Procedimiento para la preparación de partículas sólidas orgánicas a nanoescala

    公开(公告)号:ES2525373T3

    公开(公告)日:2014-12-23

    申请号:ES09781680

    申请日:2009-08-11

    Applicant: BASF SE

    Abstract: Procedimiento para la preparación de partículas sólidas orgánicas a nanoescala - partiendo del sólido orgánico sublimable correspondiente como material en bruto, - en forma de partículas con un diámetro de partícula medio en el intervalo de 1 μm a 10 mm, - que se dispersan en un gas portador con obtención de una dispersión que contiene las partículas del sólido orgánico sublimable como fase dispersa en el gas portador como fase continua, - sublimándose las partículas sólidas de la dispersión con aporte de calor a una temperatura por debajo de la temperatura de descomposición en forma molecularmente dispersa con obtención de una corriente de gas portador saturada o subsaturada con el material en bruto en forma molecularmente dispersa - y suministrándose la corriente de gas portador que contiene el material en bruto en forma molecularmente dispersa a una tobera convergente, cuya sección transversal más estrecha está diseñada de tal manera que la corriente de gas portador que contiene el material en bruto en la tobera convergente se acelera a una velocidad en el intervalo de 340 m/s a 1020 m/s (Mach 1 a Mach 3) y a continuación se relaja a una cámara de expansión estirada longitudinalmente a través de una abertura de salida de la tobera convergente como chorro libre con obtención de una corriente de gas portador supersaturada, de la cual se desublima el producto, las partículas sólidas orgánicas a nanoescala, - estando la cámara de expansión dispuesta con simetría de rotación alrededor del eje longitudinal de la tobera convergente en prolongación de la tobera convergente y estando cerrada por todos los lados, a excepción de la abertura de salida de la tobera convergente en un extremo y una abertura de salida de producto en el otro extremo de la cámara de expansión, y presentando una proporción de longitud L a diámetro D en el intervalo de 15 a 20, - configurándose entre el chorro libre y la pared interna de la cámara de expansión un área de reflujo en la que la corriente de gas portador se desvía en dirección opuesta al chorro libre y vuelve a ser aspirada por el chorro libre, caracterizado por que en la pared de la cámara de expansión que comprende la abertura de salida de producto están previstas, con simetría de rotación alrededor del eje central de la cámara de expansión, aberturas a través de las cuales se inyecta una corriente de gas secundario que comprende un portador de gas y moléculas, iones o partículas a nanoescala, que son distintas del material en bruto, contenidas en su interior de forma molecularmente dispersa y que presentan un diámetro de partícula medio que es menor que el diámetro de partícula medio del producto.

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