公开(公告)号：ES2352237T3

公开(公告)日：2011-02-16

申请号：ES01101423

申请日：2001-01-23

Applicant: BASF SE

Inventor： AUWETER HELMUT ,  WUNSCH THOMAS ,  HEGER ROBERT ,  ZWISSLER GEORG KONRAD ,  DAUSCH WILMA M

IPC: A61K8/49 ,  A61K8/04 ,  A61Q1/02 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00

Abstract: Dispersiones acuosas de substancias orgánicas, difícilmente solubles en agua o insolubles en agua, filtrantes de los UV, caracterizadas porque contienen, al menos, una substancia orgánica, difícilmente soluble en agua o insoluble en agua, filtrante de los UV a modo de fase en dispersión coloidal en forma amorfa o parcialmente amorfa, porque puede ser obtenida por a) la preparación de una solución en dispersión molecular de, al menos, una substancia orgánica, difícilmente soluble en agua o insoluble en agua, 10 filtrante de los UV, en un disolvente orgánico, b) la combinación de esta solución con una solución acuosa de, al menos, un coloide protector, estando constituida la fase hidrófuga de la substancia filtrante de los UV como fase en dispersión coloidal y c) la liberación de la dispersión, obtenida de este modo, del disolvente orgánico; 15 siendo la substancia orgánica, al menos única, difícilmente soluble en agua o insoluble en agua, filtrante de los UV, un derivado de 1,3,5-triazina de la fórmula I, **(Ver fórmula)**en la que los substituyentes tienen, de manera independiente entre sí, el significado siguiente: 20 R significa hidrógeno, halógeno, OH, alquilo con 1 hasta 20 átomos de carbono, alcoxi con 1 hasta 20 átomos de carbono, alcoxialquilo con 1 hasta 20 átomos de carbono, hidroxialcoxi con 1 hasta 20 átomos de carbono, NR1R2, o un resto de la fórmula Ia **(Ver fórmula)**R1 y R2 significan hidrógeno, alquilo con 1 hasta 20 átomos de carbono, arilo - 51 con 6 hasta 12 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, aralquilo con 7 hasta 10 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, heteroarilo substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, cicloalquilo con 5 hasta 8 átomos de carbono; R3 hasta R5 significan hidrógeno, OH, NR9R10, alcoxi con 1 hasta 20 átomos de carbono, arilo con 6 hasta 12 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, aralquilo con 7 hasta 10 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, heteroarilo substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, cicloalquilo con 5 hasta 8 átomos de carbono; R6 hasta R8 significan hidrógeno, alcoxi con 1 hasta 20 átomos de carbono, -C(=O)-R11,-C(=O)-X-R12, SO2R13, CN; R9 hasta R11 significan hidrógeno, alquilo con 1 hasta 20 átomos de carbono, arilo con 6 hasta 12 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, aralquilo con 7 hasta 10 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, heteroarilo substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, cicloalquilo con 5 hasta 8 átomos de carbono; R12 significa hidrógeno, alquilo con 1 hasta 20 átomos de carbono, arilo con 6 hasta 12 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, aralquilo con 7 hasta 10 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, heteroarilo substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, cicloalquilo con 5 hasta 8 átomos de carbono o un resto de la fórmula Sp-Sil; R13 significa alquilo con 1 hasta 20 átomos de carbono, cicloalquilo con 5 orgánica, difícilmente soluble en agua o insoluble en agua, filtrante de los UV a modo de partículas a escala nanométrica con un tamaño medio de partícula situado en el intervalo comprendido entre 0,01 y 2 µm en forma amorfa o parcialmente amorfa. - 52 hasta 8 átomos de carbono, arilo con 6 hasta 12 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, aralquilo con 7 hasta 10 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, heteroarilo substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono; X significa O, NR14; R14 significa hidrógeno, alquilo con 1 hasta 20 átomos de carbono, arilo con 6 hasta 12 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, aralquilo con 7 hasta 10 átomos de carbono substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, heteroarilo substituido, en caso dado, con uno o con varios alquilo con 1 hasta 4 átomos de carbono, cicloalquilo con 5 hasta 8 átomos de carbono; Sp significa espaciador; Sil significa un resto procedente del grupo constituido por silanos, oligosiloxanos y polisiloxanos.

公开(公告)号：AU2006274133A1

公开(公告)日：2007-02-01

申请号：AU2006274133

申请日：2006-07-14

Applicant: BASF SE

Inventor： WUNSCH THOMAS ,  WAGENBLAST GERHARD ,  JENTZSCH AXEL ,  HAREMZA SYLKE

IPC: A61K8/49 ,  A61Q5/00 ,  A61Q19/00

Abstract: The present invention relates to dermocosmetic compositions comprising a compound comprising the structural element of the formula I where the radical Z has the following meaning: H, C 1 -C 22 alkyl group, C 6 -C 10 -aryl group, C 1 -C 22 -alkoxy group or a C 6 -C 10 -O-aryl group substituted by a C 1 -C 22 -alkyl or C-C 22 -alkoxy group, and the radicals R 1 to R 6 , independently of one another, have the following meaning: H, C 1 -C 22 -alkyl group, C 6 -C 10 -aryl group, O, OH, C 1 -C 22 -alkoxy group or a C 6 -C 10 -O-aryl group substituted by a C 1 -C 22 -alkyl or C 1 -C 22 -alkoxy group, it being possible for R 5 and R 6 to be bridged in such a way that a five- to eight-membered ring is formed and, in the case of a five-membered ring, this ring may be part of an oligomer as a result of covalent bonds at positions 3 and 4. The invention furthermore relates to the use of said compounds in dermocosmetic formulations and the use of the dermocosmetics according to the invention for reducing skin or hair damage caused by free radicals. The invention furthermore relates to the use of the compounds according to the invention for increasing the stability of dermocosmetic formulations.