中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

3 records (took 0.019 seconds)

    MASAS DE RECUBRIMENTO DE BAJA INTENSIDAD.
    1.
    发明专利
    MASAS DE RECUBRIMENTO DE BAJA INTENSIDAD. 未知

    公开(公告)号：ES2344671T3

    公开(公告)日：2010-09-02

    申请号：ES07822351

    申请日：2007-11-08

    Applicant: BASF SE

    Inventor： LAFUENTE CERDA OSCAR ,  HEISCHKEL YVONNE ,  VETTER MICHAEL ,  SCHWALM REINHOLD ,  GRUBER NICK

    IPC: C09D201/02 ,  C09D4/00

    Abstract: Masas de recubrimiento, que pueden ser endurecidas por medio de irradiación, que contienen (A)al menos un compuesto con, al menos, dos grupos (met)acrilato, que se eligen entre el grupo constituido por el poliéster(met)acrilato, el poliéter(met)acrilato, el policarbonato(met)acrilato, el epóxido(met)acrilato y el uretano(met)acrilato, (B)en caso dado, al menos, un compuesto con, al menos, un grupo etilénicamente insaturado, que sea distinto de (A), (C)el éster de divinilo del ácido adípico, (D)en caso dado, al menos, un disolvente, (E)al menos un fotoiniciador y (F)en caso dado, otros componentes típicos de los esmaltes, caracterizadas porque la proporción del éster de divinilo del ácido adípico (C) con respecto a la suma de los componentes (A) + (B) + (C), que pueden ser endurecidos por medio de irradiación, supone, al menos, un 20% en peso, estando constituido el epóxido(met)acrilato por el producto de reacción del ácido (met)acrílico con diglicidiléter de bisfenol-A, con diglicidiléter de bisfenol-F, con diglicidiléter de 1,4-butanodiol, con diglicidiléter de 1,6-hexanodiol, con triglicidiléter de trimetilolpropano, con tetraglicidiléter de pentaeritrita, con 1,1,2,2-tetraquis[4-(2,3-epoxipropoxi)fenil]etano (CAS-Nr. [27043-37-4]), con diglicidiléter de polipropilenglicol (α,ω-bis(2,3-epoxipropoxi)poli(oxipropileno) (CAS-Nr. [16096-30-3]) o de bisfenol A hidrogenado (2,2-bis[4-(2,3-epoxipropoxi)ciclohexil]propano, CAS-Nr. [13410-58-7]).

Patent Agency Ranking