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    AQUEOUS ALKALINE ETCHING AND CLEANING COMPOSITION AND METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES
    1.
    发明专利
    AQUEOUS ALKALINE ETCHING AND CLEANING COMPOSITION AND METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES 未知

    公开(公告)号：SG186108A1

    公开(公告)日：2013-01-30

    申请号：SG2012087946

    申请日：2011-06-01

    Applicant: BASF SE

    Inventor： FERSTL BERTHOLD ,  BRAUN SIMON ,  FESENBECKER ACHIM

    Abstract: An aqueous alkaline etching and cleaning composition for treating the surface of silicon substrates, the said composition comprising: (A) a quaternary ammonium hydroxide; and (B) a component selected from the group consisting of water-soluble acids and their water-soluble salts of the general formulas (I) to (V): (R1-S03-)nXn+ (I), R-P032- (Xn+)3-n (II); (RO-S03-)nXn+ (III), RO-P032- (Xn+)3-n, (IV), and [(RO)2P02-] nXn+ (V); wherein the n = 1 or 2; X is hydrogen or alkaline or alkaline-earth metal; the variable R1 is an olefinically unsaturated aliphatic or cycloaliphatic moiety and R is R1 or an alkylaryl moiety; the use of the composition for treating silicon substrates, a method for treating the surface of silicon substrates, and methods for manufacturing devices generating electricity upon the exposure to electromagnetic radiation.

    Composición acuosa alcalina de grabado y de limpieza y procedimiento de tratamiento de la superficie de sustratos de silicio
    2.
    发明专利
    Composición acuosa alcalina de grabado y de limpieza y procedimiento de tratamiento de la superficie de sustratos de silicio 未知

    公开(公告)号：ES2699223T3

    公开(公告)日：2019-02-08

    申请号：ES11792023

    申请日：2011-06-01

    Applicant: BASF SE

    Inventor： FERSTL BERTHOLD ,  BRAUN SIMON ,  FESSENBECKER ACHIM

    IPC: C11D7/34 ,  C11D7/32 ,  C11D7/36 ,  C11D11/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/461 ,  H01L31/18

    Abstract: Una composición acuosa alcalina de grabado y de limpieza que comprende: (A) al menos un hidróxido de amonio cuaternario; preferiblemente seleccionado del grupo que consiste en hidróxido de tetrametilamonio e hidróxido de tetraetilamonio; y (B) al menos un componente seleccionado del grupo que consiste en (b1) ácidos sulfónicos solubles en agua y sus sales solubles en agua de fórmula general I: (R1-SO3-)nXn+ (I), (b2) ácidos fosfónicos solubles en agua y sus sales solubles en agua de fórmula general II: R-PO32-(Xn+)3-n (II), (b3) ésteres de ácido sulfúrico solubles en agua y sus sales solubles en agua de fórmula general III: (RO-SO3-)nXn+ (III), (b4) ésteres de ácido fosfórico solubles en agua y sus sales solubles en agua de fórmula general (IV): RO-PO32-(Xn+)3-n (IV), y (b5) ésteres de ácido fosfórico solubles en agua y sus sales solubles en agua de fórmula general (V): [(RO)2PO2 -]nXn+ (V); en las que el índice n = 1 o 2; la variable X se selecciona del grupo que consiste en hidrógeno, metal alcalino y metal alcalinotérreo; la variable R1 se selecciona del grupo que consiste en restos alifáticos que tienen de 2 a 5 átomos de carbono y al menos un doble enlace olefínicamente insaturado, y restos cicloalifáticos que tienen de 4 a 6 átomos de carbono y al menos un doble enlace olefínicamente insaturado; preferiblemente, por lo que R1 se selecciona de vinilo, prop-1-en-1-ilo, prop-2-en-1-ilo (alilo) y alfa-metil-vinilo; y la variable R se selecciona del grupo que consiste en restos alifáticos que tienen 2 a 5 átomos de carbono y al menos un doble enlace olefínicamente insaturado, restos cicloalifáticos que tienen 4 a 6 átomos de carbono y al menos un doble enlace olefínicamente insaturado, y restos alquilarilo, en los que los restos arilo se seleccionan de benceno y naftaleno, los restos alquilo se seleccionan de metileno, etano-diilo y propano-diilo, y R se selecciona preferiblemente de vinilo, prop-1-en-1-ilo, prop-2-en-1-ilo (alilo), alfa-metil-vinilo y bencilo; y el átomo de fósforo en la fórmula general II está unido directamente y el átomo de azufre en la fórmula general III y el átomo de fósforo en las fórmulas generales IV y V están unidos cada uno a través de un átomo de oxígeno a un átomo de carbono alifático; preferiblemente, por lo que la composición se caracteriza porque su pH es de 8 a 13.

