的与所述第一表面不同的深度水平处。所述检查系统也可以包括检测器，所述检测器限定所述第一表面的包括所述第一表面的所述区的视场(FOV)、并且接收从所述第一表面的所述区和所述第二表面的所述区散射的辐射。所述检查系统也可以包括处理器，所述处理器丢弃并非从所述第一表面的所述区接收的图像数据、并且构造合成图像，所述合成图像包括来自遍及所述第一表面的整个所述区的所述图像数据。