公开(公告)号：SA516370822B1

公开(公告)日：2019-03-19

申请号：SA516370822

申请日：2016-03-27

Applicant: BASF SE

Inventor： ANDREWS STEPHEN ,  THOMPSON THOMAS ,  ZAFAR MOHAMMAD ,  ZUO FENG ,  CHEN ZHISHENG ,  FAY JOSEPH ,  KING ROSWELL

Abstract: تركيباتبوليأولفين Polyolefin compositions مفيدةلعناصربناءللاستخدامالخارجي،مثلاالألواحالمنزلية house siding،التكسية،قاعدةالمنزلأوالتسقيف. التركيباتتتضمنركيزةبوليأولفين polyolefin substrate والتيتمفيهادمجواحدأوأكثرمنالموادالمضافةالمختارةمنالمجموعةالمكونةمنأ) واحدأوأكثرمنموادامتصاصالضوءفوقالبنفسجي ultraviolet light absorbers،ب) واحدأوأكثرمنمثبتاتضوءذاتأمين amine light stabilizers معاقةوج) واحدأوأكثرمنمضاداتالأكسدة antioxidants. بشكلمفيد،تمأيضافيركيزةالبوليأولفيندمجد) واحدأوأكثرمنموادالتلوين colorants،ه) واحدأوأكثرمنموادالملء fillers،و) واحدأوأكثرمنموادتأخيراللهب flame retardants واختيارياز) واحدأوأكثرمنالمركباتالمضادةللميكروبات antimicrobial compounds. تبينالتركيباتمستوياتأداءمعينةوفقاللاختباراتالمعيارية،مثلاقوةتصادمبمقدار > 35 بوصة-رطلحسب ASTM D4226،معاملتمددحراريخطيبمقدار

公开(公告)号：ES2390090T3

公开(公告)日：2012-11-06

申请号：ES06792495

申请日：2006-07-12

Applicant: BASF SE

Inventor： CHAFIN LAURA ,  AL-AKHDAR WALID ,  SHUM SAI PING ,  PADEGIMAS STANLEY ,  KING ROSWELL

IPC: C08K5/00

Abstract: Procedimiento para estabilizar una poliolefina frente a los efectos perjudiciales del procesamiento en estadofundido, el envejecimiento térmico y la exposición a los productos de combustión del gas natural,comprendiendo el procedimiento incorporar en o aplicar a dicha poliolefina una cantidad estabilizante eficazde un éster de fosfito de tris(mono-alquil)fenilo de fórmula Io una mezcla de ésteres de fosfito de fórmula I, en la que cada R es igual o diferente y es un alquilo decadena lineal o ramificada de desde 1 hasta 8 átomos de carbono, y en el que dicho éster de fosfito o dichamezcla de ésteres de fosfito está en estado líquido a 25ºC y 1 atm de presión.

公开(公告)号：ES2814128T3

公开(公告)日：2021-03-26

申请号：ES16754441

申请日：2016-08-04

Applicant: BASF SE

Inventor： HOELZL WERNER ,  KING ROSWELL ,  PAUQUET JEAN-ROCH

IPC: C08K5/523 ,  C08K5/526 ,  C08K5/53 ,  C08K5/5317 ,  C08K5/5333

Abstract: Una composicion que comprende a) un material organico susceptible a la degradacion oxidativa, termica o inducida por la luz, y b) un compuesto de formula I-P, I-O o I-M **(Ver fórmula)** en la que YP, YO y YM son oxigeno o representan un enlace covalente; cuando YP, YO y YM son oxigeno, R1P representa una de las subformulas II-P, II-O o II-M **(Ver fórmula)** R1O representa una de las subformulas II-O o II-M, R1M representa la subformula II-M, o R1P junto con R2P, R1O junto con R2O y R1M junto con R2M representan una de las subformulas III, IV o V **(Ver fórmula)** R1P, R1O y R1M son alquilo C6-C10, que no esta sustituido o esta sustituido por alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halogeno o un fenilo, alquilo C1-C18, cicloalquilo C3-C16, aralquilo C7-C13, alquenilo C2-C18, alquilo C2-C30, que esta interrumpido por uno o mas atomos de oxigeno, o alquilo C2-C16, que esta interrumpido por un atomo de azufre, y R2P representa una de las subformulas II-P, II-O o II-M, R2O representa una de las subformulas II-O o II-M, R2M representa la subformula II-M, o R2P junto con R1P, R2O junto con R1O y R2M junto con R1M representan una de las subformulas III, IV o V, o R2P, R2O y R2M son alquilo C6-C10, que no esta sustituido o esta sustituido por alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halogeno o un fenilo, alquilo C1-C18, cicloalquilo C3-C16, aralquilo C7-C13, alquenilo C2-C18, alquilo C2-C30, que es interrumpido por uno o mas atomos de oxigeno, o alquilo C2-C16, que es interrumpido por un atomo de azufre; cuando YP, YO y YM representan un enlace covalente, R1P representa una de las subformulas II-P, II-O o II-M, R1O representa una de las subformulas II-O o II-M, R1M representa la subformula II-M, o R1P, R1O y R1M son alquilo C6-C10, que no esta sustituido o esta sustituido por alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halogeno o un fenilo, alquilo C1-C18, cicloalquilo C3-C16, aralquilo C7-C13, alquenilo C2-C18, alquilo C2-C30, que esta interrumpido por uno o mas atomos de oxigeno, o alquilo C2-C16, que esta interrumpido por un atomo de azufre, y R2P, R2O y R2M son alquilo C6-C10, que no esta sustituido o esta sustituido por alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halogeno o un fenilo; R4, R5, R6 y R7 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8, RP2, RP3, RP5 y RP6 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8, RO1, RO2, RO5 y RO6 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8, RM1, RM3, RM5 y RM6 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8, Ra1, Ra2, Ra3 y Ra4 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8, Rb1, Rb2, Rb3, Rb4, Rb5 y Rb6 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8, y Rc1, Rc2, Rc3 y Rc4 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8.

