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公开(公告)号：ES2745030T3
公开(公告)日：2020-02-27
申请号：ES16744414
申请日：2016-07-28
Applicant: BASF SE
Inventor： KNIESEL SIMON , KLOKE PHILIPP , SCHÖMER MARTINA , SATHYANARAYANA SHYAM SUNDAR
Abstract: Partículas de limpieza que comprenden una poliamida termoplástica y un material hidrófilo, que comprenden al menos un compuesto que tiene al menos un grupo hidrófilo colgante, al menos parte del cual se ubica dentro de la partícula de limpieza, teniendo dichas partículas de limpieza un tamaño de partícula promedio de desde 1 hasta 100 mm, en las que el material hidrófilo es o comprende un tensioactivo, un agente inhibidor de la transferencia de tinte, un adyuvante o un poliéter.
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公开(公告)号：UA124416C2
公开(公告)日：2021-09-15
申请号：UAA201801807
申请日：2016-07-28
Applicant: BASF SE
Inventor： KNIESEL SIMON , KLOKE PHILIPP , SCHÖMER MARTINA , SATHYANARAYANA SHYAM SUNDAR
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：AU2016298616B2
公开(公告)日：2020-04-30
申请号：AU2016298616
申请日：2016-07-28
Applicant: BASF SE
Inventor： KNIESEL SIMON , KLOKE PHILIPP , SCHÖMER MARTINA , SATHYANARAYANA SHYAM SUNDAR
IPC: C11D3/37
Abstract: This invention relates to cleaning particles, methods for their preparation, cleaning compositions and their use for laundry cleaning of soiled substrates.
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公开(公告)号：MX382278B
公开(公告)日：2025-03-13
申请号：MX2018001265
申请日：2018-01-29
Applicant: BASF SE
Inventor： SCHÖMER MARTINA , KLOKE PHILIPP , SATHYANARAYANA SHYAM SUNDAR , KNIESEL SIMON
IPC: C11D3/37
Abstract: La presente invención se refiere a partículas de limpieza, métodos para su preparación, composiciones de limpieza y su uso para limpieza de lavandería de sustratos con tierra.
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公开(公告)号：ZA201801211B
公开(公告)日：2019-06-26
申请号：ZA201801211
申请日：2018-02-22
Applicant: BASF SE
Inventor： KNIESEL SIMON , KLOKE PHILIPP , SCHÖMER MARTINA , SATHYANARAYANA SHYAM SUNDAR
Abstract: This invention relates to cleaning particles, methods for their preparation, cleaning compositions and their use for laundry cleaning of soiled substrates.
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公开(公告)号：BR112018001482B1
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：BR112018001482
申请日：2016-07-28
Applicant: BASF SE
Inventor： SCHÖMER MARTINA , KLOKE PHILIPP , SHYAM SUNDAR SATHYANARAYANA , KNIESEL SIMON
IPC: C11D3/37
Abstract: uso de pelo menos uma solução de celulose, partículas, método, composição de limpeza e uso. esta invenção refere-se a partículas de limpeza, métodos para a sua preparação, composições de limpeza e a seu uso para a limpeza de substratos sujos.
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公开(公告)号：PL3328979T3
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：PL16744414
申请日：2016-07-28
Applicant: BASF SE
Inventor： KNIESEL SIMON , KLOKE PHILIPP , SCHÖMER MARTINA , SATHYANARAYANA SHYAM SUNDAR
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