    AQUEOUS ALKALINE COMPOSITIONS AND METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES
    3.
    发明专利
    AQUEOUS ALKALINE COMPOSITIONS AND METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES 未知

    公开(公告)号：MY167595A

    公开(公告)日：2018-09-20

    申请号：MYPI2013004626

    申请日：2012-07-12

    Applicant: BASF SE

    Inventor： FERSTL BERTHOLD

    IPC: C09G1/04 ,  C09K3/14 ,  C11D3/00 ,  C11D7/06 ,  C11D7/26 ,  C11D11/00 ,  H01L31/18

    Abstract: AQUEOUS ALKALINE COMPOSITIONS AND METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES AN AQUEOUS ALKALINE COMPOSITION FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES, THE SAID COMPOSITION COMPRISING: (A) A QUATERNARY AMMONIUM HYDROXIDE; AND (B) A COMPONENT SELECTED FROM THE GROUP CONSISTING OF WATER-SOLUBLE ACIDS AND THEIR WATER-SOLUBLE SALTS OF THE GENERAL FORMULAS (I) TO (V): WHEREIN THE N = 1 OR 2; X IS HYDROGEN, AMMONIUM, OR ALKALINE OR ALKALINE- EARTH METAL; THE VARIABLE R1 IS AN OLEFINICALLY UNSATURATED ALIPHATIC OR CYCLOALIPHATIC MOIETY AND R IS R1 OR AN ALKYLARYL MOIETY; AND (C) A BUFFER SYSTEM, WHEREIN AT LEAST ONE COMPONENT OTHER THAN WATER IS VOLATILE; THE USE OF THE COMPOSITION FOR TREATING SILICON SUBSTRATES, A METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES, AND METHODS FOR MANUFACTURING DEVICES GENERATING ELECTRICITY UPON THE EXPOSURE TO ELECTROMAGNETIC RADIATION.

    Composiciones alcalinas acuosas y procedimiento de tratamiento de la superficie de sustratos de silicio
    5.
    发明专利
    Composiciones alcalinas acuosas y procedimiento de tratamiento de la superficie de sustratos de silicio 未知

    公开(公告)号：ES2541222T3

    公开(公告)日：2015-07-16

    申请号：ES11176892

    申请日：2011-08-09

    Applicant: BASF SE

    Inventor： FERSTL BERTHOLD ,  BERTHOLD FERSTL

    IPC: C11D11/00 ,  C11D3/00 ,  C11D7/06 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  H01L21/02 ,  H01L31/18

    Abstract: Una composición alcalina acuosa que comprende: (A) al menos un hidróxido amónico cuaternario; (B) al menos un componente seleccionado del grupo que consiste en: (b1) ácidos sulfónicos hidrosolubles y sus sales hidrosolubles de la fórmula general I: (R1-SO3 -)nXn+ (I), (b2) ácidos fosfónicos hidrosolubles y sus sales hidrosolubles de la fórmula general II: R-PO3 2- (Xn+)3-n (II); (b3) ésteres de ácido sulfúrico hidrosolubles y sus sales hidrosolubles de la fórmula general III: (RO-SO3 -)n(n+ (III), (b4) ésteres de ácido fosfórico hidrosolubles y sus sales hidrosolubles de la fórmula general (IV): RO-PO3 2- (Xn+)3-n (IV), y (b5) ésteres de ácido fosfórico hidrosolubles y sus sales hidrosolubles de la fórmula general (V): [(RO)2PO2 -]nXn+ (V); en las que el índice n >= 1 o 2; la variable X es seleccionada del grupo que consiste en hidrógeno, amonio, metal alcalino y metal alcalino térreo; la variable R1 es seleccionada del grupo que consiste en restos alifáticos que tienen de 2 a 5 átomos de carbono y al menos un doble enlace olefínicamente insaturado, y restos cicloalifáticos que tienen de 4 a 6 átomos de carbono y al menos un doble enlace insaturado olefínicamente; y la variable R es seleccionada del grupo que consiste en restos alifáticos que tienen de 2 a 5 átomos de carbono y al menos un doble enlace olefínicamente insaturado, restos cicloalifáticos que tienen de 4 a 6 átomos de carbono y al menos un doble enlace olefínicamente insaturado, y restos de alquilarilo, en el que los restos arilo son seleccionados de benceno y naftaleno, los restos alquilo son seleccionados de metileno, etano-diílo y propano-diílo, y el átomo de fósforo en la fórmula general II está unido directamente y el átomo de azufre en la fórmula general III y el átomo de fósforo en las fórmulas generales IV y V están cada uno unidos a través de un átomo de oxígeno a un átomo de carbono alifático; y (C) un sistema tampón, en el que al menos un componente distinto de agua es volátil.

    AQUEOUS ALKALINE COMPOSITIONS AND METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES
    7.
    发明专利
    AQUEOUS ALKALINE COMPOSITIONS AND METHOD FOR TREATING THE SURFACE OF SILICON SUBSTRATES 未知

    公开(公告)号：IN877CHN2014A

    公开(公告)日：2015-04-03

    申请号：IN877CHN2014

    申请日：2014-02-03

    Applicant: BASF SE

    Inventor： FERSTL BERTHOLD

    IPC: C09G1/04 ,  C09K3/14

    Abstract: 1333 n3n3 n22nn+An aqueous alkaline composition for treating the surface of silicon substrates the said composition comprising: (A) a quaternary ammonium hydroxide; and (B) a component selected from the group consisting of water soluble acids and their water soluble salts of the general formulas (I) to (V): (R S0 )nXn+ (I) R P02 (Xn+) (II); (RO S03 )nXn+ (III) RO P02 (X+) (IV) and [(RO)P0 ] X (V); wherein the n = 1 or 2; X is hydrogen ammonium or alkaline or alkaline earth metal; the variable R1 is an olefinically unsaturated aliphatic or cycloaliphatic moiety and R is R1 or an alkylaryl moiety; and (C) a buffer system wherein at least one component other than water is volatile; the use of the composition for treating silicon substrates a method for treating the surface of silicon substrates and methods for manufacturing devices generating electricity upon the exposure to electromagnetic radiation.

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