公开(公告)号：KR20180006973A

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：KR20177036104

申请日：2016-05-27

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： SCHMITT WEAVER EMIL PETER ,  STAECKER JENS ,  SCHREEL KOENRAAD REMI ANDRE MARIA ,  WERKMAN ROY

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70633 ,  G03F7/705

Abstract: 제 1 기판(2002)은리소그래피장치에의해복수의제 1 필드(2004)에가해지는교정패턴을갖는다. 추가기판(2006, 2010)은복수의추가필드(2008, 2012)에가해지는교정패턴을갖는다. 복수의다른필드는다른크기및/또는형상및/또는위치를갖는다. 교정측정은패터닝된기판(2002, 2006, 2010)에대해수행되고, 다음기판에제품패턴을가할때 장치를제어하는데에사용되는교정을얻기위해사용된다. 2개이상의다른치수를갖는필드(2004, 2008, 2012)에서장치의성능을나타내는측정데이p타는데이타베이스(2013)에함께수집되고, 새로운크기에대해장치를교정하는데에필요한정보를합성하기위해사용된다. 교정데이타는다른스캔및 스텝방향에대해서도얻어진다.

Abstract translation: 第一衬底2002具有通过光刻设备应用于多个第一场2004的校准图案。 其他基板2006和2010的校准模式应用于垃圾数量的附加字段2008和2012。 多个不同的区域具有不同的尺寸和/或形状和/或位置。 在图案化衬底2002,2006,2010上执行校准测量并且用于在将产品图案施加到下一个衬底时获得用于控制装置的校准。 具有不同尺寸的字段的至少两个（2004，2008，2012）被一起收集在测量代表该装置的性能数据p乘坐一个数据库（2013），为了合成他们需要的设备校准到新的尺寸的信息 被使用。 校准数据也可以获得不同的扫描和步进方向。