公开(公告)号：JP2009231832A

公开(公告)日：2009-10-08

申请号：JP2009060345

申请日：2009-03-13

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： KUIT JAN-JAAP ,  STAALS FRANK ,  VAN DER HOFF ALEXANDER HENDRIK

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G03F7/70533

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an additional technology for reducing and/or increasing a lens-heating action. SOLUTION: In the lithographic apparatus, a control system is provided so as to automatically reduce throughput of device manufacture when aberration of lens-heating exceeds a specific threshold value. Determination whether the aberration of lens-heating exceeds the threshold value, is obtained by, for example, prediction using a lens-heating model or measurement of a previously exposed substrate. Reduction of the throughput can be achieved by reducing beam power or duty-cycle of the apparatus. In a specific embodiment, time required for substrate transfer between exposed portions is increased. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供用于减少和/或增加镜片加热动作的附加技术。 解决方案：在光刻设备中，提供控制系统，以便在镜片加热的像差超过特定阈值时自动降低器件制造的吞吐量。 通过例如使用透镜加热模型的预测或先前曝光的基板的测量来确定透镜加热的像差是否超过阈值。 可以通过减小装置的光束功率或占空比来实现吞吐量的降低。 在具体实施例中，暴露部分之间的衬底转移所需的时间增加。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：NL1036668A1

公开(公告)日：2009-09-22

申请号：NL1036668

申请日：2009-03-05

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KUIT JAN-JAAP ,  STAALS FRANK ,  HOFF ALEX VAN DER

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：NL1035609A1

公开(公告)日：2008-11-13

申请号：NL1035609

申请日：2008-06-23

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KUIT JAN-JAAP ,  SNEIJDERS NIEK

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/027