-
公开(公告)号：CN108617070A
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201810572686.X
申请日：2014-03-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本发明提供了一种源收集器设备，所述源收集器设备包括：燃料液滴生成器，配置成生成从所述燃料液滴生成器的出口朝向等离子体形成部位引导的燃料液滴流；护罩，构造和布置用于保护所述燃料液滴流；和检测设备，构造和布置用于在燃料液滴流沿着所述护罩通过时检测燃料液滴在燃料液滴流中的融合。另外，本发明还提供了一种用于检测在源收集器设备的燃料液滴流中的伴生液滴的形成的方法和光刻设备。
-
公开(公告)号：CN104093259B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201410225307.1
申请日：2009-03-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 本发明公开了一种靶材、源、EUV光刻设备和使用该设备的器件制造方法。所述靶材被配置成用于被构造且被布置以产生具有在6.8nm范围内的波长的辐射束的源中。靶材包括被配置以改变Gd的熔化温度的基于Gd的合成物，或Tb，或被配置以减小Tb的熔化温度的基于Tb的合成物。
-
公开(公告)号：CN105074577A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480019323.3
申请日：2014-03-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: 一种用在光刻设备中的源收集器设备，所述源收集器设备包括：燃料液滴生成器(4)，配置成在使用中生成从所述燃料液滴生成器的出口朝向等离子体形成部位(7)引导的燃料液滴流(6)。为了防止液滴伴生对等离子体形成的干扰，气体供给装置被提供以在使用中提供气体流(A)，例如氢气流，该气体流将任何伴生液滴偏转出所述燃料液滴流。另外，检测设备可以设置为护罩(5)的一部分，以确定燃料液滴融合所出现的点，由此提供对于在燃料液滴流中存在伴生液滴的可能性的指示。
-
公开(公告)号：CN101978791B
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN200980109474.7
申请日：2009-03-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种靶材被配置成用于被构造且被布置以产生具有在6.8nm范围内的波长的辐射束的源中。靶材包括被配置以改变Gd的熔化温度的基于Gd的合成物，或Tb，或被配置以减小Tb的熔化温度的基于Tb的合成物。
-
公开(公告)号：CN108617070B
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201810572686.X
申请日：2014-03-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本发明提供了一种源收集器设备，所述源收集器设备包括：燃料液滴生成器，配置成生成从所述燃料液滴生成器的出口朝向等离子体形成部位引导的燃料液滴流；护罩，构造和布置用于保护所述燃料液滴流；和检测设备，构造和布置用于在燃料液滴流沿着所述护罩通过时检测燃料液滴在燃料液滴流中的融合。另外，本发明还提供了一种用于检测在源收集器设备的燃料液滴流中的伴生液滴的形成的方法和光刻设备。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105074577B
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201480019323.3
申请日：2014-03-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: 一种用在光刻设备中的源收集器设备，所述源收集器设备包括：燃料液滴生成器(4)，配置成在使用中生成从所述燃料液滴生成器的出口朝向等离子体形成部位(7)引导的燃料液滴流(6)。为了防止液滴伴生对等离子体形成的干扰，气体供给装置被提供以在使用中提供气体流(A)，例如氢气流，该气体流将任何伴生液滴偏转出所述燃料液滴流。另外，检测设备可以设置为护罩(5)的一部分，以确定燃料液滴融合所出现的点，由此提供对于在燃料液滴流中存在伴生液滴的可能性的指示。
-
公开(公告)号：CN104093259A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201410225307.1
申请日：2009-03-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 本发明公开了一种靶材、源、EUV光刻设备和使用该设备的器件制造方法。所述靶材被配置成用于被构造且被布置以产生具有在6.8nm范围内的波长的辐射束的源中。靶材包括被配置以改变Gd的熔化温度的基于Gd的合成物，或Tb，或被配置以减小Tb的熔化温度的基于Tb的合成物。
-
公开(公告)号：CN102047183B
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN200980120621.0
申请日：2009-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70958 , B82Y10/00 , G03F1/24 , G21K1/062 , G21K2201/067
Abstract: 一种多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2-8nm范围内的波长的辐射。所述多层反射镜具有从由Cr和Sc层，Cr和C层，C和B4C层，U和B4C层，Th和B4C层，C和B9C层，La和B9C层，U和B9C层，Th和B9C层，La和B层，C和B层，U和B层，以及Th和B层构成的组中选出的交替层。
-
公开(公告)号：CN102047183A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200980120621.0
申请日：2009-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70958 , B82Y10/00 , G03F1/24 , G21K1/062 , G21K2201/067
Abstract: 一种多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2-8nm范围内的波长的辐射。所述多层反射镜具有从由Cr和Sc层，Cr和C层，C和B4C层，U和B4C层，Th和B4C层，C和B9C层，La和B9C层，U和B9C层，Th和B9C层，La和B层，C和B层，U和B层，以及Th和B层构成的组中选出的交替层。
-
公开(公告)号：CN101978791A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200980109474.7
申请日：2009-03-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种靶材被配置成用于被构造且被布置以产生具有在6.8nm范围内的波长的辐射束的源中。靶材包括被配置以改变Gd的熔化温度的基于Gd的合成物，或Tb，或被配置以减小Tb的熔化温度的基于Tb的合成物。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.027 seconds)
