公开(公告)号：TWI624736B

公开(公告)日：2018-05-21

申请号：TW106127718

申请日：2016-07-15

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 羅伯茲康納利 馬利亞 ,  ROPS,CORNELIUS MARIA ,  包曼維廉 振 ,  BOUMAN,WILLEM JAN ,  波列特喜爾多爾斯 威爾赫瑪斯 ,  POLET,THEODORUS WILHELMUS

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：TW201740221A

公开(公告)日：2017-11-16

申请号：TW106127718

申请日：2016-07-15

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 羅伯茲康納利 馬利亞 ,  ROPS,CORNELIUS MARIA ,  包曼維廉 振 ,  BOUMAN,WILLEM JAN ,  波列特喜爾多爾斯 威爾赫瑪斯 ,  POLET,THEODORUS WILHELMUS

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  H01L21/0274

Abstract: 本發明揭示一種微影裝置、一種搭配一浸潤微影裝置而使用之投影系統、一種用於一投影系統之最終透鏡元件、一種液體控制部件，及一種器件製造方法。在一個配置中，一種微影裝置包含一投影系統，其經組態以通過該投影系統將一經圖案化輻射光束投影至一基板之一目標部分上。一液體限制結構將一浸潤液體限制於該投影系統與該基板之間的一空間中。該投影系統包含：投影該經圖案化輻射光束所通過之一出射表面；及面向該液體限制結構之一另外表面。該另外表面具有相對於該浸潤液體之一第一靜態後退接觸角。該出射表面具有相對於該浸潤液體之一第二靜態後退接觸角。該第一靜態後退接觸角大於該第二靜態後退接觸角且小於65度。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种微影设备、一种搭配一浸润微影设备而使用之投影系统、一种用于一投影系统之最终透镜组件、一种液体控制部件，及一种器件制造方法。在一个配置中，一种微影设备包含一投影系统，其经组态以通过该投影系统将一经图案化辐射光束投影至一基板之一目标部分上。一液体限制结构将一浸润液体限制于该投影系统与该基板之间的一空间中。该投影系统包含：投影该经图案化辐射光束所通过之一出射表面；及面向该液体限制结构之一另外表面。该另外表面具有相对于该浸润液体之一第一静态后退接触角。该出射表面具有相对于该浸润液体之一第二静态后退接触角。该第一静态后退接触角大于该第二静态后退接触角且小于65度。