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发明专利
Reactor y proceso para preparar de manera continua h2s a partir de h2 y s, que comprende un dispositivo de distribucion para distribuir h2 gaseoso en una fundicion de s, y que esta compuesto por una placa de distribucion que posee un borde, y donde el h2 se distribuye a partir de una burbuja que se forma bajo la placa 未知

公开(公告)号：CL2008000131A1

公开(公告)日：2009-01-23

申请号：CL2008000131

申请日：2008-01-16

Applicant: BASF AG

Inventor： DR JACHOW HARALD , DR WÖLFERT ANDREAS , DRIEB HEINZ

IPC: B01J10/00 , B01J8/00 , B01J8/02 , B01J8/06 , B01J19/00 , C01B17/00 , C01B17/16 , C01B17/20

Abstract: LA PRESENTE INVENCION DESCRIBE UN REACTOR (1) PARA PREPARAR DE MANERA CONTINUA SULFURO DE HIDROGENO H2S A PARTIR DE HIDROGENO Y AZUFRE, QUE COMPRENDE UN DISPOSITIVO DE DSITRIBUCION (15) PARA DITRIBUIR HIDROGENO GASEOSO EN UNA FUNDICION DE AZUFRE (9) PRESENTE AL MENOS DE UNA PARTE INFERIOR DEL REACTOR. EL DISPOSITIVO DE DISTRIBUCION (15) ESTA COLOCADO EN LA FUNDICION DE AZUFRE (9) Y COMPRENDE UNA PLACA DE DISTRIBUCION (16) COLOCADA EN EL REACTOR (1) Y POSEE UN BORDE (17) QUE SE EXTIENDE HACIA ABAJO Y, DE SER APROPIADO, POSEE ORIFICIOS DE PASO (19). EL HIDROGENO DE UNA BURBUJA DE HIDROGENO QUE SE FORMA DEBAJO DE LA PLACA DE DISTRIBUCION (16) ES (POR EJEMPLO, A TRAVES DE LOS ORIFICIOS DE PASO (19)) DISTRIBUIDO EN LA FUNDICION DE AZUFRE (9) A TRAVES DE LA PLACA DE DISTRIBUCION (16).