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公开(公告)号：CN1459017A
公开(公告)日：2003-11-26
申请号：CN02800595.3
申请日：2002-03-08
Applicant: ASML美国公司
IPC: F27D11/00
CPC classification number: H01L21/67248 , F27B17/0025 , F27D19/00 , F27D21/0014 , F27D2019/0003
Abstract: 提供了通过限制作为变量的当前值函数的斜率而尽可能降低与变量斜率相关的应力的一种系统和方法。更具体来说，本发明提供了通过在处理期间动态控制温度斜率，把半导体基片或其它被加热物体的径向增量温度保持在晶体滑动曲线以下的系统和方法。
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