-
公开(公告)号:RU2603675C2
公开(公告)日:2016-11-27
申请号:RU2012157535
申请日:2011-05-31
Applicant: BASF SE
Inventor: ZIMER MIKHAEL , REGER-GEPFERT KORNELIA , MAJER NIKOL , RETER ROMAN BENEDIKT , ARNOLD MARKO , EMNET SHARLOTTE , MAJER DITER , FLJUGEL ALEKSANDER
Abstract: Изобретениеотноситсяк композициямдляэлектролитическогоосаждениямединаподложкахв электронныхустройствах. Композициясодержитисточникионовмедии поменьшеймереоднудобавкулинейногоилиразветвленногополимерногосоединенияимидазолияформулы (L1), где R, R, R- водород, R- двухвалентныйзамещенныйилинезамещенныйС-Салкандиил, n - целоечислоот 2 до 6000. Использованиеуказаннойдобавки (L1) вэлектролитическихваннахдляосаждениямедиобеспечиваетповышеннуюэффективностьвыравниванияслоямедис достижениемпосуществуплоскогослоямедии заполненияэлементовповерхностинанометровогои микрометровогомасштабабезформированиядефектов, такихкакпустоты. 3 н. и 11 з.п. ф-лы, 16 ил., 10 пр.
-
公开(公告)号:RU2585184C2
公开(公告)日:2016-05-27
申请号:RU2012126604
申请日:2010-11-22
Applicant: BASF SE
Inventor: REGER-GEPFERT KORNELIA , RETER ROMAN BENEDIKT , MAJER DITER , EMNET SHARLOTTE , ARNOLD MARKO
Abstract: Изобретениеотноситсяк композициямдляэлектролитическогоосаждениямединаполупроводниковуюподложку. Композициясодержитисточникметаллическихионови поменьшеймереоднудобавку, содержащуюпоменьшеймереодинполиаминоамидформулы I илипроизводныеполиаминоамидаформулы I, получаемыепутемполногоиличастичногопротонирования, N-кватернизацииилиацилирования. Изобретениеобеспечиваетпосуществуплоскийслоймедии заполнениеэлементовповерхностинанометровогои микрометровогомасштабапосуществубезобразованиядефектов, вчастностипустотприприменениис электролитическойваннойдлянанесенияметаллическогопокрытия, вчастностис электролитическойваннойдлянанесениямедногопокрытия. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 8 ил., 1 табл., 14 пр.
-