公开(公告)号：CN105359038A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201480034718.0

申请日：2014-06-17

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： A·尼基佩洛维 ,  O·弗里吉恩斯 ,  G·德弗里斯 ,  E·鲁普斯特拉 ,  V·巴尼内 ,  P·德加格 ,  R·唐克 ,  H-K·尼恩海斯 ,  B·克瑞金加 ,  W·恩格伦 ,  O·鲁伊藤 ,  J·艾科曼斯 ,  L·格里敏克 ,  V·里特维南科

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G01J1/0407 ,  G01J1/0418 ,  G01J1/26 ,  G01J1/429 ,  G02B1/06 ,  G02B5/205 ,  G02B26/023 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/10 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0085 ,  H01S3/0903 ,  H05H7/04 ,  G03F7/2004

Abstract: 一种图案化光刻衬底的方法，该方法包括使用自由电子激光器(FEL)以产生EUV辐射并且输送EUV辐射至将EUV辐射投影至光刻衬底上的光刻设备(LA)，其中该方法进一步包括通过使用基于反馈的控制回路(CT)以监测自由电子激光器并相应地调整自由电子激光器的操作从而减少输送至光刻衬底的EUV辐射功率的波动。

公开(公告)号：CN105359038B

公开(公告)日：2018-08-10

申请号：CN201480034718.0

申请日：2014-06-17

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： A·尼基佩洛维 ,  O·弗里吉恩斯 ,  G·德弗里斯 ,  E·鲁普斯特拉 ,  V·巴尼内 ,  P·德加格 ,  R·唐克 ,  H-K·尼恩海斯 ,  B·克瑞金加 ,  W·恩格伦 ,  O·鲁伊藤 ,  J·艾科曼斯 ,  L·格里敏克 ,  V·里特维南科

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G01J1/0407 ,  G01J1/0418 ,  G01J1/26 ,  G01J1/429 ,  G02B1/06 ,  G02B5/205 ,  G02B26/023 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/10 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0085 ,  H01S3/0903 ,  H05H7/04

Abstract: 一种图案化光刻衬底的方法，该方法包括使用自由电子激光器(FEL)以产生EUV辐射并且输送EUV辐射至将EUV辐射投影至光刻衬底上的光刻设备(LA)，其中该方法进一步包括通过使用基于反馈的控制回路(CT)以监测自由电子激光器并相应地调整自由电子激光器的操作从而减少输送至光刻衬底的EUV辐射功率的波动。

公开(公告)号：CN104272192A

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201380022486.2

申请日：2013-05-06

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·玛尔德 ,  P·德加格

IPC: G03F7/20 ,  G02B6/00 ,  H01S5/14

CPC classification number: G03F7/70025 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704 ,  H01S3/109 ,  H01S5/141 ,  H01S5/183 ,  H01S5/423

Abstract: 一种改变多个辐射束的性质的组件，该组件包括多个波导，其被配置为引导多个辐射束更靠近在一起；和倍频器件，其被配置为接收由多个波导引导的多个辐射束并且生成频率为整数倍高的相应的多个辐射束。还描述了相应的光刻仪器、改变多个辐射束的性质的方法和器件制造方法。