公开(公告)号：KR20100089792A

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：KR20100010162

申请日：2010-02-03

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： WUISTER SANDER FREDERIK ,  DIJKSMAN JOHAN FREDERIK ,  KRUIJT STEGEMAN YVONNE WENDELA ,  LAMMERS JEROEN HERMAN ,  VAN DER TEMPEL LEENDERT

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  B29C59/022

Abstract: PURPOSE: An imprint lithography method and an apparatus thereof are provided to prevent a defect formed on an imprint medium by adding surfactant to an imprint template. CONSTITUTION: A planarization layer and a transfer layer are formed on a substrate. An UV- hardened resin(10) is formed on the planarization layer and the transfer layer. A quartz template(12) is formed on the UV- hardened resin. The UV- hardened resin is hardened by UV radiation(14). The quartz template and the UV- hardened resin are separated from each other.

Abstract translation: 目的：提供压印光刻方法及其装置，以通过将表面活性剂添加到压印模板来防止在压印介质上形成的缺陷。 构成：在基板上形成平坦化层和转印层。 在平坦化层和转印层上形成UV-硬化树脂（10）。 在UV硬化树脂上形成石英模板（12）。 紫外线硬化树脂通过紫外线辐射（14）硬化。 石英模板和UV硬化树脂彼此分离。

公开(公告)号：JP2014090208A

公开(公告)日：2014-05-15

申请号：JP2014004234

申请日：2014-01-14

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. ,  Koninklijke Philips Nv ,  コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ

Inventor： VAN DER TEMPEL LEENDERT ,  JOHAN DIJKSMAN ,  WUISTER SANDER ,  KRUIJT-STEGEMAN YVONNE ,  JEROEN LAMMERS ,  CORNLIS MUTSAERS

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method etc. for increasing speed of release or dissolution/diffusion of an accumulated gas in imprint lithography.SOLUTION: An imprint template 16 comprises a substantially non-porous solid layer 20 of solid quartz, and a porous solid medium layer 21 in the form of a nanoporous silica layer. Thereby, a void space is provided by the solid porous medium layer, and an accumulated gas flows or diffuses into the void space in the porous layer.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于增加压印光刻中的积聚气体的释放或溶解/扩散速度的方法。解决方案：压印模板16包括固体石英的基本上无孔的固体层20和多孔 固体介质层21为纳米多孔二氧化硅层。 由此，由固体多孔介质层提供空隙空间，并且积聚的气体流入或扩散到多孔层中的空隙空间中。

公开(公告)号：JP2010183076A

公开(公告)日：2010-08-19

申请号：JP2010016186

申请日：2010-01-28

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： WUISTER SANDER FREDERIK ,  DIJKSMAN JOHAN FREDERIK ,  KRUIJT-STEGEMAN YVONNE WENDELA ,  LAMMERS JEROEN HERMAN ,  VAN DER TEMPEL LEENDERT

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the throughput of an imprint lithography process. SOLUTION: A imprint lithography method includes: a step of imprinting a pattern to an imprintable medium by using an imprint template so as to imprint the pattern to a ceratin area of a substrate provided with a plurality of drops of the imprintable medium with a first configuration; and a step of imprinting a pattern to an imprintable medium by using the same imprint template so as to imprint the pattern to a certain area of a substrate provided with a plurality of drops of the imprintable medium with a second configuration, wherein the first configuration of drops of the imprintable medium is different from the second configuration of drops of the imprintable medium. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提高压印光刻工艺的生产量。 压印光刻方法包括：通过使用压印模板将图案压印到可压印介质上的步骤，以将图案印刷到设置有多个可压印介质的液滴的基板区域， 第一种配置; 以及通过使用相同的印模模板将图案压印到可压印介质的步骤，以便将图案印刷到具有第二配置的设置有多个可压印介质的液滴的基板的特定区域，其中第一配置 可压印介质的液滴与可压印介质的液滴的第二配置不同。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：WO2010063504A2

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：PCT/EP2009062963

申请日：2009-10-06

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  KONINK PHILIPS ELECTRONICS B V ,  VAN DER TEMPEL LEENDERT ,  DIJKSMAN JOHAN ,  WUISTER SANDER ,  KRUIJT-STEGEMAN YVONNE ,  LAMMERS JEROEN ,  MUTSAERS CORNELIS

Inventor： VAN DER TEMPEL LEENDERT ,  DIJKSMAN JOHAN ,  WUISTER SANDER ,  KRUIJT-STEGEMAN YVONNE ,  LAMMERS JEROEN ,  MUTSAERS CORNELIS

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: A method of imprint lithography involves the use of a void space in the substrate or imprint template. A gas pocket trapped between an imprint template and an imprintable, flowable medium on the substrate may lead to an irregularity once the imprintable medium has set. A void space allows the gas pocket to dissipate by flow or diffusion of gas into the void space, typically prior to setting the imprintable medium. A layer of solid porous medium as part of the imprint template, for instance as a layer forming or neighbouring the patterning surface of the template, may provide the void space. The void space of the porous layer acts as a void space into which the trapped gas can flow or diffuse. The substrate to be patterned may include a porous layer for the same purpose. A suitable solid porous medium includes a nanoporous silica.

Abstract translation: 压印光刻的方法涉及在基板或压印模板中使用空隙空间。 一旦可压印介质凝固，被俘获在压印模板和衬底上的可压印的可流动介质之间的气袋可能导致不规则。 通常在设置可压印介质之前，空隙空间允许气穴通过气流或空气扩散进入空隙空间而消散。 作为压印模板的一部分的一层固体多孔介质，例如作为形成或邻近模板的图案化表面的层，可以提供空隙空间。 多孔层的空隙空间充当被捕获的气体可以流入或扩散到其中的空隙空间。 出于相同的目的，待图案化的衬底可以包括多孔层。 合适的固体多孔介质包括纳米多孔二氧化硅。