公开(公告)号：RU2547259C2

公开(公告)日：2015-04-10

申请号：RU2011129439

申请日：2009-12-08

Applicant: BASF SE

Inventor： REGER-GEPFERT KORNELIJA ,  REHTER ROMAN BENEDIKT ,  EHBERT ZOFIJA ,  EHMNET SHARLOTTE ,  KHAAG ALEKSANDRA ,  MAJER DITER

IPC: C08G73/02 ,  C08L79/02 ,  C25D3/02 ,  C25D3/32 ,  C25D3/38 ,  C25D3/58 ,  H05K3/42

Abstract: Изобретениеотноситсяк композициидляэлектролитическогоосажденияметалла, применениюполиалканоламинаилиегопроизводных, атакжек способуосажденияслояметалла. Композициядляэлектролитическогоосажденияметалласодержитисточникионовметаллаи поменьшеймереодинвыравнивающийагент. Вкачествеионовметаллаиспользуютионмеди. Выравнивающийагентпредставляетсобойполиалканоламинилиегопроизводные, получаемыеалкоксилированием, замещениемлибоалкоксилированиеми замещениемполиалканоламина. Полиалканоламинполучаютконденсациейпоменьшеймереодноготриалканоламинаобщейформулы N(R-OH)(la) и/илипоменьшеймереодногодиалканоламинаобщейформулы R-N(R-OH)(lb), вкоторомрадикал Rнезависимовыбраниздвухвалентноголинейногоилиразветвленногоалифатическогоуглеводородногорадикала, имеющегоот 2 до 6 атомовуглерода, радикал Rвыбранизводорода, линейныхилиразветвленныхалифатических, циклоалифатическихи ароматическихуглеводородныхрадикалов, имеющихот 1 до 30 атомовуглерода. Полученныеполиалканоламинилиегопроизводныеприменяютв растворедляэлектролитическогоосажденияметалла. Способосажденияслояметалланаподложкузаключаетсяв том, чтовначалераствордляэлектролитическогоосажденияметалла, содержащийвышеуказаннуюкомпозицию, наносятнаподложку. Затемнаподложкуподаюттокопределеннойплотностив течениевремени, достаточногодляосажденияслояметалла. Изобретениепозволяетполучитьвыравнивающийагент, обладающийхорошимивыравнивающимисвойствами, атакжеполучитьплоскийслойметаллас образованиемровнойповерхности, заполнивэлементынанометро