Abstract:
The invention relates to a process for manufacturing two photovoltaic cells (12, 14) connected in series, which process comprises: producing an insulating substrate (32); forming a multilayer comprising - a first conductive layer (30) formed on the substrate (30), a semiconductor layer (36) comprising a first absorbing layer (38) and a second semiconductor layer (40) forming a junction with the first absorbing layer (38), and a second transparent conductive layer (44) formed on the absorbing layer (36); and forming a region (78) that divides the multilayer into two cells (12, 14) connected in series by an electrical path. The formation of said path comprises: forming a first trench (70) down to the substrate (32); forming a second trench (72) down to the first conductive layer (30); and depositing a conductive solution (76) into the first trench (70) and at least into a portion of the second trench (72) such that the solution (76) that penetrates into the first trench (70) does not reach the first conductive layer (30) and the solution (76) that penetrates into the second trench (72) reaches the first conductive layer (30).
Abstract:
Thermal management system intended to be fitted between a hot source (SC) and a cold source (SF), comprising a first (2) and a second (4) conductor of heat, a thermal switch (6) able to connect thermally, or not connect, the first (2) and second (4) conductors of heat, said thermal switch (6) comprising at least one phase-change material (12), said material (12) being able to connect the first (2) and second (4) conductor by varying its volume, said thermal switch (6) comprising control means intended to supply heat energy to the phase-change material (12) in order to change the connection status. Connection is made when the hot source (SC) exceeds a critical temperature, connection allowing a heat flux to be established between the hot source (SC) and the cold source (SF).
Abstract:
The organic memory device is a dual-gate transistor which comprises, in series, a first gate electrode (4), a first gate dielectric (6), an organic semiconductor material (2), a second gate dielectric (7) and a second gate electrode (8). Source and drain electrodes (5) are arranged in the organic semiconductor material (2) and define an inter-electrode surface. An entrapment area (9) is arranged between the organic semiconductor material (2) and one of the gate electrodes (4, 8), and electrically contacts one of the gate electrodes (4, 8) or the organic semiconductor material (2). The entrapment area (9) is at least opposite the inter-electrode surface.
Abstract:
Polymère supramoléculaire multi-états La présente invention concerne un polymère supramoléculaire susceptible d’être obtenu par la réaction d’au moins un polymère téléchélique, dit « pré-polymère », formé d’un polyéther linéaire dont chacune des extrémités est fonctionnalisée par un groupe réactif, ledit pré-polymère présentant une masse molaire moyenne en nombre comprise entre 1700 et 2100 g.mol-1, avec au moins un groupe associatif fonctionnalisé par un groupe réactif susceptible de réagir avec les groupes réactifs du pré-polymère fonctionnalisé, ledit groupe associatif étant capable de former au moins trois liaisons hydrogène, de préférence au moins quatre liaisons hydrogène, préférentiellement quatre liaisons hydrogène. Elle concerne encore un matériau polymérique supramoléculaire à base d’au moins un tel polymère supramoléculaire, ainsi qu’un article formé en tout ou partie d’un tel matériau polymérique supramoléculaire. Figure pour l’abrégé : Fig.2
Abstract:
La présente invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une cellule photovoltaïque (100) à hétérojonction et à contacts en face arrière, le procédé comportant les étapes suivantes : - fournir un substrat (1) comprenant un matériau semi-conducteur cristallin ; - former un empilement (2) sur une face arrière (BS) du substrat, l'empilement comportant au moins une première couche semi-conductrice (21) comprenant un matériau semi-conducteur amorphe dopé d'un premier type de conductivité ; - déposer une couche (4) d'un copolymère à blocs sur l'empilement ; - assembler le copolymère à blocs ; - éliminer sélectivement une première phase (42) du copolymère à blocs assemblé, la couche de copolymère à blocs restante formant des motifs en creux (420) ; - transférer les motifs en creux de la couche de copolymère à blocs restante dans l'empilement jusqu'à atteindre la face arrière du substrat ; - déposer, sur la face arrière du substrat, une deuxième couche semi-conductrice (51) comprenant un matériau semi-conducteur amorphe dopé d'un deuxième type de conductivité opposé au premier type de conductivité, la deuxième couche semi-conductrice remplissant les motifs en creux transférés dans l'empilement.
Abstract:
Procédé de réalisation de transistors pour un circuit intégré 3D comprenant : a) former sur un niveau donné de transistors réalisés dans une première couche semi-conductrice : un empilement comprenant une première région d'une deuxième zone semi-conductrice adaptée pour accueillir un canal d'un transistor de type N et une deuxième région de la deuxième zone semi-conductrice adaptée pour accueillir un canal d'un transistor de type P d'un niveau supérieur au niveau donné, l'empilement comprenant en outre une couche (40) continue en matériau conducteur ou semi-conducteur dopé et appelée plan de masse, ainsi qu'une couche isolante entre la couche de plan de masse et la deuxième couche semi-conductrice, puis b) exposer à un laser (L) une ou plusieurs zones du circuit de sorte à effectuer au moins un recuit thermique, les zones exposées étant situées du côté d'une face supérieure de la couche continue de plan de masse, la couche continue de plan de masse étant configurée de sorte à protéger du laser une partie du circuit située du côté d'une face inférieure de la couche continue de plan de masse, puis c) effectuer une découpe de la couche (40) continue de plan de masse en au moins une première portion et au moins une deuxième portion disjointe de la première portion, la première portion étant configurée pour permettre de polariser la première région, la deuxième portion étant configurée pour permettre de polariser la deuxième région.
Abstract:
dispositivo de detecção de água autônomo que compreende uma fonte de hidrogênio a presente invenção refere-se a um dipositivo de detecção de água que compreende pelo menos uma pilha de combustível que compreende um primeiro eletrodo (2), uma camada de eletrólito (3) , um n segundo eletrodo (4) e um dispositivo de mediaçãon elétrico (5) caracterizado pelo fato de que o primeiro eletrodo da pilha está em contato com uma primeira face de um substrato feito de silício poroso (1) que compreende ligações si-h, de maneira a liberar um fluxo de hidrogênio em presença de água . vantajosamente , o substrato de silício poroso é integrado em uma primeira caixa (6) permeável à água , a pilha de combustível sendo integrada em uma segunda caixa (8) a dita segunda caixa sendo impermeável à água e permeável ao oxigênio.
Abstract:
L'invention concerne un procédé de fabrication d'un ensemble (50) de particules (4) liées par un substrat (38), comprenant les étapes successives suivantes : - réalisation d'un film compact de particules solides (4) flottant sur un liquide porteur (16), les particules solides maintenant éventuellement entre elles des objets (80) ; - projection de particules sur la face du film compact opposée à celle baignant dans le liquide porteur (16), de manière à créer une pellicule formant substrat (38) adhérant aux particules solides (4) ; et - extraction en dehors du liquide porteur (16) de l'ensemble (50) obtenu.