公开(公告)号：CN113924525B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202080042327.9

申请日：2020-03-26

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 方伟 ,  浦凌凌 ,  陈志超 ,  张海利 ,  张鹏程

IPC: G03F1/36 ,  G01N21/956 ,  G03F1/84 ,  G03F7/20

Abstract: 本文中描述了一种用于确定对掩模的特征的校正的方法。该方法包括：获取(i)用于设计布局的图案组，以及(ii)用于设计布局的、使用在图案化工艺中使用的掩模成像的衬底的缺陷检查数据；基于缺陷检查数据，确定与图案组相关联的缺陷图，其中缺陷图包括与设计布局的其他图案相比被印刷在衬底上的概率相对较高的辅助特征的位置；以及经由使用与缺陷图相关联的数据模拟光学邻近校正过程，确定对掩模的特征的校正。

公开(公告)号：CN113924525A

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202080042327.9

申请日：2020-03-26

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 方伟 ,  浦凌凌 ,  陈志超 ,  张海利 ,  张鹏程

IPC: G03F1/36 ,  G01N21/956 ,  G03F1/84 ,  G03F7/20

Abstract: 本文中描述了一种用于确定对掩模的特征的校正的方法。该方法包括：获取(i)用于设计布局的图案组，以及(ii)用于设计布局的、使用在图案化工艺中使用的掩模成像的衬底的缺陷检查数据；基于缺陷检查数据，确定与图案组相关联的缺陷图，其中缺陷图包括与设计布局的其他图案相比被印刷在衬底上的概率相对较高的辅助特征的位置；以及经由使用与缺陷图相关联的数据模拟光学邻近校正过程，确定对掩模的特征的校正。