公开(公告)号：SG10201811398TA

公开(公告)日：2019-02-27

申请号：SG10201811398T

申请日：2015-06-25

Applicant: EXXONMOBIL CHEMICAL PATENTS INC ,  BASF SE

Inventor： PEHLERT GEORGE ,  ZHAO MOSHA ,  KING ROSWELL

IPC: B29C48/76 ,  B29C48/92

Abstract: HIGHMELT STRENGTH POLYPROPYLENE AND EXTRUSION PROCESS FOR PRESERVING MELT STRENGTH A method of melt blending a polypropylene and the melt blended polypropylene therefrom, comprising providing a base-polypropylene having a MFR of less than g/10 min and a molecular weight distribution (Mw/Mn) within the range from 5 to 16, and comprising hindered phenol and phosphorous-type antioxidants, and within the range from 5 ppm to 4000 ppm of an alkyl radical scavenger relative to the total weight of the components to form a melt blended polypropylene; melt blending the melt blended polypropylene at a temperature of at least 210°C; and isolating a melt blended, melt blended polypropylene. (FIG. 1) -37-

公开(公告)号：ES2693020T3

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：ES15704547

申请日：2015-02-13

Applicant: BASF SE

Inventor： HÖLZL WERNER ,  ROTZINGER BRUNO ,  SCHÖNING KAI-UWE ,  KING ROSWELL

IPC: C08K5/523 ,  C08K5/5393 ,  C08L23/00

Abstract: Una composición, que comprende a) un material orgánico susceptible a la degradación oxidativa, térmica o inducida por la luz, y b) un compuesto de fórmula I-P, I-O o I-M**Fórmula** en el que YP, YO y YM son oxígeno o representan un enlace covalente; cuando YP, YO y YM son oxígeno, R1P representa una de las subfórmulas II-P, II-O o II-M**Fórmula** R1O representa una de las subfórmulas II-O o II-M, R1M representa la subfórmula II-M, o R1P junto con R2P, R1O junto con R2O y R1M junto con R2M representan una de las subfórmulas III, IV o V**Fórmula** o R1P, R1O y R1M son arilo C6-C10, que no está sustituido o está sustituido con alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halógeno o un fenilo, alquilo C1-C18, cicloalquilo C3-C16, aralquilo C7-C13, alquenilo C2-C18, alquilo C2-C30, que está interrumpido por uno o más átomos de oxígeno, o alquilo C2-C16, que está interrumpido por un átomo de azufre, R2P representa una de las subfórmulas II-P, II-O o II-M, R2O representa una de las subfórmulas II-O o II-M, R2M representa la subfórmula II-M, o R2P junto con R1P, R2O junto con R1O y R2M junto con R1M representan una de las subfórmulas III, IV o V, o R2P, R2O y R2M son arilo C6-C10, que no está sustituido o está sustituido con alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halógeno o un fenilo, alquilo C1-C18, cicloalquilo C3-C16, aralquilo C7-C13, alquenilo C2-C18, alquilo C2-C30, que está interrumpido por uno o más átomos de oxígeno, o alquilo C2-C16, que está interrumpido por un átomo de azufre; cuando YP, YO y YM representan un enlace covalente, R1P representa una de las subfórmulas II-P, II-O o II-M, R1O representa una de las subfórmulas II-O o II-M, R1M representa la subfórmula II-M, o R1P, R1O y R1M son arilo C6-C10, que no está sustituido o está sustituido con alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halógeno o un fenilo, alquilo C1-C18, cicloalquilo C3-C16, aralquilo C7-C13, alquenilo C2-C18, alquilo C2-C30, que está interrumpido por uno o más átomos de oxígeno, o alquilo C2-C16, que está interrumpido por un átomo de azufre, R2P, R2O y R2M son arilo C6- C10, que no está sustituido o está sustituido con alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halógeno o un fenilo, o halógeno; R4, R5, R6 y R7 son independientemente uno del otro hidrógeno o alquilo C1-C8, RP2, RP3, RP5 y RP6 son independientemente uno del otro hidrógeno o alquilo C1-C8, RO1, RO2, RO5 y RO6 son independientemente uno del otro hidrógeno o alquilo C1-C8, RM1, RM3, RM5 y RM6 son independientemente uno del otro hidrógeno o alquilo C1-C8, Ra1, Ra2, Ra3 y Ra4 son independientemente uno del otro hidrógeno o alquilo C1-C8, Rb1, Rb2, Rb3, Rb4, Rb5 y Rb6 son independientemente uno del otro hidrógeno o alquilo C1-C8, y Rc1, Rc2, Rc3 y Rc4 son independientemente uno del otro hidrógeno o alquilo C1-C8.