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    COPOLIMERO ANFOLITO A BASE DE MONOMEROS NITROGENADOS CUATERNIZADOS.
    3.
    发明专利
    COPOLIMERO ANFOLITO A BASE DE MONOMEROS NITROGENADOS CUATERNIZADOS. 未知

    公开(公告)号：ES2335324T3

    公开(公告)日：2010-03-24

    申请号：ES07820228

    申请日：2007-09-14

    Applicant: BASF SE

    Inventor： NGUYEN-KIM SON ,  JENTZSCH AXEL ,  BOUILLO NATHALIE

    IPC: C08F220/18 ,  A61K8/81 ,  C08F220/04 ,  C08F226/00

    Abstract: Copolímero anfolito A que tiene un exceso molar de grupos cationogénicos/catiónicos frente a los grupos anionogénicos/aniónicos y que puede obtenerse mediante polimerización por radicales a partir de a) al menos un monómero α,\beta-etilénicamente insaturados de la fórmula general I **(Ver fórmula)** en la cual R1 representa hidrógeno o alquilo de C1-C8, X1 representa O o NR3 y R3 representa hidrógeno, alquilo, cicloalquilo, arilo o hetarilo, R2 representa alquilo de C3-C5 ramificado, b) al menos un compuesto con un doble enlace insaturado α,\beta-etilénicamente, polimerizable por radicales y al menos un grupo cationogénico y/o catiónico por molécula, con la condición de que al menos una parte de los compuestos b) tenga al menos un átomo de nitrógeno cuaternario, c) al menos un compuesto con un doble enlace insaturado α,\beta-etilénicamente, polimerizable por radicales y al menos un grupo anionogénico y/o aniónico por molécula y d) opcionalmente al menos un monómero que contiene grupos amida que se selecciona entre compuestos que contienen grupos amida α,\beta-etilénicamente insaturados de la fórmula general II **(Ver fórmula)** donde uno de los residuos R4 hasta R6 representa un grupo de la fórmula CH2=CR7- con R7 = H o alquilo de C1-C4 y los residuos restantes R4 hasta R6 independientemente uno de otro representan H, alquilo, cicloalquilo, heterocicloalquilo, arilo o hetarilo, y R4 y R5 conjuntamente con el grupo amida al que están enlazados también pueden representar una lactama con 5 hasta 8 átomos de anillo; R5 y R6 conjuntamente con el átomo de nitrógeno al que están enlazados también pueden representar un heterociclo de cinco hasta siete miembros.

    4.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：AT449114T

    公开(公告)日：2009-12-15

    申请号：AT07820228

    申请日：2007-09-14

    Applicant: BASF SE

    Inventor： NGUYEN-KIM SON ,  JENTZSCH AXEL ,  BOUILLO NATHALIE

    IPC: C08F220/18 ,  A61K8/81 ,  C08F220/04 ,  C08F226/00

    Abstract: The present invention relates to an ampholytic copolymer based on quaternized nitrogen-containing monomers which has a molar excess of cationogenic/cationic groups compared to anionogenic/anionic groups, to cosmetic or pharmaceutical compositions which comprise at least one such ampholytic copolymer, and to further uses of these copolymers.

    5.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：DE502007002079D1

    公开(公告)日：2009-12-31

    申请号：DE502007002079

    申请日：2007-09-14

    Applicant: BASF SE

    Inventor： NGUYEN-KIM SON ,  JENTZSCH AXEL ,  BOUILLO NATHALIE

    IPC: C08F220/18 ,  A61K8/81 ,  C08F220/04 ,  C08F226/00

    Abstract: The present invention relates to an ampholytic copolymer based on quaternized nitrogen-containing monomers which has a molar excess of cationogenic/cationic groups compared to anionogenic/anionic groups, to cosmetic or pharmaceutical compositions which comprise at least one such ampholytic copolymer, and to further uses of these copolymers.

    Dermocosmetic preparations
    7.
    发明专利
    Dermocosmetic preparations 未知

    公开(公告)号：AU2006274133A1

    公开(公告)日：2007-02-01

    申请号：AU2006274133

    申请日：2006-07-14

    Applicant: BASF SE

    Inventor： WUNSCH THOMAS ,  WAGENBLAST GERHARD ,  JENTZSCH AXEL ,  HAREMZA SYLKE

    IPC: A61K8/49 ,  A61Q5/00 ,  A61Q19/00

    Abstract: The present invention relates to dermocosmetic compositions comprising a compound comprising the structural element of the formula I where the radical Z has the following meaning: H, C 1 -C 22 alkyl group, C 6 -C 10 -aryl group, C 1 -C 22 -alkoxy group or a C 6 -C 10 -O-aryl group substituted by a C 1 -C 22 -alkyl or C-C 22 -alkoxy group, and the radicals R 1 to R 6 , independently of one another, have the following meaning: H, C 1 -C 22 -alkyl group, C 6 -C 10 -aryl group, O, OH, C 1 -C 22 -alkoxy group or a C 6 -C 10 -O-aryl group substituted by a C 1 -C 22 -alkyl or C 1 -C 22 -alkoxy group, it being possible for R 5 and R 6 to be bridged in such a way that a five- to eight-membered ring is formed and, in the case of a five-membered ring, this ring may be part of an oligomer as a result of covalent bonds at positions 3 and 4. The invention furthermore relates to the use of said compounds in dermocosmetic formulations and the use of the dermocosmetics according to the invention for reducing skin or hair damage caused by free radicals. The invention furthermore relates to the use of the compounds according to the invention for increasing the stability of dermocosmetic formulations.

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